• 卓上型昇華精製装置『P-20』※製品資料進呈 製品画像

    PR貴重な有機材料を用いた研究開発・実験に。上位機種と同等の高純度な精製が…

    『P-20』は、小径サイズの石英炉を持った、極少量材料向け昇華精製装置です。 原材料のロスを軽減でき、希少な有機材料の研究・開発にも適しています。 独自の均熱管使用の傾斜温度構造により、なだらかな温度勾配での高純度精製が可能。 また、上位モデル「P-100/150/200」と同等の性能でありながら、 卓上サイズにまで小型化。設置が容易で、標準品のため低価格な点も特長です。 【特長...(つづきを見る

  • 圧縮エアー駆動のダブルダイヤフラムポンプ『TCシリーズ』 製品画像

    PR高圧吐出・圧力制御が容易で完全自給式。スラリー液や高粘度液、薬液の搬送…

    ダブルダイヤフラムポンプ『TCシリーズ』は金属タイプと樹脂タイプを合わせ、100を超える豊富な機種を取り揃え。 心臓部のエアー切換方式に、新開発のループドCスプールと新メカニカル方式を採用することで作動安定性が向上しました。 製造プロセスから半導体、装置・機器搭載まで、幅広くご使用いただけます。 【特長】 ■Max.0.7MPa(一部0.85MPa)の高圧吐出 ■完全自吸式で呼び水が...(つづきを見る

  • 高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF 製品画像

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。 金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。...【特長】 ●絶縁物・金属・半導体材料のスパッタ装置 ●メインポンプにターボ分子ポンプを使用 ●2インチ×3基のカソードで、3層までの多層成膜が可能 ●マグネトロンスパッタで、スパッタ速度30nm/min(SiO2)が得られる ●基板加熱機構(350℃)...(つづきを見る

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像カタログあり

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ...(つづきを見る

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像カタログあり

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着...(つづきを見る

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