【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業： データコントロルズ株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロータリーキルン式連続CVD装置

粉体の連続熱／CVD処理、連続CNT合成などに

反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード／回収機構を有する連続CVD処理装置です。　粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

管状炉CVD装置

長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…

オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

回転CVD炉

リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…

炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

資料進呈『表面処理薄膜コーティングに関する技術資料』

素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種…

東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

ホットフィラメントCVD成膜装置 MPHF

ホットフィラメント（ホットワイヤー）を搭載したコンパクトな卓上型CVD…

試料近くに設けたWフィラメントを最大2000℃に加熱でき、各種反応ガスの分解を促進します。 ガス分解により生成された活性種（ラジカル）が試料表面に堆積して膜を形成します。...【特徴】 ○メタンなどの炭化水素ガスの高温フィラメント分解により、 導電性と耐食性が両立するダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜が作製可能。 ○窒素前駆体をフィラメント加熱機構により加熱分解させることによって、アンモニ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！ 市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。 厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など） 今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社

超薄膜成膜技術　Atomic Layer Deposition

R＆D活動および工業規模での量産用に設計！カスタムメイドのリアクターツ…

原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。 ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への 優れ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

レーザーマイクロジェット加工機「MCS シリーズ」

水ジェットとレーザーのメリットを融合した高精細なレーザー加工機です！

形状】 ■金属： アルミ、銅、ステンレス、ニッケル、チタン ■高度材料： アルミナセラミックス、CBN 焼結体、焼結体ダイヤモンド、 超硬合金、単結晶ダイヤモンド、CVD ダイヤモンド ■加工形状： 切断、穴あけ、溝掘り、チップブレーカー、 　　　　　　 3 次元加工、ダイシングなど ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： SYNOVA JAPAN株式会社

卓上CNT／グラフェン成膜装置

長尺粉体CNTや垂直配向CNTやグラフェン膜を簡単に合成できる卓上型C…

有機液体原料はもちろん、アセチレンガスや メタンガスなどの炭化水素原料ガスと、H2還元ガスの導入ポートも標準装備し、各種CNTの合成を簡単に実現できます。また、基板ヒーターの急冷が可能で、グラフェン膜も簡単に成膜できます。...【特徴】 ○触媒前駆体のフィラメント加熱機構を追加 ○配向CNTだけでなく、 粉末タイプCNTの大量合成も可能 〇基板や粉体表面へのグラフェンの成膜が可能 ●そ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

レーザ加工機　レーザーラインプレシジョン

【エワーグ社】コンパクトなダイヤモンド工具向けレーザープロダクションセ…

『レーザーラインプレシジョン（Laser Line Precision）』は、PCD、CVD-Dなどの超硬合金材の研削、 放電加工といったレーザーによる従来の処理手順を置き換える レーザー精密加工機です。 最大工具径200mm、最大工具長250mmの回転工具および最低内径3mm...

メーカー・取り扱い企業： ワルターエワーグジャパン株式会社

CVD装置用MFCパネル

CVD装置用MFCパネル

弊社の業務内容としては、 半導体、液晶、太陽電池等製造装置用ガス供給装置の設置・製造や 特殊材料ガス配管工事などです。 【製品事例】 ・高純度ガス供給ユニット製作 ・シリンダーキャビネット製作 ・排気ユニット製作 ・除害ユニット製作 ・クリーン自動溶接配管製作 ・真空配管製作 など様々な製造・制作も行っております。 ※詳細は【資料請求】もしくは、会社案内を【カタロ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社湘南テクノ