CVD | イプロスものづくり

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA

PR産業用マネージドPoE+ギガビット光スイッチ：IGPS-9084GP…

IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル｢O-Ring/Open-Ring/O-RSTP｣等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...

メーカー・取り扱い企業：データコントロルズ株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CV...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド製作実績をご紹介します。「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」な...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

常圧CVD装置「AMAX800V」

優れた膜厚・不純物濃度の均一性。高生産性と低価格を実現した常圧CVD装…

常圧CVD装置「AMAX800V」は、φ200mmウェーハ対応、モノシランガスの反応特性を応用したUSG、PSG、BPSG等の絶縁膜およびシリコン基板の裏面保護膜を形成する連続式常圧CVD装置です。搬送...

メーカー・取り扱い企業：株式会社天谷製作所

電子グレードCVD

横の許容は+0.2/0-0mm、厚さの許容は+/-0.05mm！電子グ…

ダイヤモンド合成のCVD法の目覚ましい進歩により、放射線検出に適した特性を持つダイヤモンドを定常的に製造することが可能になりました。 CVD法の継続的な改善により、将来的にはエキサイティングな進歩を遂げ、大...

メーカー・取り扱い企業：合同会社SUPERHARD JAPAN

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

当製品は、当社が得意としているプラズマCVDプロセス技術を応用し、樹脂容器材質として一般的に普及している「PETボトル」への DLCコーティングに特化した成膜装置です。 PETボトル内面へサブミクロンオーダーのDLC薄膜コーティ...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】　様々なご提案！

【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】

こんなお困りごとはありませんか？課題、用途に適した膜種、方式を提案【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがあ...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャン...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社