チェックしたものをまとめて:

  • 粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...(つづきを見る

  • リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...(つづきを見る

  • 長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...(つづきを見る

  • CVD装置用MFCパネルの製品画像ですカタログあり

    CVD装置用MFCパネル

    弊社の業務内容としては、 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や 特殊材料ガス配管工事などです。 【製品事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造・制作も行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタロ...(つづきを見る

  • ホットフィラメント(ホットワイヤー)を搭載したコンパクトな卓上型CVD

    試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種(ラジカル)が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...(つづきを見る

  • カタログあり

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 また供給ガスを変更することでSiOCの製膜も可能。 厚みは処理条件によりコントロール可能。 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、...(つづきを見る

  • カタログあり

    結晶太陽電池セル用量産装置を新たにリリースしました

    太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置「AMAX1000S」は、太陽電池(セル)製造用に開発されたハイスループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。拡散用ハードマスクやパッシベーション用のSiO2膜、固相拡散源...(つづきを見る

  • カタログあり

    素材に新たな機能を吹き込む真空メッキを解説した技術資料を進呈中!各種表…

    当技術資料では、東邦化研で行っている真空蒸着・イオンプレーティング・スパッタリング・プラズマCVDを用いた各種表面処理薄膜コーティング法を掲載しています。 【掲載内容】 ■真空蒸着法 ■イオンプレーティング法 ■スパッタリング法 ■プラズマCVD法 ■各種成膜法の特徴 ほか ...(つづきを見る

  • 長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

    有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。...【特徴】 ○触媒前駆体のフィラメント加熱機構を追加 ○配向CNTだけでなく、 粉末タイプCNTの大量合成も可能 〇基板や粉体表面へのグラフェンの成膜が可能 ●そ...(つづきを見る

  • カタログあり

    Nextrom社は光ファイバ及びケーブル製造装置の専門メーカーです。

    置)では、フィンランドに生産拠点を持つ光ファイバ及びケーブル製造装置のトップクラスの専門メーカーNextrom社の装置をご紹介します。「OFC12母材製造装置」Nextrom社は1985年以来、MCVD法(内付気相堆積法)による光ファイバ母材製造装置を供給しています。「OFC20光ファイバ線引装置」ネクストロムの光ファイバ紡糸タワーOFC20はSMファイバ高速に対応しており、母材径最大200mm...(つづきを見る

  • GaN-MOCVD装置の製品画像です

    GaN-MOCVD装置

    高い原料効率をもったハイエンド向け大口径基板・多数枚対応GaN-MOCVD装置を 完成しました。 GaN-MOCVD RKY-2000,RKY-3000シリーズは紫外、青色および白色LEDの量産に貢献します。 ■ヒーター  抵抗加熱型カーボンヒーターを採用...(つづきを見る

  • カタログあり

    水ジェットとレーザーのメリットを融合した高精細なレーザー加工機です!

    形状】 ■金属: アルミ、銅、ステンレス、ニッケル、チタン ■高度材料: アルミナセラミックス、CBN 焼結体、焼結体ダイヤモンド、 超硬合金、単結晶ダイヤモンド、CVD ダイヤモンド ■加工形状: 切断、穴あけ、溝掘り、チップブレーカー、        3 次元加工、ダイシングなど ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • RayCutterカタログあり

    粗加工から仕上げ加工まで高い汎用性と生産性を実現。国内外でのダイヤモン…

    独自レーザーのシャープエッジ仕上げによる刃物寿命の向上 自社設計のYAGレーザーにより優れたシャープエッジを実現します。単結晶(MCD)、多結晶(PCD)、CVDの各種ダイヤモンド工具の加工に対応しており、加工時間の目安は約1mm/分です。寿命が長いとされる粒径が大きな30μmのPCDでもシャープエッジを達成するため、差別化が図れます。 ...(つづきを見る

チェックしたものをまとめて:

13件中1〜13件を表示中

表示件数
45件
  • 1

※このキーワードに関連する製品情報が登録された場合にメールでお知らせします。

おすすめ関連情報

分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]

PR