- 製品・サービス
5件 - メーカー・取り扱い企業
企業
60件 - カタログ
200件
-
-
PR素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
-
-
PRソーラーを接続するだけで使える蓄電システム!最大9.6kWhの蓄電池容…
単相3kW出力のパワコンと7.2kWhの蓄電池を内蔵した据置型のオフグリッド蓄電システムです。 4kWまでのソーラーパネルを接続可能。 配線はソーラーと出力部のみのため容易に設置可能。 【設置用途例】 ・山小屋 ・作業小屋 ・小規模店舗 ・小規模事務所 ・小規模工事現場 ・ユニットハウス ・トレーラーハウスなどに好適です。 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイキ
-
-
PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…
面形状・シミュレーション・モジュール(FPSM2D)』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能。 入射粒子情報(粒子フラックス、入射エネルギー・角度分布)はPEGASUS 気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの出力を...
メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社
-
-
初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能!基板、堆積膜の経時変化を…
膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です。 【特長】 ■粒子モンテカルロ法を用い、セル法により固体層占有率、表面被覆率を 考慮し形状を表現 ■ガス種、反応式、錯体、そして...
メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社
-
-
プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール(PIC-MCCM)
計算の精度が高い!装置内のプラズマ密度が、比較的低い場合のプラズマ解析…
『プラズマPICモンテカルロ衝突モジュール(PIC-MCCM)』は、プラズマ CVD装置、プラズマエッチング装置、スパッタリング装置、機能性薄膜の 製造装置といった装置内の、非平衡低温プラズマの挙動を解析ができる モジュールです。 装置内のプラズマ密度が、比較的低い(1...
メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社
-
-
半導体関連技術の開発/解析を支援する統合プラットフォーム【日本語
半導体および関連技術の開発/解析を高速・高精度で支援する統合プラットフ…
ます。 【製品の概要】 ■量子力学計算による半導体物性の予測と解析 ・電子物性 ・機械特性(弾性定数テンソル、体積弾性率) ・誘電特性 ・反応経路探索 ■半導体成膜プロセス(CVD, ALD, ALE)の最適化 ・量子力学計算と機械学習による新規前駆体の開発 ■古典分子動力学計算による半導体実装の最適化 ・樹脂封止材の架橋構造モデルの構築 ・ガラス転移温度の計...
メーカー・取り扱い企業: シュレーディンガー株式会社
-
-
最適条件の探索に!多次元表示チャートの活用事例をご紹介!
詳細化学反応解析プログラムCHEMKINと連成した、 エッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小)となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6濃度とエッチング速度はトレードオフの関係になる ことが明確とな...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社IDAJ
- 表示件数
- 45件
- < 前へ
- 1
- 次へ >
※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。