• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) 製品画像

    高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

    量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…

    「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ)  ・真空・プラズマ不要 (熱CVD)  ・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V) 製品画像

    高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

    少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…

    A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適  ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜  ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501) 製品画像

    小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

    D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・異形状・サイズ基板の同時処理  ・高い成膜速度  ・シンプルメンテナンス  ・省フットプリント  ・低CoO(低ランニングコスト) 【...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S) 製品画像

    太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

    結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

    AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】  ・156mm角/125mm角ウェハ対応  ・1500枚/hの高生産性  ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】  ・拡散/インプラ用ハードマ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • SiCダミーウェハ「超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現」 製品画像

    SiCダミーウェハ「超高純度、高耐熱性、高耐摩耗性を実現」

    独自のCVD-SiCで製作され、超高純度、高耐食性、高耐酸化性、高耐熱…

    超高純度で耐食性及び耐熱性に優れているSiCダミーウェハは、長期のリサイクル使用が可能で、LP-CVD、高温拡散、CMP工程にてご使用頂けます。 ◆コストダウンに貢献  ・長期のリサイクル使用が可能  ・超高純度で耐食性及び耐熱性に優れている  ・長期使用頂く事で、シリコンウェハの節約...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」 製品画像

    石英管洗浄装置(HTC/VTCシリーズ)「薬液、純水削減に貢献」

    縦型洗浄装置(VTCシリーズ)は省スペースで「薬液・純水削減」に貢献。…

    「HTC/VTC」シリーズは、拡散工程・CVD工程・アニール工程で使用される石英管の洗浄を目的とした石英管洗浄装置です。 【特徴】 ■石英管の形状・洗浄用途に合わせた装置ラインナップ  ・6インチ・8インチ・12インチ プロセス用の...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」 製品画像

    炭化けい素セラミックス(TPSS)「高純度、高強度、高耐食性」

    高純度、高強度、高耐食性を兼ね備えた半導体製造プロセスに欠かせない半導…

    【特徴】  ・高温から低温プロセスまで幅広いユーザーニーズに対応  ・高純度、高強度、高耐食性  ・高温での使用が可能(~1350℃)  ・パーティクル発生を抑制 製品の表面にCVD法により超高純度で緻密な炭化けい素膜をコーティングしたグレードも提供しており、特に、精密加工技術を取り入れたウェーハボートには定評があり、300mmウェーハプロセスの品質、歩留向上にも貢献していま...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 常圧焼結SiCセラミックス (CERASIC) 製品画像

    常圧焼結SiCセラミックス (CERASIC)

    優れた耐食性と物理特性がラインの信頼性を築きます!

    CERASIC常圧焼結SiCセラミックスは耐磨耗・耐食性が要求される機械部品に最適な材料です。 半導体及びFPD製造用部材としても様々な用途開発が進められており、高純度品としてCVD被膜を施した製品の供給も可能です。 【特徴】  ・高強度  ・高耐摩耗性  ・高耐食性 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

  • 高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」 製品画像

    高純度アルミナセラミックスADS「電気絶縁性、高強度、耐摩耗性」

    ADSアルミナセラミックスは、吸水率が0.01%以下と非常に緻密な焼結…

    などの特性 ・半導体やFPD製造用部材としての用途が拡がっている ・酸・アルカリやハロゲンプラズマに対して高い耐食性を有する 【ADSの用途】 ・エッチング、アッシング装置用部品 ・CVD装置用部品 ・ウェーハ研磨用ラッププレート ・ウェーハ搬送用アーム ・各種大型製品や複雑形状品の対応が可能です。 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行

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