• 解説資料 金型コーティング膜の特性と選定【被覆処理・下地処理編】 製品画像

    PR硬質膜の被覆処理時の注意点と、金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法!…

    硬質膜の被覆処理時の注意点とは?金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法とは? 本資料(その3、その4)では事例を用いて被覆処理時の注意点と当社独自の処理方法を詳しく説明しています。 ・資料(その3)では金型に必須なコーティング膜について、さまざまな実際の損傷を交え特性と選定方法について解説しています。 ・資料(その4)では金型の工具寿命を飛躍的に向上させる方法、当社が行う下地処理であるD...(つづきを見る

  • DLCコーティングの基礎知識・事例・選定基準をまとめた資料進呈中 製品画像

    PR切削工具、金型、機械部品の磨耗・傷つき防止に!樹脂・ゴムに対応したタイ…

    当社の『DLCコーティング』は、高い耐摩耗性はもちろんのこと 回転・滑り・往復などの機械的相対運動に要求される特性を兼ね備え、 切削工具や金型、自動車部品、シール材などに幅広く適用可能。 摩擦抵抗を低減できる水素フリーの「ジニアスコートHA」や 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」など、 課題に合わせて選択できる様々な膜種をラインアップしています。 【用途例】 ...(つづきを見る

  • 超高純度CVD-SiC「ソリッド SiC」 製品画像カタログあり

    半導体装置に最も適した材料!様々な用途で発揮されるソリッド SiC

    ソリッド SiCは、CVD法により製造される超高純度CVD-SiC製品群であり、高強度・耐熱性・耐プラズマ性・耐薬品性に優れており、半導体に最も適した材料と信頼されています。 ソリッド SiCは、東海カーボン独自のCVD...(つづきを見る

  • 株式会社FLOSFIA『ミストCVD法技術』のご紹介 製品画像カタログあり

    液体の中でも特に「水」から作る成膜反応技術!

    『ミストCVD法』とは、気体のように扱える液体「ミスト」を使い、 成膜反応(CVD)させる技術です。 霧(ミスト)状にした原料溶液と加熱部を用いて、簡便、安価、安全に 酸化物半導体薄膜を作製できます。...(つづきを見る

  • GaNテンプレート(窒化ガリウム、ガリウムナイトライド) 製品画像

    MoCVD法で製造したGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)をご…

    弊社のGaNテンプレート(GaN薄膜、GaN厚膜)は沢山の販売実績を重ねております。転位密度やXRD値など品質面や価格パフォーマンスでも高い競争力を確保しております。1枚からの研究開発用から数千枚の量産用までご対応可能でございます。 ...サイズ:Φ2”、Φ3”、Φ4”、Φ6” GaNエピ膜厚み:3μm、4μm、指定可能 結晶構造:GaN膜・オン・サファイア基板 転位密度≦ 5x106/ ...(つづきを見る

  • CERASIC 常圧焼結SiCセラミックス 製品画像カタログあり

    高温強度を必要とする場合や耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適

    Cセラミックス」は、高温強度を必要とする場合はもちろん、耐摩耗・耐食性を要求される機械部品に最適な材料です。また、半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められています。高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。 ...(つづきを見る

  • CZウェーハ 成膜加工 製品画像カタログあり

    2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。

    Zウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系: HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系: TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-S...(つづきを見る

  • 導電性ダイヤモンドの受託成膜 製品画像

    ダイヤモンドを合成してみませんか。

    熱フィラメントCVDによるダイヤモンドの合成をお受けいたします。 金属並みの導電性をもった導電性ダイヤモンドの合成ができます。 受託成膜から装置販売まで幅広くご対応いたします。 ...(つづきを見る

  • TPSS 炭化けい素セラミックス 製品画像カタログあり

    TPSSは、高純度炭化ケイ素を主成分とする半導体関連材料です。

    【特長】 ○TPSS表面のCVD膜はLP-CVD工程で生成するデポ膜(SiN、Si等)と近似した熱膨張率をもつ ○デポ膜剥離によるパーティクルが減少 ○高純度、高強度、高耐食性など数多くの特性をもつ ○半導体熱処理炉用炉心...(つづきを見る

