チェックしたものをまとめて:

  • 【新製品】湿式・乾式両用スライサー『SAM-CT35RS』 製品画像

    PRセラミック、金属、電子部品、複合材等の切断に!開放型扉により作業効率U…

    『SAM-CT35RS』は、従来の乾式スライサーの技術を凝縮し、 高精度な切断を実現した湿式・乾式両用スライサーの新製品です。 セラミック、金属、電子部品、複合材等の幅広い材料の切断が可能。 可動式テーブルにより、切断長の調整もできます。 切断プログラムはタッチパネル上で簡単に作成OK。 開放型扉が付属しているため、作業効率の向上にも貢献します。 【特長】 ■基板分割機で...(つづきを見る

  • 高速伝送対応0.5mmピッチフローティングコネクタ DTシリーズ 製品画像

    PR高速伝送対応!ハイスタックタイプを追加!スタック、水平、垂直接続の三次…

    「DTシリーズ」は、0.5mmピッチのフローティングコネクタという機能的製品ながら、SATA規格相当の高速シリアル信号伝送に対応するコネクタです。 伝送特性はSATA Rev3.0の要求規格を全て満たしています。差動インピーダンス100Ω±15%、差動インサーションロス6dB、近端クロストーク26dBloss、立ち上がり時間85psec、スキュー10psec、シンボル間干渉50psec。 高速...(つづきを見る

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...(つづきを見る

  • SOIウェーハ『Thick-BOX SOI』【厚いBOX層!】 製品画像カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • DLC/酸化膜成膜装置・高温成膜装置・ドライ洗浄機 総合カタログ 製品画像カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Rシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「R-200 エアオープンタイプ」をはじめ、 ...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

  • ガラス基板などへの対応可 成膜加工(PVD) 製品画像カタログあり

    1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能

    PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • 株式会社SGC 非鉄金属部品製作 製品画像

    既存パーツの改造や特殊工具の製作など各消耗パーツ以外でも1個から製作を…

    弊社ではオン注入・PVD・CVD・エッチャー・CMPといった半導体製造の主に前工程の消耗パーツの製造や改造部品の製造を行っております。また、蒸着用のドームやヤトイ(ホルダー)の製作や液晶製造用成膜治具等の製作も行っております。 ...【特徴】 ○材料のみの販売も行います(希望サイズに切断を致します)。 ○主な加工材質:ステンレス(SUS)・チタン(Ti)・アルミニューム(AL)・銅(Cu...(つづきを見る

  • 太陽電池製造用黒鉛製品 製品画像カタログあり

    再生可能エネルギーの一つとして期待される太陽電池。その製造工程で多くの…

    ー・その他各種パーツのライフアップ、炉の改造・大型化などご要望に応じた設計・技術提案を行います。 ●太陽電池セル製造用 シリコン結晶型太陽電池製造プロセスの一部である「反射防止膜成膜(PECVD)プロセス」、薄膜、化合物太陽電池セル製造プロセスにおいて 当社の等方性黒鉛製品・C/Cコンポジット製品が搬送用プレート、ジグなどに使用されています。 軽量化、ライフアップ、エネルギー効率...(つづきを見る

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