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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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【産業用管理ギガビットPoE光ハブ】IGPS-9084GP-LA
PR産業用 マネージドPoE+ギガビット光スイッチ:IGPS-9084GP…
IGPS-9084GP-LAは8×10/100/1000Base-Tと4×100/1000Base-X(SFP)を備え、IEEE802.3atに準拠した産業ネットワーク向けのマネージドギガビットPoE+イーサネットスイッチです。 STP/RSTPは始め、ベンダー独自の冗長プロトコル「O-Ring/Open-Ring/O-RSTP」等のリカバリプロトコルに対応しており、ネットワークの中断や一時的...
メーカー・取り扱い企業: データコントロルズ株式会社
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透過測定、蛍光測定に適した使い捨て分光測定用キュベット。
『CVDシリーズ』は、2次汚染のリスクを防ぐ使い捨てキュベットです。 「CVD-UV」は、波長範囲220 - 900 nmに対応した紫外域測定用キュベット。 また「CVD-VIS」は、波長範囲35...
メーカー・取り扱い企業: オーシャンフォトニクス株式会社
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パルス機能を利用!ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成す…
A.S.T.(R)』は、産業向けALDレベル膜質のプラズマ成膜装置です。 パルス機能を利用することで、ALD(Atomic LayerDeposition:原子層堆積)と 同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能。 プロセス温度は80℃~500℃でウエハサイズは150mm、200mm、成膜速度は 0.1nm/min~500nm/minとなっております。 【仕様...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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Radimoラジカルモニター <対向型ラジカルモニターDP型>
世界初のプロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置です。
ジカルを真空紫外吸収分光法を用いて ダイレクトに計測し、プロセスにフィードバック可能 ○ICF70フランジに取付可能 ○各種プラズマ装置に取付可能 →EBEP処理装置、CCPエッチング/CVD、Cat-CVD、 ICPエッチング/CVD 等 ○真空排気系一体制御型モニタリングシステム等、システム構成は お客様のニーズに対応 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社片桐エンジニアリング
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ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成!CMPプ…
Advanced Ceramics社のCMPプロセスで使用する表面がダイアモンドで覆われた独特の構造のパッドコンディショナーを提案致します。ダイアモンド砥粒をシリコン基板、あるいはセラミック基板にCVDコーティングした構造です。ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成しました。耐スラリー性も強く、スラリーによる化学的な侵食もありません。また、ダイアモンドの欠落、粉砕が一切なく...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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常に新しい技術を追求し、より高いレベルの製品づくりに努めています!
社におよぶ ユーザーへ提供するまでになり絶大な信頼を得ております。 【事業内容】 ■真空炉、電気炉、燃焼炉及び附帯機械設備、燃焼設備、制御装置の 設計、製作、施工 ■金属熱処理及びCVDコーティングの受託加工 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 中日本炉工業株式会社
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小型・高性能を実現した飛行時間型質量分析計。ガス組成をリアルタイムで、…
シリーズ 小型・高性能を実現した飛行時間型質量分析計。ガス組成をリアルタイムで、高分解能、高感度にモニター可能。半導体、ソーラーパネル製造、OLEDディスプレイ、光学、真空コーティング工程(CVD、PVD、ALD)の研究開発にご使用いただけます。 IonTamerの装置は、ネットワーク経由で完全に制御・操作。直感的なソフトウェアで、測定データ取得が簡素化を実現。ソフトウェア開発キット...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー
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