• 2500万画素、150fpsの高速カメラ 製品画像

    2500万画素、150fpsの高速カメラ

    PR2500万画素、150fpsの高速フレームレートの小型CoaXPres…

    『VCC-25CXPHS』シリーズは、2500万画素での撮影に対応した W65×H65×D93.3mm(ヒートシンク無モデル)のCoaXPressカメラです。 コンパクト・高解像度・長距離伝送といった従来機の特長はそのままに、 最速150fps(CXP-12・8bit時)の高速フレームレートを実現しており、高速移動するワークを鮮明に捉えることが可能です。 液晶・基板・半導体ウェハな...

    • VCC-25CXPHS(センササイズ編集済み).jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス

  • 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    PR低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応 ■2~12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能(例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ 【ASAPのコーター・デベロッパ...

    • IMG_1106.JPG
    • 300mmウェハコーター3.jpg
    • インチ兼用中.JPG

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co 製品画像

    スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

    FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

    このシステムには3つのスパッタリングソースと プレクリーニングエッチャーがすべて共焦点形状に配置されており、生産性を高めるためにロードロックならびに搬送チャンバを追加することも可能です。スパッタリングソースには直径100mmのシャッターが搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコ...

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス合同会社

  • 射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES 製品画像

    射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

    樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能!

    新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜(スパッタリング及び重合)することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム: 80sec(Al:100nm+SiOx:20nm) ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空

  • 高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF 製品画像

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    高周波スパッタリング装置 VTR-150M/SRF

    RF電源を搭載した小型の高周波スパッタリング装置です。 金属、半導体、絶縁物の成膜が可能なため、基礎研究開発等の実験用に最適です。...【特長】 ●絶縁物・金属・半導体材料のスパッタ装置 ●メインポンプにターボ分子ポンプを使用 ●2インチ×3基のカソードで、3層までの多層成膜が可能 ●マグネトロンスパッタで、スパッタ速度30nm/min(SiO2)が得られる ●基板加熱機構(350℃)...

    メーカー・取り扱い企業: アルバック機工株式会社 横浜支店

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