• 凍結保存容器『MVE Fusion 1500』※動画あり 製品画像

    凍結保存容器『MVE Fusion 1500』※動画あり

    PR【液体窒素の消費ゼロ!】電源消失後7日間-150℃以下を担保できるLN…

    『MVE Fusion 1500』は、立ち上げ時のみ液体窒素を充填し、 100Vの電源を維持する事により液体窒素を消費しない回生エネルギー型 低温試料保存容器です。 -150℃以下の超低温で試料を凍結保存します。 クライオクーラーを搭載 ■音圧を利用した超低温容器 ■オイルフリー ■稼働部品が無い省メンテタイプ 【特長】 ■液体窒素の消費ゼロ ■電源のみで-150℃以下...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社巴商会 企画営業部

  • 『ピュアウォッシャー』-水を使って空気をキレイに! 製品画像

    『ピュアウォッシャー』-水を使って空気をキレイに!

    PR水を使って空気をキレイにする新しい空気清浄機!食品添加物に認可されてい…

    【除菌】 浮遊ウイルス・浮遊菌を微酸性電解水の力で分解し99%抑制。※ 捕えたウイルス・浮遊菌は微酸性電解水で分解! (※試験空間におけるデータ) 【消臭】 水が気になる臭いを元から吸収し、すっきり消臭。 【加湿】 大容量の加湿力で、心地よい空気がお部屋に。 【空気清浄】 ハウスダストや花粉をしっかりキャッチ。 1台で最大200m2までを空気清浄できる大空間設計。 さらに...

    メーカー・取り扱い企業: 大同興業株式会社

  • 2500万画素、150fpsの高速カメラ 製品画像

    2500万画素、150fpsの高速カメラ

    2500万画素、150fpsの高速フレームレートの小型CoaXPres…

    『VCC-25CXPHS』シリーズは、2500万画素での撮影に対応した W65×H65×D93.3mm(ヒートシンク無モデル)のCoaXPressカメラです。 コンパクト・高解像度・長距離伝送といった従来機の特長はそのまま 最速150fps(CXP-12・8bit時)の高速フレームレートを実現しており、 高速移動するワークを鮮明に捉えることが可能。 液晶・基板・半導体ウェハなどの...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス

  • マスクレスアライナー『MLA150』 製品画像

    マスクレスアライナー『MLA150』

    0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー

    マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触露光、卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング環境、少量から中量生産、および研究開発における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は、従来のマスクアライナーに代わる製品...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 低価格高速カメラ&長時間録画システムVCC-1OP1R/MHS 製品画像

    低価格高速カメラ&長時間録画システムVCC-1OP1R/MHS

    VGA/3477fpsが可能な 低価格高速度カメラ&長時間録画システム

    『 VCC-1OP1RHS / MHS』は、超高速フレームレートのカメラに 転送速度6.25Gbp×2chの光インターフェースを搭載した録画装置システムです。 1メガピクセルで超高速1077fpsの動画撮影に対応し、 肉眼で捉えられない動きを、鮮明な映像で確認できます。 またVGAでは3477fpsを実現しています。 またノイズに強く、150mの長距離伝送に対応しているのも特長で...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス

  • 高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220 製品画像

    高精度 プログラマブル ホットプレート HP-220

    必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…

    ドイツUniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い...

    メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社

  • MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃  製品画像

    MiniLab-CF/MF 超高温小型実験炉Max2900℃

    簡単操作コンパクトラックに全てを収納 短時間でMax2900℃まで昇…

    Max2900℃(カーボン炉)、Max2600℃(メタル炉) ・有効加熱エリアΦ60(MiniLab-CF/MF-M) ・有効加熱エリアΦ150(MiniLab-CF/MF-L) 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応。...小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。 ◆モデ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アーク溶射装置『ARC-150/S500』 製品画像

    アーク溶射装置『ARC-150/S500』

    高い生産性と簡易性・信頼性を誇るアーク溶射装置!

