静止形カートリッジタイプメカニカルシール【ピラーカセットシール】

PR日本ピラー工業の静止型カートリッジタイプメカニカルシール⇒【ピラーカセ…

日本ピラー工業の『ピラーカセットシール』は ◆信頼性確保に有利な、静止形のメカニカルシール構造を採用。 ◆メカニカルシールの組み付け作業に、特殊な勘や経験が不要！ 　カートリッジ構造で実現した 　「イージー＆４アクションインストール！」 ◆ほとんどのISO・DIN規格寸法汎用ポンプに適用可能なコンパクトデザイン ◆グランドパッキンでは解決困難な漏れの課題を 　ピラーカセットシ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ピラー工業株式会社

2021年版 日本マーケットシェア事典

PR約650品目のマーケットシェアを網羅した矢野経済研究所のレポート

37業種/102分野の業界動向、649品目のマーケットシェアを網羅。市場の動向、企業の動向、市場規模、企業別売上高（シェア）を掲載。 ■2021年注目すべきマーケット 1章でローカル5Gの展望、ワイヤレス給電、量子コンピュータ、サブスクリプションサービスなど、革新的なマーケットを展望 ■活用事例 コロナ禍によって気になる業界がどのように変化したか知りたい コロナ禍の状況と対策、今...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社矢野経済研究所

MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃

簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

Max2900℃(カーボン炉）、Max2600℃（メタル炉） ・有効加熱エリアΦ60（MiniLab-CF/MF-M） ・有効加熱エリアΦ150（MiniLab-CF/MF-L） 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。...小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 ◆モデ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル（ユニテンプジャパン株式会…

ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い...

メーカー・取り扱い企業： 日精株式会社 本社

RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス（0.9MPaG）まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社