チェックしたものをまとめて:

  • 高機能表面処理『DLCコーティング』 ※用途事例進呈 製品画像

    PR耐磨耗・耐溶着・耐凝着などの特性を向上。切削工具、金型、自動車部品など…

    当社の『DLCコーティング』は、回転・滑り・往復などの機械的相対運動に 要求される様々な特性を兼ね備え、切削工具や各種金型、 自動車・機械部品などへのコーティングで活躍します。 摩擦抵抗を低減できる「ジニアスコートHA」、 表面の平滑性に優れた「ジニアスコートHAX」、 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」 など、目的に合わせて様々な膜種が選択可能です。 ただい...(つづきを見る

  • 昇温時間を大幅に短縮!温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    PR最大180℃!昇温効率が高く、昇温時間を大幅に短縮!

    清水を媒体とした加熱温調機です。 高い精度と安定性があり、昇温効率が高く、金型の昇温時間が大幅に 短縮できます。 2018名古屋ブラスチック工業展にて実機を展示します。皆様のご来場をお待ちいたしております。 会期:2018年10月31日(水)~11月2日(金) 会場:ポートメッセ名古屋(第3展示室) ■小間番号:D-9 ■出展ゾーン:プラスチック機械 成形機部品/周辺機器 ■出...(つづきを見る

  • CVD装置向けモジュールヒーター 製品画像カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 液体ソースCVD装置 製品画像

    液体ソースCVD装置

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • CVDコーティング装置 製品画像カタログあり

    どのような形状の品物に対しても制限なく使用できる、CVDコーティング装…

    中日本炉工業社が取扱う CVDコーティング装置のご紹介です。...(つづきを見る

  • CVDシステム 液体ソースCVD装置 製品画像

    高速、低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能!

    12インチウエハー対応量産用トレーカセット式...【特徴】 〇室温~350度程度の低温で高品質の厚膜シリコン酸化膜の形成が可能 〇高速成膜 〇アスペクト比の大きな段差への成膜が可能 〇液体原料TEOSの使用により、ステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置 製品画像カタログあり

    プラズマ成膜装置。MEMSデバイスにて、酸化膜の高速厚膜形成可!

    PE-CVD装置 ●各種MEMSデバイスにおける酸化膜の高速厚膜形成が可能 ●優れたステップカバレッジを実現 ●低水素含有の高品位SiN成膜が可能 ●SiN成膜プロセスで応力制御が可能...(つづきを見る

  • 300mm対応プラズマCVD装置・プラズマ成膜装置 製品画像

    Plasma Enhanced Chemical Vapor Depo…

    300mmウェーハ対応の低ストレスシリコン窒化膜や、TSVライナー絶縁酸化膜の形成に最適なプラズマ成膜装置です。...-TSV用途で小径、高アスペクト構造への優れたステップカバレッジのSiO2膜低温成膜が可能 -化合物半導体用途でキャパシタ構造への高い耐電圧/信頼性SiN成膜が可能 -化合物半導体用途で保護膜への低水素濃度SiN成膜が可能 -SiN成膜プロセスでストレスコントロールが可能 ...(つづきを見る

  • 半導体材料 ALD/CVD材料 製品画像カタログあり

    高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

    業界に先駆けて新規ALD/CVD材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくは...(つづきを見る

  • 大気圧プラズマコーティング装置 製品画像カタログあり

    弊社にてデモ可能! 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでCVD。 …

    今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるSiO2製膜を大気圧下で行えます。 また供給ガスを変更することでSiOCの製膜も可能。 厚みは処理条件によりコントロール可能。 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像カタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...(つづきを見る

  • プラズマCVD装置 製品画像

    パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

    膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...(つづきを見る

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像カタログあり

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD、PE-CVD、ドライエッチング、超高温カーボン炉(*MiniLab-CF/MF, WCF/WMF参照) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-LTE/*Globe Box optio...(つづきを見る

  • R&D/小型実験用横型炉 製品画像カタログあり

    小型ながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉

    小型でありながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉です。お客様の仕様に合わせ、低温から1400℃の高温処理、また、真空システムとの組合せにより、CVDや真空アニ−ル炉としてもご使用いただけます。 ●ヒータはカンタルA-1からス−パ−カンタルまで、温度仕様により選定可能 ●小型ながら3ゾ−ン制御により、均熱安定性が高い ●各種ガスユニットを用意。様々なプロセスに対応します...(つづきを見る

  • PLAD-261PG PLDシステム 製品画像

    PLAD-261PG PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...(つづきを見る

  • Nd:YAGレーザパルス蒸着システム 製品画像

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...(つづきを見る

  • エキシマレーザパルス蒸着システム 製品画像

    エキシマレーザパルス蒸着システム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 *...(つづきを見る

  • 真空蒸着システム 総合カタログ 製品画像カタログあり

    様々なニーズに対応

    ourcdの  適切な組合せを通じて、お客様のneedsにお応えできる  最も優れたコーティング膜が合成できるようにした  複合コーディング装備 ○PECV  プラズマを利用したCVD  source gasなどで分解させ、そこで発生するグロー放電を利用する薄膜合成法 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。...(つづきを見る

  • 排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型) 製品画像

    配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

    半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用N2ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...(つづきを見る

  • 真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応 製品画像カタログあり

    真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを!

