• 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA 製品画像

    【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

    PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…

    IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

    メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社

  • 【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ 製品画像

    【プラズマCVD 装置】アピステのチラーPCUシリーズ

    アピステのチラーはノンフロン・高耐久・超ワイドレンジの3シリーズ展開!…

    【プラズマCVD 装置】 冷却水温を一定に温調することで、反応室やプラズマ電極、基板の最適温度を保ちます。 ーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーーー 【選べる3シリーズのチラー】 1....

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アピステ

  • ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』 製品画像

    ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD

    触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け!統合されたガス分配システ…

    当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを 提供しています。 インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が 利用可能。 特殊設計のソースフ...

    メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社

  • TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ 製品画像

    TruPlasma Bipolar 4000(G2.1)シリーズ

    波形と周波数のフレキシビリティ!圧倒的な品質と性能を誇るプラズマCVD

    0(G2.1)シリーズ』は、半導体製造、建築用 ガラスコーティング、太陽電池生産、高品質の硬質・装飾コーティング、 光学膜向けの水冷式電力供給装置です。 信頼性と性能が重要となるプラズマCVD(PECVD)と二重陰極スパッタリング プロセスに好適。 エネルギー効率と力率、最高クラスのアーク制御を有します。 【3つの大きな利点】 ■波形と周波数のフレキシビリティ ■最高...

    メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社

  • 薄膜技術の基礎知識『薄膜技術とは?』 ※資料進呈 製品画像

    薄膜技術の基礎知識『薄膜技術とは?』 ※資料進呈

    CVDとPVDの比較や流量計と圧力計の応用、プロセス制御のデジタル化と…

    属コーティング ・フレキシブルな太陽電池 薄膜技術とは、「基板表面と呼ばれる対象物に薄膜材料を作成、コーティング、加工するプロセス」と定義されています。 本資料では、薄膜技術の説明やCVDとPVDの比較や流量計と圧力計の応用、プロセス制御のデジタル化とアプリケーション事例をご紹介しております。 是非、ご一読くださいませ。 ★CVDとPVDの説明をさらに掘り下げた基礎知識や ...

    メーカー・取り扱い企業: ITWジャパン株式会社

  • リニアPECVDプラズマ源  製品画像

    リニアPECVDプラズマ源

    物理蒸着(PVD)プラズマ源以外に、様々な化学的気相成長(CVD)プラ…

    『リニアPECVDプラズマ源』は、標準的な静電容量結合プラズマ電極に類似した 製品です。 インラインダイナミックモードで動作しており、基板、キャリア、または ウェブは絶えず電極を通過し、連続的に製膜されて...

    メーカー・取り扱い企業: フォンアルデンヌジャパン株式会社

  • 排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea 製品画像

    排ガス除害・除粉装置・ウェットスクラバー Panacea

    ドライエッチ、CVD、エピタキシャル成長プロセスから排出される、有毒ガ…

    高効率ミキサーを使用して、半導体、液晶工場等のドライエッチング、CVD工程等で発生する排ガス中に含まれる塩素等のハロゲンガス、粉体生成物等を水のみで除害します。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

  • 真空焼結炉 FVS-I 誘導加熱式 製品画像

    真空焼結炉 FVS-I 誘導加熱式

    最高3200℃までの高温に対応可能!黒鉛化炉、CVD炉などに導入いただ…

    対応可能。 タンク形状は丸型でφ800×1000H(mm)の炉内有効寸法の実績があります。 溶解、焼結、焼成、ホットプレスなど、様々な業種で必要とされる 熱加工方法に対応でき、黒鉛化炉、CVD炉などに導入いただけます。 【特長】 ■最高3200℃までの高温に対応できる ■タンク形状は丸型でφ800×1000H(mm)の炉内有効寸法の実績あり ■様々な業種で必要とされる熱加工...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工業株式会社 滋賀工場

  • チャージアップモニタウエハ(8インチ、12インチ) 製品画像

    チャージアップモニタウエハ(8インチ、12インチ)

    ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…

    ウエハ、パターンウエハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、V...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック  本社

  • 半導体製造装置用プロセスコントローラー 製品画像

    半導体製造装置用プロセスコントローラー

    グラフィカルに各種装置・PLCを制御!医療・農業など異分野へ幅広い応用…

    『半導体製造装置用プロセスコントローラー』は、当社の縦型減圧CVD装置 「HG-21」に搭載された、オリジナルの製品です。 産業機器、医療・農業など異分野へ幅広い応用が可能。 PCから簡単にプロセス条件の変更が行えます。またDI・DO・AI・AOで...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハイテクノサービス

