• 水素フリーなど膜種も豊富な『DLCコーティング』 ※事例進呈 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • デジタルマルチメータ『GDM-9060/9061』 製品画像

    PR電圧・電流・抵抗・温度など12種類の基本測定機能を搭載。開発・設計から…

    『GDM-9060/9061』は、1,200,000カウントの6・1/2桁デジタルマルチメータです。 デュアルディスプレイ機能により、入力信号の2つの測定値を同時に表示可能。 電圧・電流・抵抗・温度・周波数・キャパシタンスなどの基本機能と 豊富な演算機能を使用することで、効率的かつ効果的な測定ができます。 インターフェースはUSB・LAN・RS-232Cを標準装備。 購入後もスロ...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    ◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...(つづきを見る

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像カタログあり

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...(つづきを見る

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像カタログあり

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...(つづきを見る

  • 【新製品】TaC被覆黒鉛材 EVEREDKOTE(R) 製品画像カタログあり

    新製品!CVD法にて高純度等方性黒鉛基材に緻密なタンタルカーバイドを被…

    EVEREDKOTE(R)とは、専用に開発した高純度等方性黒鉛基材に東洋炭素独自のCVD法にて緻密なタンタルカーバイド膜を被覆した製品です。 高温で安定なタンタルカーバイド膜で、耐熱性に優れ、急速な加熱冷却にも強く耐熱衝撃にも優れています。 ガス透過の低減に効果があり、さらに、品...(つづきを見る

  • 各種成膜・アニール装置 製品画像カタログあり

    ニーズに合わせたラインアップ!成膜装置や、ランプ加熱によるアニール装置

    大村技研では、お客様のニーズに合わせて、成膜装置や ランプ加熱によるアニール装置を設計・製作します。 縦型LP-CVD装置、縦型アニール装置、PE-CVD装置、 MO-CVD装置をラインアップしています。 【特長】 ■ニーズに合わせた設計・製作 ■成膜装置やランプ加熱によるアニール装置 ■多様なライ...(つづきを見る

  • 活性化アニール装置 製品画像

    活性化アニール装置 SiCパワーデバイス超高温熱処理装置

    用(≦1350℃)、最高(≦1400℃)の熱処理可能 ■超高温急速昇降温ヒーター搭載(最大20℃/min) ■透明基板対応高速搬送メカ搭載 ■急速昇降温、高純度、高真空、超高温対応のALL-CVD-SiC搭載 ■高純度クリーニング技術によりインストールタイム、ダウンタイムを大幅に短縮 ■超高温環境で毒性、腐食性ガスに対応したシール構造技術...(つづきを見る

  • 高温熱処理炉 製品画像

    【高温熱処理炉】 SiCパワーデバイス超高温熱処理装置 VERTI…

    用(≦1350℃)、最高(≦1400℃)の熱処理可能 ■超高温急速昇降温ヒーター搭載(最大20℃/min) ■透明基板対応高速搬送メカ搭載 ■急速昇降温、高純度、高真空、超高温対応のALL-CVD-SiC搭載 ■高純度クリーニング技術によりインストールタイム、ダウンタイムを大幅に短縮 ■超高温環境で毒性、腐食性ガスに対応したシール構造技術...(つづきを見る

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