• 高圧ポンプユニット KPM-5030 ※カスタマイズ可能 製品画像

    PRポンプとモーターを縦に配置して床面積を縮小!研磨ウエハ洗浄に好適

    KPM-5030はポンプとモーターを縦に配置して床面積を縮小した高圧ポンプユニットです。インバータ内蔵により流量特性を可変でき、外部信号により運転、停止ができます。半導体業界をターゲットとし研磨ウエハの洗浄に適しています。 【特長】 ◆設置面積が小さくコンパクト設計 ◆ポンプの選定により本仕様以外の流量、圧力に対応可能 ※ご要望に応じたカスタマイズが可能です。半導体産業のみならず洗...(つづきを見る

  • HIAC液中微粒子計測器『System 9703+ -MC05』 製品画像

    PR光散乱方式と光遮断方式に同一センサーで対応!メンテも簡単。無料デモ受付…

    HIAC液中微粒子計測器『System 9703+ -MC05』は、 同一センサー内に光散乱方式と光遮断方式の測定原理を搭載し、 0.5~350μmのワイドレンジな測定に対応できる製品です。 用途に応じて「HRLD400センサー」に変更することで2~400μmの粗大粒子の測定も可能。 注射剤の不溶性微粒子試験から部品の洗浄液評価まで幅広く活躍します。 【特長】 ■ボタン一つで容...(つづきを見る

  • 高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF 製品画像

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。 金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。...【特長】 ●絶縁物・金属・半導体材料のスパッタ装置 ●メインポンプにターボ分子ポンプを使用 ●2インチ×3基のカソードで、3層までの多層成膜が可能 ●マグネトロンスパッタで、スパッタ速度30nm/min(SiO2)が得られる ●基板加熱機構(350℃)...(つづきを見る

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像カタログあり

    高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ...(つづきを見る

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像カタログあり

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着...(つづきを見る

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