  • 株式会社三建アクセス 事業紹介 製品画像

    株式会社三建アクセス 事業紹介

    先進の技術力と、最新の情報力で、開発ニーズに応える株式会社三建アクセス

    環境設備の販売及び設置工事 ○エマルジョン燃焼による工場排水処理装置の設計、施工 ○燃焼設備、低温排水の回収、その他省エネルギーに関するエンジニアリング ○各種システムによる省力化設備 ○CVD、PVD、溶射等の表面処理加工品の販売、その他 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三建アクセス

  • セトラ社 工業用OEM圧力センサ モデル522シリーズ 製品画像

    セトラ社 工業用OEM圧力センサ モデル522シリーズ

    セトラ社 モデル522汎用圧力センサは、優れた安定性と高精度を必要とす…

    セトラシステムのモデル522汎用圧力トランスデューサーは、優れた安定性と高精度を必要とするOEM産業用アプリケーション向けに設計されています。 モデル522のCVDひずみゲージの設計は、長期間の使用による圧力サイクルや熱影響に対して安定して使用出来ます。この長期に渡る安定性は年間0.2%未満の低ドリフトを実現し、高い信頼性をユーザに保証します。すべての接液部...

    メーカー・取り扱い企業: エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社 ST事業部

  • 気体・液体用マスフローコントローラ<真空・圧力計測と制御> 製品画像

    気体・液体用マスフローコントローラ<真空・圧力計測と制御>

    薄膜、コーティング、表面処理は、幅広い産業とアプリケーションをカバーし…

    セス、溶射など、コーテイングの手法はさまざまですが、製造工程の最終段階として行われることが多いようです。 ブルックスインスツルメントのマスフロー、真空、圧力測定および制御装置は、PVDおよびCVDプロセスアプリケーションをカバーしています。また、当社の製品は、熱処理やプラズマ処理プロセスなどの表面処理アプリケーションにも適しています。 【特長】 ■再現性の高い、高精度なガス供給 ...

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    メーカー・取り扱い企業: ITWジャパン株式会社

  • ダイヤモンド ダイヤモンドアンビル/セル 製品画像

    ダイヤモンド ダイヤモンドアンビル/セル

    ダイヤモンド ダイヤモンドアンビル/セル

    Almax Industries 【特徴】 ○ダイアモンド アンビル ○DACセル ○CVDダイアモンド ウィンドウ ○円錐状のサポートは他のアンビル比べ小さく、経済的で、しかも圧力は同じに使用できます。 ○従来のアンビルと台座との組み合わせと比較し、極めて大きい開口角が得られます。...

    メーカー・取り扱い企業: FITリーディンテックス株式会社

  • 熱触媒式除害装置(TCSシリーズ) 製品画像

    熱触媒式除害装置(TCSシリーズ)

    排気ガス中の有害成分を専用触媒により除去します。

    ● 反応副生成ガスにも対応  カーボンナノチューブCVDプロセスで使用される NH3(アンモニア)の他  副生成される可能性が ある毒性の強いHCN(シアン化水素)にも対応。※1 ● 視認性に優れたデザイン  集合表示灯及びタッチパネル(オプショ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 管理部署:企画営業部

  • 熱媒体(油)循環装置『KCOシリーズ』 製品画像

    熱媒体(油)循環装置『KCOシリーズ』

    最高320℃に対応!各種警報回路や専用コントローラーを搭載。高精度な温…

    【特長】 ■PID制御による高精度な温度制御が可能 ■160℃から320℃までニーズに応じて型式を選択OK ■CVD装置の温調、反応装置のジャケット温調、射出成形金型温調、  各種ロールの温度コントロールなどに活躍 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社レイケン 本社、南関東営業所、大阪支店、中部営業所、茨城工場、大阪工場

  • 半導体製造装置向けボードコンピュータ『HPUD100』シリーズ 製品画像

    半導体製造装置向けボードコンピュータ『HPUD100』シリーズ

    画像処理、HMI、リアルタイムモーションコントロール用途に好適!長期安…

    長寿命設計 ◆BIOSカスタマイズ対応 高信頼性が求められる、 以下の様な半導体製造装置への組込みに適しています。 ◆露光装置 ◆エッチング/薄膜形成装置 ◆レジスト処理装置 ◆CVD装置 ◆スパッタリング装置 ◆ダイシング装置 ◆エージング装置 ...

