• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • CVD装置 製品画像

    CVD装置

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • 太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像

    太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置)

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • CVD合成ダイヤモンド 製品画像

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD合成ダイヤモンド

    CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...

    メーカー・取り扱い企業: プネウム株式会社 本社

  • CVDプロセスガス分析装置 MPQMS] 製品画像

    CVDプロセスガス分析装置 MPQMS]

    CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

    当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで 使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ

  • リアクティブプロセスガスモニタQulee RGM-202/302 製品画像

    リアクティブプロセスガスモニタQulee RGM-202/302

    エッチング、CVD等の反応性プロセスに対応した差動排気系付プロセスモニ…

    Qulee RGM-202/RGM-302は、Qulee シリーズのエッチング、CVD 等の反応性プロセスに対応した差動排気系付きプロセスモニタです。 アルバック独自のイオン源、排気系構造により、反応性のガスに対し耐蝕性に優れ、長時間安定した測定が可能です。 【仕様】 ○...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • プラズマモニタ 製品画像

    プラズマモニタ

    エッチング・スパッタ・CVD等プラズマモニタに好適!

    オーシャンオプティクス社製の小型分光器は、リアルタイムでチャンバ内の プラズマ発光スペクトルを取得するために多くのお客様から選ばれています。 これらの発光スペクトルから求めたプラズマ特性を監視し、 半導体製造におけるプラズマベースのプロセス制御等に好適です。 『プラズマモニタ』は、スタンダードモデルのFLAMEをはじめ、高分解能モデルの HR4000またはバッファリング対応UV高...

    メーカー・取り扱い企業: オーシャンフォトニクス株式会社

  • 【infiTOF】半導体プロセスガスモニタリングソリューション 製品画像

    【infiTOF】半導体プロセスガスモニタリングソリューション

    飛行時間型高分解能質量分析計で、プロセスガスのin-situモニタリン…

    半導体プロセスには結晶成長(エピタキシャル成長)、成膜(CVD,ALD)、 エッチング、クリーニングなど様々な工程があります。 また、これらのプロセスでは多種の原料ガスが使われております。 プロセスチャンバー内における反応生成物、分解物、残留成分...

    メーカー・取り扱い企業: カノマックスアナリティカル株式会社

  • 導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』 製品画像

    導電性薄膜作製装置『オスミウム・プラズマコーター』

    電子顕微鏡観察のお悩みを解決!チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽…

    『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます...

    メーカー・取り扱い企業: フィルジェン株式会社

  • 【用途別一覧表】ジルコニア式酸素濃度計『TBシリーズ』 製品画像

    【用途別一覧表】ジルコニア式酸素濃度計『TBシリーズ』

    デザインにより、非常に幅広い用途でご使用頂いています。

    ザインにより、高純度ガス中の微量酸素 から真空雰囲気、燃焼排ガス中の酸素測定まで非常に幅広い用途でご使用 頂いています。 【掲載用途(抜粋)】 ■高純度ガス、N2 PSA ■拡散炉、CVD 等 ■N2 リフロー炉、ディップ炉 ■不活性ガス、H2+N2 ■CO+H2 雰囲気 など ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 第一熱研株式会社

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