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PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…
<主な特徴> ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 <多様な物理モデルや機能> ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数(1次、2次のグレーティング) ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■2次グレーテ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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高田工業所社製試作用枚葉式ウェット処理装置『TWPmシリーズ』
リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う試作研究用…
■基本仕様 ・材質:Si , 化合物 ( GaAs , InP , Sapphire , SiC , GaN ) 等 ・サイズ: 2, 3, 4, 5, 6, 8インチ(2サイズ兼用可) ・洗浄チャンバー数:1 ・スクラブ処理:高圧ジェット...
メーカー・取り扱い企業: JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室
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スラリー同時噴射で加工パワーの大幅アップを実現する洗浄機!
【洗浄アプリケーション】 ■GaAs,Fe-RAM,GMR-Head等リフトオフ、エッチング後のバリ取り ■メタル種類:Pt,Ir等高高度貴金属系及びNiFe、Crなどの多層膜 ■有機,無機ELのITO上(EL素子成膜前)の有機...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フェムテック
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高田工業所社製量産用枚葉式ウェット処理装置『TWPシリーズ』
リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う量産用枚葉…
■基本仕様 ・材質:Si , 化合物 (GaAs , InP , Sapphire , SiC , GaN) 等 ・サイズ: 2, 3, 4, 5, 6, 8インチ(2サイズ兼用可) ・スクラブ処理:高圧ジェット/2 流体ジェット/超音波シ...
メーカー・取り扱い企業: JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室
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上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。
きの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 ◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 ◎Maxサイズ:Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ソフエンジニアリング
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