• 静電気障害をnano除電除去装置で一気に解決!クリーンルーム対応 製品画像

    静電気障害をnano除電除去装置で一気に解決!クリーンルーム対応

    PRnano除電除去装置は、既存の除電器で、除去できない基材の内部電荷を除…

    既存の除電器では、基材の内部電荷の除去が不十分なためフィルムの製造・加工過程で静電気障害が発生します。 ・帯電模様・スタティックマークによる印刷・塗装障害。 ・インクの飛びや文字の歪みによる印刷障害。 ・ロール巻取り時の除電不足による障害。 ・巻き出し時の静電気増大による障害。 ・静電気による基材のズレ、反発・剥離等。 nano除電除去装置はそのような静電気障害を解決! ...

    メーカー・取り扱い企業: ウエッジ株式会社 営業本部及び本社工場

  • 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    PR低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー) 製品画像

    逆テーパー角を一定に!PEB対応レジスト現像装置(デベロッパー)

    逆テーパー角度を一定に!ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

    枚葉式で現像、全面露光(反転露光、イメージリバーサル)、ベーク、クーリング機能を搭載。 リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。 当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定させます! また、ネガレジストの露光後ベークに使用することで安定プロセスが得られます。 マニュアル機~フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行ってい...

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