• 真空用高温ヒータ、静電チャックおよび耐熱衝撃セラミックス 製品画像

    PRSiCおよびGaN製パワー半導体製造プロセスに対応。高温、真空、腐食性…

    更なる省エネルギー化やEVなどに不可欠なパワー半導体。 そのパワー半導体の製造プロセスに不可欠な機能部品は高温で腐食性雰囲気に耐える、 不純物を含まないなど厳しい条件を満足する必要があります。 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズのCVD技術によるTaC部品、ヒータ、静電チャック、 PBN部品は高い耐熱性や耐腐食性を有し、他製品では実現が難しい急速昇降温・超高温を容易に実現できま...(つづきを見る

  • 次世代コーティング技術『FUPC処理』【密着性と熱歪みを克服!】 製品画像

    PR密着強度の不満・熱歪みに伴う寸法精度の限界を解決します!高品質でコスト…

    CVD処理とPVD処理の弱点を解消し、コーティングの常識を変えた フジタ技研のオリジナル技術『FUPC処理』。 自社開発の処理装置による独自のプロセスにより、CVD処理特有の熱歪みにともなう寸法変化を極力抑制し、同時にPVD処理では不可能だった強力な密着性を実現しています。 【特徴】 ■TiNの欠点である低硬度を改良してTiCに近い硬度を持たせたコーティング ■FUPC-TiCN膜よ...(つづきを見る

  • CVD装置向けモジュールヒーター 製品画像カタログあり

    CVDコーティング装置向けモジュールヒーター

    超硬チップや金型のコーティングに使用するCVD装置向けのモジュールヒーターです。 ご希望の炉寸法、仕様に容易にカスタマイズ可能ですのでお気軽にご相談下さい。...(つづきを見る

  • 【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃ 製品画像カタログあり

    CVD, PVD(蒸着, スパッタ, PLD, ALD等)均熱性・再現…

    ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。 【ラインナップ】 ◎ SH-IN(インコネルプレート):φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN(BNプレート, Moカバー):φ1.0〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用 【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...(つづきを見る

  • ヒーター 各種設計・製造・改造 製品画像

    配管ヒーターもお任せください!

    【各種設計・製造】 ○半導体向けCVDヒーター ○LCD向けヒーター ○ホットプレート ○基板加熱ヒーター 【ヒーター改造】 ○一体化、分割化等 ○配管ヒーター 【配管ヒーターの設計・施工】 ○各装置用配管ヒー...(つづきを見る

  • 真空成膜用ヒータ 製品画像カタログあり

    低ノイズプレートヒータなどの真空成膜用ヒータを多数ラインアップ!

    オーナルテックでは『真空成膜用ヒータ』を多数取り揃えております。 スパッタ/CVD用の「真空用丸型高温ヒータ」をはじめ、 「多目的用輻射型ホットプレート」などをラインアップ。 当社は熱に関する課題に対して、ヒータシステムの設計・製作を行っております。 1点の試作からで...(つづきを見る

  • 印刷ヒーター 製品画像カタログあり

    スクリーン印刷技術や薄膜形成技術を用い、基材と発熱体を自由に組み合わせ…

    スクリーン印刷技術や薄膜形成技術を用い、用途やご希望基本スペックに合わせ、各種基材と各種発熱体を組み合わせたヒーターを開発します。 ※組み合わせられる基材や発熱体、形状は下記をご参照ください。    【基材】     【基材形状】     【発熱体】 ■超耐熱結晶化ガラス  ■板、シート  ■厚膜(スクリーン印刷) ■セラミック各種    ■筒状     ■薄膜(スクリーン印刷) ■...(つづきを見る

  • 【用途・適用炉形式】金属フレームヒータ 製品画像カタログあり

    炉内900℃まで対応!クリーンな環境で使用できる工業用電熱ヒータ

    【用途】 ■各種金属熱処理炉(焼入・焼鈍・均質・浸炭) ■各種線材 ■パイプ連続炉処理炉(ステンレス・銅・アルミ等) ■アルミ溶解炉・保持炉 ■ロー付け炉 ■半導体用拡散炉 ■CVD炉 ■弱電・電子関連連続処理炉 ■ガラス熱処理炉 ■各種実験炉 等 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...(つづきを見る

  • 排気配管内N2ヒーター(コントローラ内蔵型) 製品画像

    配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

    半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用N2ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...CVD装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...(つづきを見る

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