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PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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Film Deposition&Heat Treatment
Equipped with various film depositi…
PBII is suitable for carbon film for pre-annealing of SiC, RTA is for annealing....Film formation ・ PBII (Plasma Based Ion Implantation) Carbon deposition ・ Sputter Possible to form elect...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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【技術事例】MapleSim Heat Transfer ライブラリで…
『MapleSim』は、製品全体で熱現象を捉え、パラメータスタディ可能なモデルを1D CAEで構築することができます。 この事例では、サーマルヘッドによる紙の加熱に加え、紙の搬送による熱輸送を考慮したモデルを作成し、プリンタ筐体内部の空気の温度上昇や、印字部の紙面温度の過渡応答を評価します。 MapleSim の Heat Transfer Library は、次の特長により、標準ライ...
メーカー・取り扱い企業: Maplesoft Japan株式会社
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Simulation for ion species, depth a…
Customer's request "How much energy and dose should be used to achieve the desired depth and concentration?" And "What depth distribution of dopant ions will be given at the specified energy and dose....
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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