溶剤回収装置(真空蒸留式)『HRSシリーズ』

PR溶剤の有効成分の回収！運転やバルブ操作は、空気圧や窒素圧による遠隔操作…

本装置は、廃溶剤液から水分や不純物を除去し、溶剤の有効成分の回収を行う装置です。 【特長】 ■溶剤のリサイクル、廃液処理のコスト削減 ■空気圧・窒素ガスによる遠隔操作方式の為、高い安全性確保 ■連続減圧蒸留方式で蒸留ユニットは防爆仕様 ■設置・移動が簡単な省スペース設計 ■簡単操作、自動運転 ■安全に留意した自動停止機構 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業： プリテクノジャパン株式会社

薬液供給装置（連続式）　P112

PRプロセス装置に連続で薬液を供給

本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である 【仕様】 ○外形寸法：W1720*D810*H2010 ○重量：約800kg 本装置はプロセス装置に予め決められた濃度の薬液を供給するための装置である。最大、2種類2系統の薬液を供給することが出来ます。希釈濃度や供給量など動作に関する詳細はご希望内容に対応させていただきます。...●その他機能や詳細については、カタログダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

ＲＦフィルタ

高性能でコンパクトなＲＦフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…

リジェクションなど、いろいろな高周波フィルタを、装置開発の段階より仕様に合わせた提案が可能です。 米国内の大手半導体製造メーカーへの採用実績が多くあり、必ずご期待に応えることができます。 ・1MHz～50MHzの周波数範囲内で設計可能でコンパクトな、高インピーダンスのフィルター ・大電流・高電圧アプリケーションにて使用可能 ・複数のフィルターを並列に並べることにより多チャンネルを1個の製...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

エッチング装置

エッチング装置

50〜300mm） ○材料厚み：PI 25μm〜 ○加工面：片面 ○装置構成 ：巻出〜エッチング〜水洗〜液切り〜乾燥〜巻取 ○ユーティリティー 　・電源　AC200V・220V / 50Hz・60Hz 　・市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、( スチーム ) ○装置寸法 ：16m（L）×2.5m（W）×2.5m（H） ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

さ：100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄　40ボーメ（サンハヤト製　H-20L指定） エッチング液フィルター ハウジング：住友スリーエム　キュノ　1M1-PP　250mmタイプ 交換用フィルター：ダイワボウ　セキソウSタイプ（S-50標準装備） エッチング液ノズ...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率い...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

バルクエッチング装置『BEM-301』

エッチング量（深さ）とウェーハの材質を指定するだけで何方でも容易に使用…

ッチング量をモニターしながらエッチングを行いますので、 高精度のエッチングが可能。 また、1枚目からでも正確なエッチングを行うことが可能です。 【仕様】 ■エッチングレート：2μm/H以上 ■平坦度：10%以内 ■エッチング量（深さ）の精度：±5%以内 ■ユーティリティ：O2、N2、HF、DIW、冷却水、AC-100V、AC-200V、酸排気、酸排水 ■外形寸法：1,00...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社NAS技研

PECプロセス装置

シンプル構造で低価格を実現！GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹…

銀灯315～400nm 15mW/sm2以上 ■UVC光源：プラズマ光源220～320nm 12mW/sm2以上 ■薬液供給：2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液 ■外形寸法：1470（H）×650（W）×750（D） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三明 本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所

小型プラズマクリーナー（簡易型枚葉式プラズマクリーナー）

小型プラズマクリーナー（簡易型枚葉式プラズマクリーナー）

本装置は、平行平板型高周波プラズマを使用した簡易型枚葉式プラズマクリーナーです。 600mm（W）×600mm（D）×750mm（H）（ポンプ除く）の小型プロセス装置です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社リバティー

エッチング装置（2）

搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応！薬液温度・圧力…

【その他の仕様】 ■ユーティリティー：電源（AC200・220V／50・60HZ）、 　純水、市水、圧空、冷却水、スクラバー、熱排気、（スチーム） ■寸法：10.0m（L）×3.0m（W）×3.0m（H） ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しくはPDF資料をご覧いただく...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

有機・無機問わず高いエッチング効果！

出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ガス系 マスフロコントローラ１系統(２系統はオプション) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

【仕様（抜粋）】 ■装置寸法：240mm(W)×390mm(D)×350mm(H) ■重量：20kg ■真空ポンプ：ドライポンプ（15L） ■加工範囲：28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス：CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

または負荷一定時） 冷却能力：700～900W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：0.8L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W510×H270(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

エッチング装置　高精度エッチングライン

上エッチングは独立圧調でさらに高精度。FPC搬送対応可能。

オシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは独立圧調でさらに高精度 ○FPC搬送対応可能 ○板厚50μmのワークが安定して流せる 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ（有効幅）　610mm ○処理液　塩化第二鉄等 ○搬送速度　0.4～3.5m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