    『ARC-150/S500』は、柔軟性のある操作で非常にバランスがとれた制御 が可能な吐出を提供するアーク溶射装置です。 防食用途に設計されており、亜鉛・アルミニウム・亜鉛アルミニウム合金を 溶射します。 また、高温合金のような、より大規模な用途でよく使用される他の材料も 溶射することが可能です。 【特長】 ■500Aの容量=高い生産性 ■クローズループ電流=簡易性・信...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社澤村溶射センター

  • X線検査装置『EMT-J』 製品画像

    X線検査装置『EMT-J』

    SOFTEXオリジナルX線発生器搭載!設置場所を選ばないX線検査装置

    『EMT-J』は、SOFTEXオリジナルX線発生器を搭載したX線検査装置です。 高感度X線I.I.カメラを搭載する事により、高いコントラスト映像を実現します。 【特長】 ■SOFTEXオリジナル装置制御・画像処理・計測ソフト ■設置場所を選ばないコンパクト設計 ■操作は全てパソコン制御のため簡単 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...【仕様】 ■...

    メーカー・取り扱い企業: ソフテックス株式会社 営業本部

  • 試料研磨装置『MA-150(カバー付き)』 製品画像

    試料研磨装置『MA-150(カバー付き)』

    小さい試料を研磨する際に好適!1つの目的に対して1台を使用できるように…

    『MA-150(カバー付き)』は、パーソナルタイプの研磨機でSEM、EPMA、 TEM等の横に設置し、1つの目的に対して1台を使用できるように 設計開発されております。 小型でスペースを占有しないため、小さい試料を研磨する際に適しており、 半導体ウェハー、サファイア、SiC、ガラス、セラミックスなどの研磨が可能。 試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られ...

    メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社

  • 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました! ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 外部共振型 半導体レーザー装置 製品画像

    外部共振型 半導体レーザー装置

    外部共振型 半導体レーザー装置

    超低反射率ARコート付き半導体レーザー 外部共振器型波長可変半導体レーザー 【特徴】 ○LD端面にARコーティング ○小型 ○操作が容易 ○スタンダードなリトロー型、リットマン型、高出力タイプや   ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど   様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長:635-1700nm, ・出力:10-...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ルミネックス

  • 精密ディスペンサー装置Quspa-MsB【はんだジェット対応】 製品画像

    精密ディスペンサー装置Quspa-MsB【はんだジェット対応】

    【塗布業界 トップクラスの能力値】 クリームはんだ φ150μm達成…

    ☆☆☆進和超精密ディスペンサー MsB☆☆☆ ・LED後工程/半導体後工程   →高精度/高速処理を実現!    (X-Y繰返し精度:±10μm)   →高速ディスペンス化による設備投資台数の削減    (ジェットポンプ or スクリューポンプ搭載)   →常温吐出による塗布量安定性UP!   →歩留まりの大幅削減、生産効率大幅UP 【アプリケーション】 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社進和 メカトロシステムセンター

  • 自動フォトレジスト塗布装置(スピンコーター)Coater 製品画像

    自動フォトレジスト塗布装置(スピンコーター)Coater

    レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

    ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。 高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。 低粘度~高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。 ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si(シリコン)、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2(ガラス)など多数の基板搬送実績もあります。...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

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    卓上ラップ研磨機『LPM-15』

    ダイヤモンドスラリーやCMPスラリーなど!幅広い加工に対応した卓上型研…

    【製品PR】 ケメット・ジャパンの『LPM-15』は、セミオート機能を有し 金属から脆性材の精密研磨・ラップに適した、卓上研磨装置になります。 ダイヤモンドスラリーを使用した加工から、CMPスラリー(一部制限あり) を使用した加工まで、幅広く対応しています。 弊社テクニカルセンターにてデモテストが可能です。 【特徴】 ◆卓上タイプ ◆セミオート機能 ◆SUS・アルミ・超硬...

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    メーカー・取り扱い企業: ケメット・ジャパン株式会社 本社

  • MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター) 製品画像

    MAX400℃!高温ベーク対応レジスト塗布装置(スピンコーター)

    BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能!高温ベ…

    当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク(MAX400℃)、低温ベーク(MAX200℃)、クーリング機能を搭載。 低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。 レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能! その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド(PI)、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます! シリコン...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

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    MWC6000

    MWC6000

    WLP(Wafer LevelPackage)に最適の実装装置 MWC6000を販売開始しました。MWC6000は300mmサイズのWaferに高精度の実装が可能でステージは石定盤と空気浮上で平坦度を1um以下にしています。またXY軸ともリニアモータ駆動で高速処理が可能です。X軸はデュアルmotor駆動でX軸の両側で駆動されています。また精度を出すために全軸に高精度のガラススケール(ハイデンハイン...

    メーカー・取り扱い企業: AJI株式会社

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