チェックしたものをまとめて:

  • 昇温時間を大幅に短縮!温水循環装置【KCTシリーズ】 製品画像

    PR最大180℃!昇温効率が高く、昇温時間を大幅に短縮!

    清水を媒体とした加熱温調機です。 高い精度と安定性があり、昇温効率が高く、金型の昇温時間が大幅に 短縮できます。 2018名古屋ブラスチック工業展にて実機を展示します。皆様のご来場をお待ちいたしております。 会期:2018年10月31日(水)~11月2日(金) 会場:ポートメッセ名古屋(第3展示室) ■小間番号:D-9 ■出展ゾーン:プラスチック機械 成形機部品/周辺機器 ■出...(つづきを見る

  • 高機能表面処理『DLCコーティング』 ※用途事例進呈 製品画像

    PR耐磨耗・耐溶着・耐凝着などの特性を向上。切削工具、金型、自動車部品など…

    当社の『DLCコーティング』は、回転・滑り・往復などの機械的相対運動に 要求される様々な特性を兼ね備え、切削工具や各種金型、 自動車・機械部品などへのコーティングで活躍します。 摩擦抵抗を低減できる「ジニアスコートHA」、 表面の平滑性に優れた「ジニアスコートHAX」、 樹脂やゴム材料の変形に追従する「ジニアスコートF」 など、目的に合わせて様々な膜種が選択可能です。 ただい...(つづきを見る

  • CVD装置 製品画像カタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置) 製品画像カタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • 書籍:プラズマCVD 製品画像

    プラズマCVDにおける成膜条件の最適化に向けた 反応機構の理解とプロ…

    ■「所望の薄膜」を形成するプラズマCVDプロセスの確立に向けて■ 電気回路、電磁気学、放電工学、流体力学、化学工学、表面科学…… 様々な学問体系が絡み合う、複雑なプラズマCVDを「使いこなしたい!」と願う技術者・研究者へ ○「...(つづきを見る

  • スコテック社製 減圧CVDコーティング炉 SCT シリーズ 製品画像カタログあり

    一般的なPVD TiAlNコーティングと比較して、切削工具の寿命を2倍…

    革新的な技術を持つスコテック社のCVDコーティング炉は、国内外の工具メーカーから大変注目を集めています。 これまでは実現が困難であった次世代のCVDコーティングを可能とし、切削工具メーカーの重要なパイロット設備としての普及が期待され...(つづきを見る

  • ロータリーキルン式連続CVD装置 製品画像

    粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...(つづきを見る

  • シャワーヘッド型CVDの解析ソフト『DSMC-Neutrals』 製品画像カタログあり

    「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア…

    シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列...(つづきを見る

  • CVD装置向けモジュールヒーター 製品画像カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 【新技術の導入】スパッタリング/プラズマCVD 製品画像カタログあり

    高エネルギーを利用して形成!材料そのものを叩き出す、再現性に優れた表面…

    研株式会社では、イオンプレーティング方式に加えスパッタ法によるコーティングサービスも始めました。 現在スパッタ法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCとさせていただいております。 また、P-CVD(Plasma-Chemical Vapor Deposition)法によるコーティングサービスも始めました。 現在P-CVD法での対応膜種は、DLC(Diamond-Like Carbon)、...(つづきを見る

  • 常圧CVD装置「AMAX800V」 製品画像カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...(つづきを見る

  • 液体ソースCVD装置 製品画像

    液体ソースCVD装置

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。...(つづきを見る

  • 回転CVD炉 製品画像

    リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...(つづきを見る

  • 1枚からの成膜が可能 成膜加工(CVD) 製品画像カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置 製品画像

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • 管状炉CVD装置 製品画像

    長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...(つづきを見る

  • フジタ技研『高精度 CVDコーティング技術』 製品画像カタログあり

    CVDは「教科書に存在しない技術」。絶妙の製膜コントロール技術で実現!

    CVDコーティング技術は、経験に裏打ちされた自信が品質の差となって表れます。 長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により 他社にマネのできない精度を実現しています。 【特徴】 ■膜が非常に硬く、滑り性も良い ■TiC+TiNの2層膜で高い膜靭性 ■FTCより高い耐熱性 ■冷間鍛造、板金プレス加工等、幅広く使用される ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...(つづきを見る

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