CVD | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業：データコントロルズ株式会社

CVD装置

●特徴本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

太陽電池作製装置（Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置）

高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

UV/VIS使い捨てキュベット『CVDシリーズ』

透過測定、蛍光測定に適した使い捨て分光測定用キュベット。

『CVDシリーズ』は、2次汚染のリスクを防ぐ使い捨てキュベットです。「CVD-UV」は、波長範囲220 - 900 nmに対応した紫外域測定用キュベット。また「CVD-VIS」は、波長範囲35...

メーカー・取り扱い企業：オーシャンフォトニクス株式会社

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。また、従来小型では困難とされてきた5～100Pa での圧力コントロール機能を備え、より多様な処理パターンに対応可能としました。さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。詳しくは、カタログをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業：佐藤真空株式会社

CVD合成ダイヤモンド

CVD法により合成された極めて高品質のダイヤモンド結晶が手頃な価格でご購入いただけます。単結晶、多結晶、ナノ結晶、フィルム、ディスク、薄膜等、ご希望に応じた形態で提供させていただきます。...

メーカー・取り扱い企業：プネウム株式会社本社

デジタル膜厚計 SM1500D　レンタル

電磁式デジタル膜厚計 SM1500Dは、鉄素地上のライニング膜、溶射膜…

ットアラーム機能（Alarm）電磁式デジタル膜厚計 SM1500Dは、測定対象物の膜厚を上限値、下限値で設定可能。目標値よりも不足、またはオーバーしている場合にはアラーム音で警告します。・CVD磁極（CVD）一点定圧式プローブの磁極は、超耐摩耗性のCVD処理磁極を採用。ハードな使用にも長時間、初期特性と高い再現性を維持します。・見やすいデジタル表示（Digital）見やすい大...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メジャー

3D希薄流体解析ソフトウェア『DSMC-Neutrals』

低圧条件のガス流れの解析ができる希薄気体(希薄流体)にも対応した解…

験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

【動画紹介】高精度デジタル温度計 CTR3000

精度：±0.005 ℃ 、分解能：0.0001℃、温度レンジ：-200…

。＜基本仕様＞・精　度：±0.005℃フルレンジ(４線式白金測温抵抗体) 　　　　　±0.03℃フルレンジ（３線式白金測温抵抗体) ・ITS90、EN60751(DIN90)、CVD(カレンダーバンドゥーセン)温度係数（Pt)に対応・計測範囲：-200～962℃(Pt)/-210～1820℃(TC)/0～500kΩ(サーミスタ) ・分解能：0.0001℃/0.00001...

メーカー・取り扱い企業：ビカ・ジャパン株式会社

薄膜技術の基礎知識『薄膜技術とは？』　※資料進呈

CVDとPVDの比較や流量計と圧力計の応用、プロセス制御のデジタル化と…

属コーティング・フレキシブルな太陽電池薄膜技術とは、「基板表面と呼ばれる対象物に薄膜材料を作成、コーティング、加工するプロセス」と定義されています。本資料では、薄膜技術の説明やCVDとPVDの比較や流量計と圧力計の応用、プロセス制御のデジタル化とアプリケーション事例をご紹介しております。是非、ご一読くださいませ。 ★CVDとPVDの説明をさらに掘り下げた基礎知識や ...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

CVDプロセスガス分析装置 MPQMS]

CVDプロセスのガス成分をその場で分析できる四重極質量分析システムです…

当社の各種ナノカーボン製造装置やバイオマス炭化装置にそのまま組み込んで使用できるように設計してあります。作動排気系を有し、高い圧力のCVD条件にも対応できます。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マイクロフェーズ

【事例】『DSMC-Neutrals』真空排気シミュレーション

真空排気シミュレーションなど低圧条件のガス流れの解析ができる希…

験で忙しい方々も確実に結果を出すことが可能 ◆さまざまな事例に対応◆ ・真空チャンバー内の希薄なガス流れシミュレーション・半導体製造における薄膜生成のシミュレーション・化学蒸着 (CVD)、有機EL (OLED)、分子線エピタキシー (MBE ) ・CVD のような化学反応を含む成膜シミュレーションなどの半導体製造における薄膜生成のシミュレーション ◆さまざまな...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウェーブフロント本社

プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…

A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition：原子層堆積)と同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。プロセス温度は80℃～500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min～500nm/minとなっております。【仕様...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

電磁式膜厚計『SM-1500D』【レンタル】

鉄素地上の厚いライニング被膜を高精度に測定する電磁式デジタル膜厚計

またはオーバーしている場合にはアラーム音で警告します。 ■キーロック機能　測定中にロックボタンを押すとOFFキー以外のすべてのキーがロックされ誤操作を防ぎ、本体機能を安全に保守します。 ■CVD磁極　1点定圧式プローブの磁極は超耐摩耗性のCVD処理磁極を採用。ハードな仕様にも長時間、初期特性と高い再現性を維持します。 ■見やすいデジタル表示　見やすい大型LCD表示に拡大レンズを...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソーキ

Radimoラジカルモニター　＜対向型ラジカルモニターDP型＞

世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。

ジカルを真空紫外吸収分光法を用いて　ダイレクトに計測し、プロセスにフィードバック可能 ○ICF70フランジに取付可能 ○各種プラズマ装置に取付可能 →EBEP処理装置、CCPエッチング／CVD、Cat-CVD、　ICPエッチング／CVD　等 ○真空排気系一体制御型モニタリングシステム等、システム構成は　お客様のニーズに対応 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング

TruPlasma Bipolar 4000（G2.1）シリーズ

波形と周波数のフレキシビリティ！圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD…

0（G2.1）シリーズ』は、半導体製造、建築用ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、光学膜向けの水冷式電力供給装置です。信頼性と性能が重要となるプラズマCVD（PECVD）と二重陰極スパッタリングプロセスに好適。エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高...

メーカー・取り扱い企業：トルンプ株式会社