  • 株式会社テクノス 事業紹介 製品画像カタログあり

    粉体対策ツールでお客様の多彩なご要求にお応えします

    クノスは、主に集塵機用カートリッジフィルターや粉体トラップ フィルターを取り扱っている会社です。 多彩な集塵機に適合する高性能フィルターを低価格にてご提供。 また、当社の表面処理技術は、CVDやドライエッチャーなどの排気ライン からチャンバーといったウェハープロセスまで、幅広い範囲でご利用 いただいています。 【取扱製品】 ■集塵機用カートリッジフィルター ■粉体トラップ...(つづきを見る

  • 石英ガラス サーマルプロセス用製品 製品画像カタログあり

    新鋭の測定技術と実績ある加工技術で高度な要望に応える半導体製品をご提供…

    当社では、高耐熱、高純度、パーティクル対策などの要求にこたえる CVD工程や酸化・拡散工程に不可欠なチューブ、ボート等の サーマルプロセス用製品を取り扱っております。 大型化要求に対しては、φ1000mmを超えるチューブやフランジ等の 大口径石英ガラス部材...(つづきを見る

  • 株式会社フェローテック 事業紹介 製品画像カタログあり

    気づき、改善し、そして幸せを追求する企業。フェローテック。

    【取扱製品】 ○磁性流体シール ○真空シール ○磁性流体 ○ロボットシール ○三次元ダンパ ○サーモモジュール ○太陽電池関連製品 ○石英製品 ○セラミックス ○CVDSiC製品 など ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...(つづきを見る

  • 鉄道車両のような激しい揺れ、振動にも強く緩まないチェーンクランプ 製品画像カタログあり

    ローコストタイプ NW16-63 一般のNW/KF規格配管に完全互換

    用のローコストタイプ ●極低温対応のアルミ+ナット付タイプをラインナップ ●超高温タイプは200℃まで対応可能 ●真空10-7Paまで使用可能 ●コストパフォーマンスが高く、ソーラー、LPCVD等に最適 ◆◇◆詳細は資料請求、またはカタログをご覧下さい◆◇◆...(つづきを見る

  • 高性能シングルチップ MDIN-270/275 製品画像

    高性能シングルチップ MDIN-270/275

    高画質を維持したままプログレシッブ画像や インタレース画像を相互に変換できる Macro Image Technology社製のシングルチップ 【特徴】 ○デインターレース機能搭載 ○SD-Video/SXGA変換可能 ○SDRAM搭載、CVBSエンコーダー可能 ○Macro Image Technology社独自のiMARVテクノロジーにより  高性能アップコンバーターを実...(つづきを見る

  • 解像度変換LSI『IP00C821』 製品画像カタログあり

    2K対応!2画面入力PiP出力IP変換・解像度変換・歪補正・エッジブレ…

    『IP00C821』は、2ch の独立した画像の拡大 / 縮小及び IP 変換エンジンに加え、 1ch の画像歪補正 ( ワーピング ) 及びエッジブレンディングエンジンを 内蔵した多機能 LSI です。 2 系統の画像入力に対し、それぞれ独立して拡大、縮小、IP 変換を実行、 PiP/PoP 表示ができます。 さらに、CPU,LVDS Tx,ビデオデコーダ,USB,Ethern...(つづきを見る

  • IP変換/解像度変換LSI『IP00C812B』 製品画像カタログあり

    様々な画像変形機能を搭載!3D対応2ch入出力IP変換/解像度変換LS…

    『IP00C812B』は、2chの独立した入出力、拡大/縮小及びIP変換エンジンを内蔵し、 3DやPiP,PoPなどの2画面表示を実現するIP変換・解像度変換LSIです。 入出力とも1080P/WUXGA/2K1Kまでのプログレッシブ及び1080iまでの インタレースに対応しています。 CPU、LVDSTx、VideoDec、Ethernet、USB等の機能を内蔵し部品点数の 削...(つづきを見る

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