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PR素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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PRソーラーを接続するだけで使える蓄電システム!最大9.6kWhの蓄電池容…
単相3kW出力のパワコンと7.2kWhの蓄電池を内蔵した据置型のオフグリッド蓄電システムです。 4kWまでのソーラーパネルを接続可能。 配線はソーラーと出力部のみのため容易に設置可能。 【設置用途例】 ・山小屋 ・作業小屋 ・小規模店舗 ・小規模事務所 ・小規模工事現場 ・ユニットハウス ・トレーラーハウスなどに好適です。 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイキ
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モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE) ◉ チャンバー ・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch ・0...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…
お使いいただける、誘導結合プラズマによる成膜装置です。 十数分の時間でハードウエアを交換し、誘導結合プラズマエッチング装置 として使用する事が可能。 現場でのハードウエアの交換で、CVD及びRIEとして使用できる為、 導入コストを抑える事が出来ます。 【特長】 ■簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可 ■グラフィックインターフェイスで操作が簡単 ■ご...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応…
ど、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種(一例)】 Shale Cシリーズ: ■ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) ■低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダウンロー...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末…
高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。 アプリケーション例 ・プラズマエッチング装置 ・CVD装置 ・静電チャック ・焼成トレイ など 【メッセージ】 フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。 セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございま...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フジミインコーポレーテッド
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総保有コストを減少させる事が可能!最高クラスの均一性とスループットを実…
ることにより<0.6% 3σも達成可 ■従来と比較しMTBMを2倍にしたIon Source、Marathon Grid、 Dual PBNは、他社の既存装置でも搭載可能 ■当社のPVD、CVD等とのクラスター可が可能 ■150mm、200mm ※詳しくはお気軽にお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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Aera Transformer デジタルマスフローコントローラ
コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC
CVD、PVD、拡散、エッチングなど様々なアプリケーションに適したAera Transformerデジタルマスフローコントローラ(MFC)とデジタルマスフローメーター(MFM)は、お客様のプロセス改良に寄与し、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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経済性に優れた高精度ラバーシール
半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されてい...
メーカー・取り扱い企業: 日立Astemo&ナガノ株式会社
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半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい
<対応実績> CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…
当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。 【特長】 ■共通プラットフォームを...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対…
合物半導体など、様々な材料に対応可能; 幅広く温度の工程に対応可能; エッチングの速度と均一性を精密制御; BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ: ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
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