剥離装置　剥離・アルカリエッチングライン

高精度なアルカリエッチングが可能な、高精度処理タイプです。

ジストの微細片を処理するカス取り機構付 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ（有効幅）　610mm ○処理液　水酸化ナトリウム水溶液 ○搬送速度　0.4～3.5m/min ●詳しくはお問い合わせ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

エッチング装置　ソフトエッチング・小径穴洗浄ライン

理想的なノズル配置により技群の面精度を実現、小径孔も確実に洗浄

ノズル配置により技群の面精度を実現 ○直進性の高いスリットで小径孔を洗浄 ○高精度エアーナイフにより孔内の乾燥も実施 ○板厚50μmのワークも搬送可能 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H） 15362 × 3000 × 1400 mm ○基板サイズ（有効幅） 600mm ○処理液 硫酸-過水系 ○搬送速度 0.06～6m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

小型超高精度エッチング装置　ＭＰＥ４０

小型超高精度エッチング装置　ＭＰＥ４０

程】投入→エッチング→液切→酸洗→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ　厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860ｍｍ ・材料開発やテストに最適 ・研究から少量生産に対応 ・PCB・LCDのエッチングが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

銅表面粗化処理装置　マイクロエッチング装置

板厚５０μｍのワークを安定して搬送可能、FPC搬送対応も可能です。

【特徴】 ○板厚５０μｍのワークを安定して搬送可能 ○高い面精度で均一な表面処理を実現 ○FPC搬送対応も可能 【仕様例】 ○装置寸法（L×W×H）　13625 × 4050 × 1350 mm ○基板サイズ（有効幅）　500mm ○処理液　各薬液メーカー対応 ○搬送速度　1～4m/min ●詳しくはお問い合わせ、もしくは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

小型薄板用エッチング装置　ＦＢＥ４０

小型薄板用エッチング装置　ＦＢＥ４０

ナイフ→エッチング→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50ｍｍ　厚み0.03〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230ｍｍ ・材料開発やテストに最適 ・研究から少量生産に対応 ・PCB・LCDのエッチングが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

研究開発用エッチング装置　ＳＰＥ４０

研究開発用エッチング装置　ＳＰＥ４０

【工程】投入→エッチング→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ 厚み0.4〜2.0ｍｍ【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDのエッチングが可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

保守・メンテナンスサービス

半導体・液晶・太陽電池製造設備の保守・メンテナンスは当社にお任せ下さい

各種電子デバイス製造装置の保守・メンテナンスを行っております。 24h体制の常駐対応からスポットの定期点検まで、ニーズに合わせて対応致します。...＜対応実績＞ CVD装置, Dry Etching装置, 拡散炉/酸化炉, Wet洗浄装置, Wet Etching装置, 基板搬送装置, コーター/デベロッパー, ステッパー, など 詳しくは、お問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

【アプリケーション】 ■PECVD：絶縁膜(Si3N4、SiO2等) ■光学用(a-C：H、DLC) ■ナノクリスタルダイヤモンド、カーボンナノチューブ ■RIE：反応性エッチング(Ni、Cr、Pt..) ■光学用材料(クオーツ、フーズシリカ等) ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

【金属エッチング事例】面状発熱体（ヒーターパターン）

デメリットを解決！特長は、パターン間を繋ぐブリッジ（ツナギ）が無いこと…

ることで、 ブリッジ無しでの加工が可能。 今回の事例のようにブリッジ無しで作成することで、デメリットを解決する ことができるようになりました。 【製品仕様】 ■材質：SUS304-H ■厚み：50μm、100μm ■パターン幅：1mm ■その他：ブリッジレス（片面エッチング）仕様 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 東洋精密工業株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルで...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

エッチング装置（1）

搬送速度は5.0m／min、材料幅は310mmまで対応！金属箔（ALな…

シワなく搬送し連続処理を行います。 【仕様】 ■Lane構成：1Lane ■材料厚み：20μm～ ■加工面：片面 及び 両面 ■ユーティリティー：電源（AC200・220V／50・60HZ）、 　純水、市水、冷却水、スクラバー、 熱排気、（スチーム） ■寸法：15m（L）×2m（W）× 2.5m（H） ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

研究開発用小型エッチング装置　ＨＰＥ４０

狭いスペースＯＫ、使い用途に合わせた設定変更可能、短納期を実現した『小…

工程】投入→エッチング→液切→水洗１→水洗２→絞り→取出し 【基板サイズ】Max.W400×L500ｍｍ　厚み0.4〜2.0ｍｍ 【ノズル揺動】水平揺動 【装置サイズ】W1420×L1950×H1645ｍｍ ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDのエッチングが可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

（無負荷または負荷一定時） 冷却能力：420W＠20℃(周囲温度20℃) タンク：1.0L 接液部材質：アルミニウムまたは銅・真鍮、ステンレススチール、ポリマー 外寸法：L480×W530×H180(mm) ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社