    メーカー・取り扱い企業: 萩原テクノソリューションズ株式会社 事業企画本部 事業推進部

  • 排ガス除害・屋内タイプ大流量ウェットスクラバー EXシリーズ 製品画像

    排ガス除害・屋内タイプ大流量ウェットスクラバー EXシリーズ

    バブリング・スプレー方式で国内外で1000台以上の納入実績あり! 信…

    従来のバブリング・シャワータイプで、小~大流量ガス除害(最大~60m3/min)に最適です。対象ガスはCl2, HF, HCl, HNO3, NH4, CVD燃焼排ガス, 有機・無機系ガスでNaOH薬液供給も可能です。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社東設 本社ヘッドオフィス

  • 蒸気供給装置『VDMシリーズ』 製品画像

    蒸気供給装置『VDMシリーズ』

    高速・正確・高い再現性で効率的!配線と配管をつなげるだけで動作!分析等…

    【適用例】 ■CVD等 ■各種分析計のテスト/キャリブレーション用リファレンスガス発生用 ■毒ガス防護服の効果検査等 ■分析計(湿度計)用H2Oベーパー濃度リファレンス発生用 ■燃料電池の加湿 ■麻酔システ...

    メーカー・取り扱い企業: ブロンコスト・ジャパン株式会社

  • 低圧水銀ランプ 製品画像

    低圧水銀ランプ

    クリーンな殺菌、脱臭と洗浄、改質による接着力をアップさせる低圧水銀ラン…

    表面改質 ■光酸化水処理・促進酸化水処理 ■難分解有機性ガス分解 ■オゾン発生・オゾン分解 ■イオン化・イオン除去 ■殺菌・貝類の産卵誘発 ■ICメモリー消去 ■光アッシング・光CVD ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: シーズ株式会社

  • ハザードスイーパー.ミストスクラバー 製品画像

    ハザードスイーパー.ミストスクラバー

    ハザードスイーパー.ミストスクラバー

    IMPLA・CVD設備のO/Hメンテナンス時の可燃性デポ物の除去、クリーニング作業に使用します。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社メカテック 

  • メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内 製品画像

    メンテナンス・リサーチ株式会社 会社案内

    真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

    ッタリングカソード ○短形スパッタリングカソード ○シリンダー型スパッタリングカソード ○スパッタ用各種ターゲット ○高インパルススパッタ電源 ○アークプラズマ用パルス電源 ○プラズマCVD用パルス電源 ○メンテナンス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

    メーカー・取り扱い企業: メンテナンス・リサーチ株式会社

  • サーモシステム事業 製品画像

    サーモシステム事業

    電気をエネルギー源とした各種工業加熱システムを提供するサーモシステム事…

    ーモシステム事業」についてご紹介します。 誘導加熱装置のメーカーとしてスタートし、産業構造の変遷に柔軟に対応。 鉄鋼など金属の溶解炉、ファインセラミックスなどの焼成炉、シリコンの 溶融、CVDなど各種の表面処理、熱処理設備とバラエティを広げています。 熱加工を必要とする様々な業界のお客様の多彩なニーズをくみ取って、 高温から低温まで、システム化された好適なソリューションを提供し...

    メーカー・取り扱い企業: 富士電波工業株式会社 滋賀工場

  • 製品案内 装置 製品画像

    製品案内 装置

    表面分析用チャンバーや蒸着用チャンバーのご紹介

    【使用例】 ■MBE装置 ■CVD装置 ■有機材料成膜装置 ■分析装置  他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社

  • 実績技術 ナノ関連 製品画像

    実績技術 ナノ関連

    電気抵抗の改善や、ナノ粒子が小さいのでPtの量を減らす事が可能。

    】 ○カーボンナノホーンを、20%殻30%含んだナノカーボン物質に、Ptを37wt%で胆持した結果、  従来よりも電気抵抗の改善や、ナノ粒子が小さいのでPtの量を減らす事が可能になった。 ○CVD方式SWナノチューブ製造装置 ○アーク方式SWナノチューブ製造装置 ○連続ナノチューブ製造機 ○連続ナノホーン製造機 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。...

    メーカー・取り扱い企業: エイアールブイ株式会社

  • 【開発事例のご紹介】制御システム開発賜ります 製品画像

    【開発事例のご紹介】制御システム開発賜ります

    豊富な開発実績でお客様の業務をサポートいたします!

    ビリカは、制御システム設計からハードウェア設計、システム立ち上げまでトータルでサポートいたします。 事例は全て自社開発ですが、制御だけのご相談もお受けします。 【開発事例】 ■レーザCVD配線形成装置(半導体メーカー様納入) ■2.5in HDD HSA Modular Line(HDDメーカー様納入) ■流体軸受スピンドルモーター組立装置(小形モータメーカー様納入) ■イン...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アビリカ

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