チェックしたものをまとめて:

  • カタログあり

    ミストCVD技術の開発と今後の可能性 ~注目の薄膜形成技術ミストCV…

     大気圧下で大面積にわたり高品質な機能膜を形成するための技術として開発してきたミストCVDに関して、経緯、歴史、作製膜の特性、デバイス、ミストCVDに関する物理、次世代へ向けた開発の方向性等、詳しく説明します。 ■得られる知識 ・機能膜作製プロセス ・大気圧・非真空プロセ...(つづきを見る

  • CVD装置の製品画像ですカタログあり

    CVD装置

    ●特徴 本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質(気体、液体、固体)としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...(つづきを見る

  • 太陽電池作製装置の製品画像ですカタログあり

    高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

    本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...(つづきを見る

  • 粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに

    反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...(つづきを見る

  • 減圧CVDコーティング炉 SCT シリーズカタログあり

    一般的なPVD TiAlNコーティングと比較して、切削工具の寿命を2倍…

    革新的な技術を持つスコテック社のCVDコーティング炉は、国内外の工具メーカーから大変注目を集めています。 これまでは実現が困難であった次世代のCVDコーティングを可能とし、切削工具メーカーの重要なパイロット設備としての普及が期待され...(つづきを見る

  • シャワーヘッド解析例カタログあり

    「シャワーヘッド型CVD」解析にも対応した 希薄流体解析ソフトウェア…

    シャワーヘッド型CVD装置内のガス流れのシミュレーション解析 はじめ様々なシミュレーションに対応 【特長】 ■非構造メッシュを採用しているので、複雑な実際の装置の形状そのままを計算することが可能 ■高い並列...(つづきを見る

  • 高精度 CVDコーティング技術の製品画像ですカタログあり

    高精度CVDコーティング。絶妙の製膜コントロール技術で実現!

    CVDは「教科書の存在しない」技術 経験に裏打ちされた自信が、品質の差となって表れます。 長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により 他社にマネのできない精度を実現しています 【加工例】 ○膜種:CVD-FTC(TiC) ○表面色:銀色 ○膜硬さ:Hv 3,800 ○膜厚:2〜4μm ○耐熱温度:300℃ ○特徴  膜が非常に硬く、滑り性も良いので、 ...(つづきを見る

  • カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • カタログあり

    高エネルギーを利用して形成!材料そのものを叩き出す、再現性に優れた表面…

    研株式会社では、イオンプレーティング方式に加えスパッタ法によるコーティングサービスも始めました。 現在スパッタ法での対応膜種は、Ti、TiN、TiCとさせていただいております。 また、P-CVD(Plasma-Chemical Vapor Deposition)法によるコーティングサービスも始めました。 現在P-CVD法での対応膜種は、DLC(Diamond-Like Carbon)、...(つづきを見る

  • 液体ソースCVD装置の製品画像です

    液体ソースCVD装置

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。...(つづきを見る

  • カタログあり

    優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

    常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...(つづきを見る

  • リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

    炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...(つづきを見る

  • 長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

    オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...(つづきを見る

  • SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置の製品画像です

    厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス(特許出願中)

    室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ● Ge、P、Bの液体ソースを用いて屈折率の任意の制御が可能。標準1系列に加え、オプションでさらに2系列のドーパント導入系の追...(つづきを見る

  • カタログあり

    低温CVDは、100℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

    PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 ...(つづきを見る

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