- 製品・サービス
204件 - メーカー・取り扱い企業
企業
59件 - カタログ
200件
-
-
PR素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中!各種…
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工(コーティングサービス)を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
-
-
PRソーラーを接続するだけで使える蓄電システム!最大9.6kWhの蓄電池容…
単相3kW出力のパワコンと7.2kWhの蓄電池を内蔵した据置型のオフグリッド蓄電システムです。 4kWまでのソーラーパネルを接続可能。 配線はソーラーと出力部のみのため容易に設置可能。 【設置用途例】 ・山小屋 ・作業小屋 ・小規模店舗 ・小規模事務所 ・小規模工事現場 ・ユニットハウス ・トレーラーハウスなどに好適です。 ※詳細はPDFをダウンロード頂くか直接お問い...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セイキ
-
-
ヨーロッパ 発の技術!Leuven instruments装置の日本国…
・Shale Cシリーズ:ICP CVD(誘導結合プラズマCVD) 低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ・Shaleシリーズ:PE CV...
メーカー・取り扱い企業: 日星産業株式会社
-
-
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~8インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
-
-
極めて密着性に優れたPVD(FUPC)は、CVD処理特有の熱歪みによる…
フジタ技研のコーティング技術についてご紹介いたします。 「CVD」は、素材表面にコーティングした数ミクロンのチタン膜により、 耐摩耗性能を格段に向上させることが可能。 「FUPC」は、CVD処理特有の熱歪みによる寸法変化を解消し、強力な 密着性を重視...
メーカー・取り扱い企業: フジタ技研株式会社
-
-
研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…
『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…
『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ
-
-
高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)
量産向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 高生産性 連続…
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・~56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ~12インチ) ・真空・プラズマ不要 (熱CVD) ・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
-
-
少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式…
A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適 ・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜 ・密閉式チャンバーによる高い安全性と成...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
-
-
小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…
D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・異形状・サイズ基板の同時処理 ・高い成膜速度 ・シンプルメンテナンス ・省フットプリント ・低CoO(低ランニングコスト) 【...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
-
-
CVD処理特有の熱歪みによる寸法変化を解消するPVDコーティング
CVD処理特有の寸法変化を極力抑制!PVD処理では困難の強力な密着性を…
フジタ技研のコーティング技術についてご紹介いたします。 「CVD」は、素材表面にコーティングした数ミクロンのチタン膜により、 耐摩耗性能を格段に向上させることが可能。 「FUPC」は、CVD処理特有の熱歪みによる寸法変化を解消し、強力な 密着性を重視した独自...
メーカー・取り扱い企業: フジタ技研株式会社
-
-
太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…
AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。 【特徴】 ・156mm角/125mm角ウェハ対応 ・1500枚/hの高生産性 ・太陽電池用薄型ウェハ対応 【用途】 ・拡散/インプラ用ハードマ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社渡辺商行
-
-
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜など その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
-
-
CVD ダイヤモンド研削、切断、ドレッシング、コーティング、熱管理用及…
CVDダイヤモンドプレートは超精密切削工具の中仕上げ、仕上げ、超仕上げ、連続切削に使用されます。 さらに、CVD ダイヤモンドは他のハイテク産業(ダイヤモンドドレッサー、伸線ダイス、エレクトロニクス、光学窓、ヒートスプレッダー、宝石産業等) にも使用されます。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社MORE SUPER HARD PRODUCTS CO.,LTD.
-
-
「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」な...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…
常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。 搬送...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社天谷製作所
-
-
横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm!電子グ…
ダイヤモンド合成のCVD法の目覚ましい進歩により、放射線検出に適した 特性を持つダイヤモンドを定常的に製造することが可能になりました。 CVD法の継続的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、 大...
メーカー・取り扱い企業: 合同会社SUPERHARD JAPAN
-
-
3L容器までコーティング可能!容器軽量化による物流コストの低減などに貢…
当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、 樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティ...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
-
-
【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 様々なご提案!
【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案!】
こんなお困りごとはありませんか? 課題、用途に適した膜種、方式を提案 【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある ↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがあ...
メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
-
-
粉体の連続熱/CVD処理、連続CNT合成などに
反応管の傾斜と回転機構により、粉末試料の連続フィード/回収機構を有する連続CVD処理装置です。 粉末試料表面へのカーボコート、熱処理、CVD処理、ドープ処理などの大量生産が可能。 大面積の配向CNT基板や、多収量の粉末タイプCNTの大量生成に適します。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ
-
-
フロー管理システムが搭載!粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…
『EVADシリーズ』は、ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能な、 CVD、PECVD横型炉装置です。 シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布を制御し、 回転機構付き高品質ステンレス製チャンバーにより粉体へも 高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイテック・システムズ
-
-
コンパクトで省電力!デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...
メーカー・取り扱い企業: アリオス株式会社
-
-
長尺粉体CNTの生成、基板への垂直配向CNTの成長、粉体試料表面へのカ…
オプションで、アンモニアガスや、その他のCVDガスの導入ユニット、CVD反応用の固体や液体前駆体の導入ユニットを追加することにより、窒化処理、カルコゲナイド層状物質の成膜も可能です。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ
-
-
リチウムイオン電池用Si系や黒鉛系負極材表面への均一なCVDカーボンコ…
炉心管を回転させ、粉体試料を攪拌させながら、CVDプロセスを可能にした装置。攪拌作用により、均一なCVD処理が可能になる。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マイクロフェーズ
-
-
受託サービス(CVD、スパッタリング、パターニング、エッチング)
ウェハー上への微細加工、確かな技術で幅広い受託サービスを提供します。
少量試作・開発・量産まで、成膜加工(CVD、スパッタリング)・パターニング(フォトリソ)・エッチング加工に関する受託加工サービスを提供いたします。 成膜は、ウエハー上に数百ナノの絶縁膜、金属膜を形成。 パターニング(フォトリソ)は...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社九州セミコンダクターKAW 山香工場
-
-
対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等!基板加熱機構付き(最高設定…
当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。 立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギングが可能です。 当社では実験装置から...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社DINOVAC
-
-
パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。
膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本生産技術研究所
-
-
PVD CVD コーティング膜の特性と選定方法【凝着トラブル編】
金型に適したコーティング(PVD , CVD)を選定できてますか?本資…
本資料は、金型に用いるコーティング膜の特性・選定に関する情報を 実際の損傷例をまじえ、分かりやすく解説した資料です。 第2弾となる今回は、早期摩耗や欠け・剥離といった問題を引き起こす “凝着”に焦点をあて、発生原因や対策ポイントを紹介しています。 【掲載内容】 ■凝着はなぜ起こるのか ■硬質膜に要求される特性とは ■硬質膜の膜種と特性の違い ※詳しくは「PDFダウンロー...
メーカー・取り扱い企業: フジタ技研株式会社
-
-
高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC
『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた 半導体特性を持つ薄膜です。 当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、 高純度のSiC膜を最大2m...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社インターフェイス
-
-
3種類の堆積装置をラインアップ!用途に合わせてお選びください
株式会社片桐エンジニアリングが取り扱う、『ナノカーボン堆積装置』を ご紹介いたします。 当製品は、ナノカーボン材料を合成可能なCVD装置です。 「CND-050LP」をはじめ、大面積ナノカーボン堆積装置「LCND-200」や PNナノカーボン堆積装置「NCD-050W」をラインアップ。 用途に合わせてお選びいただ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング