ROM書込みサービス

PRお客様は基板に載せるだけ！300社を超える主要ICサプライヤーのデバイ…

『ROM書込みサービス』は、長年の実績があり、当社グループの ISO9001認工場において、高い品質管理の下、作業を行うサービスです。 多品種で小ロット、Microchipをはじめとする主要ICメーカー製品への対応、 小ロットでのテーピング加工など、お客様の様々なご要望に柔軟に お応えする安心の書込みソリューションをご提供。 捺印・リール加工、物流まで安心の一元管理でき、煩雑な管...

メーカー・取り扱い企業： グローバル電子株式会社

【カタログ進呈！】高性能オシロスコープ　PicoScope

PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 ３ GHｚ ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8－12ビット ・メモリ４GS ・アナロ...

メーカー・取り扱い企業： Pico Technology Ltd.

ICP エッチング装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

8"工程用Pishowシリーズ： ・Pishow： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・Pishow A： HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能； pGaNの高エッチング選択比を実現、AlGaN層に低損失制...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した 金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。 半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の 表面処理などの...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど 幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。 実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

　Φ2インチウェハーなら27枚、Φ2.5インチウェハーなら17枚、 　Φ3 インチウェハーなら12枚、Φ4インチウェハーなら7枚、 　Φ6インチウェハーなら3枚同時の処理が可能 ○新型のICPソースであるSSTC（Symmetrical Shieled Tornade Coil）電極の 　採用により、大面積に対して高い選択比と高精度で均一性に優れた 　エッチングが可能 ○低バイア...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える ■高アスペクト比の穴埋めに適用 ※詳しくはPDFダ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

反応性イオンエッチング装置(RIE)、誘導結合プラズマ (ICP)エッチング装置、イオンビームエッチング装置(IBE)等のドライエッチング装置など各種取り揃えております。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。 ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能 基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

成膜 ⇔ エッチング装置『210D』

簡単なハードウエハ交換で、CVD及びRIEとして使用可。ご要望に応じて…

【仕様】 ■誘導結合プラズマ（Inductively Coupled Plasma：ICP） ■-20℃～150℃ ■～200mmウエハ ■7 x 2"ウエハ、3 x 3"ウエハ バッチ処理可 ■ガスライン8標準（11オプション） ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成…

当社の『Corial 200 Series』をご紹介いたします。 共通プラットフォームを用い、用途に応じてRIE,ICP,ICP+RIE, ICP-CVD又は、PECVDとしてコンフィギュレーションする事ができる 研究開発向け装置。 ウエハサイズは50mm,100mm,150mm,200mmです。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【オーダーメイド製作実績】ドライエッチング装置

「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有し…

ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『ドライエッチング装置』の オーダーメイド製作実績をご紹介します。 「研究開発用ICPエッチング装置」や「ICPプラズマエッチング装置」 「XeF2エッチング装置」「バッチ式アッシング装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える 高アスペクト比の穴埋めに適用 ...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社