• かさ密度0.02g/cm3から検出!粉粒体用上下限検出器 製品画像

    PR業界最高クラスの検出感度!調整が簡単で駆動部がなく耐性の高い『振動式レ…

    『MVLシリーズ』は、微粉体から粉体・粒体とさまざまな粉粒体での 安定検出ができる振動式レベルスイッチです。 温度、湿度、圧力、粉塵、電気的特性の変化の影響を受けません。 調整が簡単で、駆動部がなく耐性に優れています。 また、ハウジングが約310°の範囲で回転する為、取り付け後の リード引出口の方向調整が簡単です。 【特長】 ■かさ密度0.02g/cm3から検出 ■標準...(つづきを見る

  • 高精度レーザー距離計『D-series』 ※デモ機貸し出し可能! 製品画像

    PR最大500mまで瞬時に測定!最大測定レート250Hz。測定精度±1mm…

    『D-series』は、高速測定 250Hzを実現した高精度レーザー距離計です。 当製品は、IP65準拠しており、+60℃の環境でも測定可能。 さらに、100台まで同時接続することができます。(RS422/RS485) また当社では、使用方法、導入、コントロールソフトの開発、設置後の サポート等、技術サポートも万全です。お気軽にお問い合わせ下さい。 【特長】 ■高速測定 2...(つづきを見る

  • 高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF 製品画像

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。 金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。...【特長】 ●絶縁物・金属・半導体材料のスパッタ装置 ●メインポンプにターボ分子ポンプを使用 ●2インチ×3基のカソードで、3層までの多層成膜が可能 ●マグネトロンスパッタで、スパッタ速度30nm/min(SiO2)が得られる ●基板加熱機構(350℃)...(つづきを見る

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像カタログあり

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ...(つづきを見る

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像カタログあり

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着...(つづきを見る

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