• 水素フリーなど膜種も豊富な『DLCコーティング』 ※事例進呈 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • 高性能ドームロード背圧レギュレーター「Equilibar」 製品画像

    PR超微圧・超微流量調整可能なマルチオリフィス設計のドームロード背圧レギュ…

    Equilibarドームロード背圧レギュレーターは複数オリフィス設計により、上流側の流量変動による設定圧力への影響が小さく、安定した制御を行う事が可能です。 柔軟なダイアフラムのみで制御するので、スプリング式背圧弁のように摩擦で精度が落ちることは無く、応答速度も速いです。 パイロットポートを真空ポンプと繋げることで、真空レギュレーターとしてご利用頂けます。 【特徴】 ■大半のアプリ...(つづきを見る

  • ◆◇◆ R&D用小型縦型実験炉 TVF-110 ◆◇◆ 製品画像カタログあり

    ローコスト 必要最小構成(手動制御)管状炉・拡散炉・熱CVDとして応用…

    縦型実験炉 大学・企業研究室での基礎実験用に最適な基礎実験用ローコスト版縦型炉 【用途】 ◉ 半導体・太陽電池・燃料電池・電子基板等の熱処理 ◉ 基礎実験:縦型管状炉・酸化拡散炉・LPCVD等の簡易熱処理実験...(つづきを見る

  • R&D/小型実験用横型炉 製品画像カタログあり

    小型ながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉

    小型でありながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉です。お客様の仕様に合わせ、低温から1400℃の高温処理、また、真空システムとの組合せにより、CVDや真空アニ−ル炉としてもご使用いただけます。 ●ヒータはカンタルA-1からス−パ−カンタルまで、温度仕様により選定可能 ●小型ながら3ゾ−ン制御により、均熱安定性が高い ●各種ガスユニットを用意。様々なプロセスに対応します...(つづきを見る

  • 炭化ケイ素(SiC) ロイセラム-HS 製品画像カタログあり

    高純度・高強度・低熱膨張のセラミックス

    主に高温で使用される半導体製造装置の部材として、30年以上の実績があり、そこで培われた様々な技術[1.複雑な構造を実現する接合技術 2.ミクロンオーダーの精度を実現する精密加工技術 3.気相成長(CVD)法によるSiC成膜技術]を活かして、近年は、LED・太陽電池・SiCパワーデバイス用途でも採用されています。また、SiCは原子力や核融合、航空宇宙分野などでの応用が期待されています。AGCはこれ...(つづきを見る

  • 半導体用発熱体 製品画像

    半導体用発熱体

    半導体製造に使われる拡散炉用ヒーター、CVD炉用ヒーターを提供  ...(つづきを見る

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