チェックしたものをまとめて:

  • CVD装置の製品画像ですカタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置の製品画像ですカタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • CVD合成ダイヤモンド

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...(つづきを見る

  • CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...(つづきを見る

  • カタログあり

    エッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付プロセスモニ…

    Qulee RGM-202/RGM-302は、Qulee シリーズのエッチング、CVD 等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。 【仕様】 ○...(つづきを見る

  • 質量ガス分析計の製品画像ですカタログあり

    半導体製造の真空プロセスを秒間隔でモニタリング 正確なデータ提供で製造…

    anspector XPR3: 2次電子増倍管を持つ差動排気不要のPVD専用機種 Transpector CPM2: クローズド・イオン・ソースによる以下の幅広い用途でのSub PPM測定 ■CVD, ETCHの反応性ガス測定 ■汚染物質の確認 ■プロセス成分とバックグラウンド成分の測定 ■低真空プロセス ■大気圧サンプリング 【その他、商品】 スキャニング・レーザー・パーテ...(つづきを見る

  • カタログあり

    科学技術を通じて、責任ある開発と本質を追求することを目指しています。

    ○分析機器事業部 →EDS、WDS、EBSD →電子顕微鏡用各種付属装置 ○アサイラム リサーチ事業部 →AFM/SPM(原子間力顕微鏡) ○半導体製造装置事業部 →プラズマエッチングCVD装置 →イオンビームエッチング/デポジション装置 →原子層堆積装置(ALD) ○インダストリアル・アナリシス事業部 →XRF(蛍光X線分析計) →OES(スパーク放電固体発光分光計) ...(つづきを見る

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