• 高温集塵用セラミックフィルター『イソフィルN MARK2』 製品画像

    高温集塵用セラミックフィルター『イソフィルN MARK2』

    PR最高使用温度900℃。繊維径が細く、優れた捕集効率。安全性アップ&コス…

    『イソフィルN MARK2』は、焼却設備などで発生した高温排ガス中の煤塵を 高効率で捕集できる、キャンドル形状のセラミックフィルターです。 耐熱性に優れ、最高使用温度は900℃。火の粉の飛来によるフィルターの 焼損を防止できるほか、フィルター保護用の排ガス冷却装置を省略可能です。 蓄積された断熱技術の実績をベースに、設計からサポート致します。 素材にはアルミナファイバーを採用し、...

    メーカー・取り扱い企業: イソライト工業株式会社

  • P-DUKE社製DC/DCコンバータ&電源モジュールのご紹介! 製品画像

    P-DUKE社製DC/DCコンバータ&電源モジュールのご紹介!

    PR医療用・鉄道用など様々な用途の電源ソリューションを多数ラインアップして…

    シナダイン株式会社の取り扱うP-DUKE社製DC/DCコンバータ、電源製品をご紹介します。 P-DUKE社独自の高密度実装技術はパッケージの超小型化と高絶縁耐圧を両立させました。 医療規格IEC60601-1 2MOPPの認証を受けたメディカル向け製品では絶縁耐圧5000VACと沿面距離8mmを実現。 鉄道安全規格 EN50155/EN45545-2を取得した鉄道向け製品では9~75...

    メーカー・取り扱い企業: シナダイン株式会社

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像

    【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像

    射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF 製品画像

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。 金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。...【特長】 ●絶縁物・金属・半導体材料のスパッタ装置 ●メインポンプにターボ分子ポンプを使用 ●2インチ×3基のカソードで、3層までの多層成膜が可能 ●マグネトロンスパッタで、スパッタ速度30nm/min(SiO2)が得られる ●基板加熱機構(350℃)...

    メーカー・取り扱い企業: アルバック機工株式会社 横浜支店

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