• ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』 製品画像

    ガス加熱用高効率ヒータ『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』

    PR小型・軽量で高効率!手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータをご紹介

    ワッティーが提供する『ヒートエクスチェンジャーWEX SS』は、 280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータです。 低流量1~5L/min 250℃対応。 K熱電対、サーモスタット、外装用断熱材を標準装備しております。 【特長】 ■280g軽量かつ、手のひらサイズ以下の超小型ガス加熱用ヒータ ■低流量1~5L/min 250℃対応 ■K熱電対、サーモスタ...

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    メーカー・取り扱い企業: ワッティー株式会社

  • データセンターのOPEX削減・効率化ツール 製品画像

    データセンターのOPEX削減・効率化ツール

    PRデータセンターの効率化とサステナブルなイノベーション

    ケイデンスのデジタルツイン技術を活用することで、データセンターのパフォーマンスを考慮した設計・運用計画を行うことができます。データセンター技術者は、仮想空間上で将来を見据えた設計、運用方針の検討を行うことが可能です。ケイデンスのデータセンター向け製品を使用することで、設計者・所有者・運用管理者は信頼性と効率性のバランスが取れたデータセンターを実現できます。...Cadence Reality DC...

    メーカー・取り扱い企業: 日本ケイデンス・デザイン・システムズ社

  • Film Deposition&Heat Treatment 製品画像

    Film Deposition&Heat Treatment

    Equipped with various film depositi…

    PBII is suitable for carbon film for pre-annealing of SiC, RTA is for annealing....Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form elect...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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    Implantation Simulation

    Simulation for ion species, depth a…

    Customer's request "How much energy and dose should be used to achieve the desired depth and concentration?" And "What depth distribution of dopant ions will be given at the specified energy and dose....

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

  • Implanter line-up  製品画像

    Implanter line-up

    Various implanter line-up for your …

    We can perform ion implantation processing under various conditions according to customer requirements, with a wide variety of samples from chips to 12-inch wafers. The implantation conditions range f...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター

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