    各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせて頂きます。また、研究・開発部門からの引合いも多く、ご要望に沿った提案が出来ますので、お気軽にご相談下さい。...【製品】 蒸着膜形成装置 ・各種金属/有機物蒸...(つづきを見る

  • 半導体製造装置(中古装置)の売買 製品画像

    中古装置活用で大幅なコストダウンができるだけでなく、導入後のアフターサ…

    中古装置の提供においてMTBFというキーワードを使用するのは弊社くらいであるという自負があります。品質とコストにおいては自信があります。...半導体製造装置の中古装置を売買しております。特にコーターデベロッパー、CVD装置、エッチャー等は在庫もしております。中古装置は現状有姿渡しから改造、立ち上げ業務迄の一貫したソリューション等、ご要求内容に応じたご提案が可能です。国内でも多数の実績がございますの...(つづきを見る

  • 高温ウエハ用非接触ピンセット 製品画像

    高温のサセプターからウエハを非接触にて取り出す耐熱仕様のピンセット

    CVD装置による半導体ウエハのエピタキシャル成膜後のサセプター上の高温ウエハを、気体を噴出することにより非接触によりウエハを懸垂保持し搬送する「フロートチャック」に手動バルブの付いた取っ手を装着し、ピンセットのようにハンドルを持つ手によるバルブ操作により気体供給のON−OFFを行い、高温のサセプターからウエハを非接触にて取り出す耐熱仕様の「非接触ピンセット」。...気体を噴出することにより非接触に...(つづきを見る

  • 光干渉式膜厚モニター 製品画像

    in situもしくはin-lineでの膜厚計測を実現するために開発さ…

    半導体製造装置とのインタフェースもLAN/RS232C/デジタルIOに対応する多様なインタフェースを提供しています。 エッチャー、CVD等のアプリケーションに使用され、次世代パワーデバイスの界面を高精度に深さ制御が可能です。...(つづきを見る

  • JSWアフティのECRプラズマ成膜/ALD/アニール装置 製品画像

    装置の動作デモをご覧いただき、サンプル成膜を実施し、そして評価へと一連…

    ■ALD-ECR Hybrid System ALD-ECR複合成膜装置 高密度・高活性な気相反応による究極のECRプラズマと表面反応を追求した極限的なCVDともいえるALDを、1つのシステムとすることで、どちらか一方または両方の機能を使用したプロセスが可能となりました。 ■固体ソースECRプラズマ成膜装置 固体ソースECRプラズマ成膜装置は、低温...(つづきを見る

  • 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像カタログあり

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応  カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他  副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン  集合表示灯及びタッチパネル(オプショ...(つづきを見る

  • 保守・メンテナンスサービス 製品画像

    半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

    <対応実績> CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下...(つづきを見る

  • Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ 製品画像カタログあり

    コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

    CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ(MFC)とデジタルマスフローメーター(MFM)は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を...(つづきを見る

  • Aera FC-R7700シリーズ マスフローコントローラ 製品画像カタログあり

    経済性に優れた高精度ラバーシール

    半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...(つづきを見る

  • SiCウェハボート 製品画像

    高温での使用が可能で1350℃まで対応可能!主要装置メーカーの認定を取…

    【用途】 拡散/LP-CVDプロセス用ウェーハキャリア 【材料】 高純度反応焼結炭化ケイ素 TPSS...(つづきを見る

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...(つづきを見る

  •  半導体製造用黒鉛製品 化合物半導体用 製品画像カタログあり

    PERMA-KOTE(R)製MOCVD用サセプターはLED製造工程で活…

    LEDの製造工程であるMOCVDプロセスにおいては、耐薬品性、防塵性、寸法精度に優れたPERMA-KOTE(R)(SiC被覆)製品が、サセプターとして広く採用されています。 当社は、独自の技術による黒鉛基材加工やSiC膜制...(つづきを見る

  • 【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像カタログあり

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成…

    Bケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェン生成用,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump) ・ガス供給3系統(標準) ・...(つづきを見る

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