ミスト型スポットクーラー『クールミストLine』熱中症対策！

PR熱中症対策の決め手！濡れないミスト式スポットクーラー！

冷却・加湿器「クールミストLine」は、 40℃の環境で作業者が26～27℃の体感が得られ作業員・作業場・商品が濡れず冷却出来ます。 99％がエアー式のミストで1分間に7ccの水をミキシングして気化熱冷却してます。（さびない！） 1台当たり畳一畳から2M四方を冷却出来、水の使用量も1日4L程度（冷却）です。 エアーの使用量は一分間当たり28L掛かりますのでコンプレッサーの容量を検討頂きたいと思いま...

メーカー・取り扱い企業： 東横サポート有限会社

耐圧防爆型液体充填機

PR18L缶/ポリ缶・ドラム缶・IBCコンテナ・キャニスタ缶など各種容器に…

危険場所で使用できる耐圧防爆型の液体充填機です。 防爆エリアでの充填作業の自動化に寄与します。 また、充填機機側に検量秤を設置することにより自動はかりのJIS化(自動はかりの検定対象化)にも対応できます。 設置場所にスペースの余裕のないお客様向けに省スペースの機種もご用意しております。 ハード設計・ソフト製作・組立調整を一貫して自社にて行っておりますので、お客様のご要望に応じたオーダーメイ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社宝計機製作所 本社・工場

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ○膜...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

地方独立行政法人大阪産業技術研究所様に、マグネトロンスパッタリング 装置を納入した事例を紹介させていただきます。 今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロード ロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付ける...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

スフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900Hの省スペース ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のサンプルステージです。 正しいサンプルステージを選択することは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の電子ビーム蒸着源です。 TAUシリーズは"ミニ"電子ビーム蒸着源です。TAUを使用することでHEXシステムを電子ビーム蒸着装置（EB蒸着装置）として使用できます。材料に高電圧が印加され、そ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

『CEX-2420』は、コンビナトリアル・スパッタ装置「CMS-6420」間、 あるいは、パスカル社製「PLD装置」間で、大気暴露なしに成膜試料を 超高真空下で移載搬送できる移動ロードロックシステムです。 L/L室と接続ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、 試料を常に超高真空下に持ち...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

8インチスパッタコーター　SC-708シリーズ

大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4～8インチ…

【仕様】 ○適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Pd 〇スパッタ方式：DC/平行平板型 〇排気操作：手動式 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：282/450/440mm ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

多種金属対応　プログラマブルスパッタコーター

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコータ…

：Au/Pt/Au-Pd/Pt-Pd/Ag/Pd/W/Ni/Mo/Cr/Ti/Al etc. 〇試料サイズ：φ70mm(Max) 〇排気操作：手動式 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　100L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H)：360/422/265mm...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd/Ag 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇スパッタ方式：DCマグネトロン/平行平板型 〇寸法(W/D/H)：225/420/320mm...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

】 〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：Au/Au-Pd/Pt/Pt-Pd 〇試料サイズ：φ50mm(Max) 〇排気操作：自動 〇排気装置：直結型ロータリーポンプ　20L/min(自動リーク付) 〇寸法(W/D/H)：225/420/320 ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の抵抗加熱蒸着源です。 抵抗加熱蒸着法は、最も一般的な真空蒸着プロセスです。ボート型やルツボ型の加熱容器に材料を置き、加熱容器に電流を流すことで抵抗熱を発生させ、材料を加熱します。加熱容器の...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

す。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途：MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H)： 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) ：1,700 - 2,000 kg 最大基板サイズ： 直径150 mm 最大基板キャリア：直径220 mm...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

ターバック式 ○スパッタ方式　DCマグネトロン ○カソード　5インチ×7インチ　2対（うち1対が高使用効率カソード） ○DC電源　800V、3.75A （MAX1.5kW） ○トレイサイズ　L350mm×H210mm ○基板搬送方式　ラック＆ピニオン搬送 ○ストッカー　10トレイ収納 ○排気系　ターボ分子ポンプ 2式／油回転ポンプ 2式 【性能】 ○膜厚分布　トレイ内 ±1...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

【仕様】 ○最大基板寸法　W180×L340×D150mm ○基板材質　PC, PET, PP, PE 等 ○スパッタレート：10nm/sec ○排気速度　0.1paまで30sec ○排気系　RP＋TMP ○生産サイクルタイム...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

0V/0.8A ■カソード：φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット：Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系：ロータリーポンプ 162L/min ■真空計：ピラニゲージ ■ガス流量調整：アルゴン用MFC 20sccm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

【仕様（抜粋）】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しく...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社