静電気障害をnano除電除去装置で一気に解決！クリーンルーム対応

PRnano除電除去装置は、既存の除電器で、除去できない基材の内部電荷を除…

既存の除電器では、基材の内部電荷の除去が不十分なためフィルムの製造・加工過程で静電気障害が発生します。 ・帯電模様・スタティックマークによる印刷・塗装障害。 ・インクの飛びや文字の歪みによる印刷障害。 ・ロール巻取り時の除電不足による障害。 ・巻き出し時の静電気増大による障害。 ・静電気による基材のズレ、反発・剥離等。 nano除電除去装置はそのような静電気障害を解決！ ...

メーカー・取り扱い企業： ウエッジ株式会社 営業本部及び本社工場

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

PR低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆テーパー角を一定に！PEB対応レジスト現像装置（デベロッパー）

逆テーパー角度を一定に！ネガレジストやイメージリバーサル用のレジストに…

枚葉式で現像、全面露光（反転露光、イメージリバーサル）、ベーク、クーリング機能を搭載。 リフトオフ用レジストで逆テーパーの角度を決める重要なPEB。 当社独自プログラムで逆テーパー角度を安定させます！ また、ネガレジストの露光後ベークに使用することで安定プロセスが得られます。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行ってい...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