チェックしたものをまとめて:

  • 昇温時間を大幅に短縮!温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    PR最大180℃!昇温効率が高く、昇温時間を大幅に短縮!

    清水を媒体とした加熱温調機です。 高い精度と安定性があり、昇温効率が高く、金型の昇温時間が大幅に 短縮できます。 2018名古屋ブラスチック工業展にて実機を展示します。皆様のご来場をお待ちいたしております。 会期:2018年10月31日(水)~11月2日(金) 会場:ポートメッセ名古屋(第3展示室) ■小間番号:D-9 ■出展ゾーン:プラスチック機械 成形機部品/周辺機器 ■出...(つづきを見る

  • 高機能表面処理『DLCコーティング』 ※用途事例進呈 製品画像

    PR耐磨耗・耐溶着・耐凝着などの特性を向上。切削工具、金型、自動車部品など…

    当社の『DLCコーティング』は、回転・滑り・往復などの機械的相対運動に 要求される様々な特性を兼ね備え、切削工具や各種金型、 自動車・機械部品などへのコーティングで活躍します。 摩擦抵抗を低減できる「ジニアスコートHA」、 表面の平滑性に優れた「ジニアスコートHAX」、 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」 など、目的に合わせて様々な膜種が選択可能です。 ただい...(つづきを見る

  • SOIウェーハ『Thick-BOX SOI』【厚いBOX層!】 製品画像カタログあり

    独自技術の厚膜熱酸化膜加工を利用し、厚いBOX層を有するSOIウェーハ…

    【仕様および対応表】 ■対応サイズ:4inch~12inch ■対応機種  ・拡散炉・CVD系  ・メタル膜系  ・コート膜系  ・その他の加工  ・パターン付ウェーハ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • DLC/酸化膜成膜装置・高温成膜装置・ドライ洗浄機 総合カタログ 製品画像カタログあり

    微粒子からウエハ、フィルム、ボトル、シリンダーまで、薄膜成膜技術、成膜…

    もポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネート樹脂のガスバリア膜・保護膜としての展開が進んでおります。 300mmウエハ対応のTSV側壁用の絶縁物成膜装置はGINTIでTSV Liner CVDとして使用されており、膜特性で高い評価を得ています。また同仕様の装置は電子デバイス製造会社での評価も高く、今後の3Dパッケージで活躍が期待されています。 高温下での成膜も当社の得意とするとこ...(つづきを見る

  • 耐熱仕様:非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」 製品画像

    高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

    本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。  半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、CVD装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。  その他、アルミニュウム、SUS、PEEK他、使用環境に合わせて製...(つづきを見る

  • PICOSUN JAPAN 株式会社 会社紹介 製品画像カタログあり

    世界でもトップレベルに洗練されたALD装置をご提供!アフターサービスも…

    です。 同社のALD成膜装置の日本国内向け販売、アフターサービス拡充の為に 2016年4月より営業を開始いたしました。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当社は、今後も洗練されたALD装置を提供してまいります。 ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Pシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Pシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「P300B エアオープン (バッチ式)」をはじ...(つづきを見る

  • ALD成膜装置『Rシリーズ』 製品画像カタログあり

    優れた段差被覆性!膜厚が1原子層レベルで制御できるALD成膜装置Rシリ…

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、「R-200 エアオープンタイプ」をはじめ、 ...(つづきを見る

  • アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例 製品画像カタログあり

    アトミックレイヤーデポジション アプリケーション例を写真付きでご紹介!

    当社では、フィンランド・Picosun社のALD成膜装置を取り扱っております。 ALD (アトミックレイヤーデポジション)は、既存のPVD, CVD,蒸着等の 成膜技術より、段差被覆性に優れ、膜厚が1原子層レベルで制御でき、 バリア性が高く膜質が良いなどの特長があります。 当資料では、アプリケーション例を写真でご紹介しています。 ...(つづきを見る

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