• 自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー) 製品画像

    自動フォトレジスト塗布・現像装置(コーター・デベロッパー)

    PR低粘度~高粘度レジスト対応!小口径~大口径まで、どのウェハサイズの装置…

    【特長】 ■低価格を実現 ■低~高粘度(1.7cP~10000cP)まで対応 ■2~12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能(例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減(省スペース化) ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ 【ASAPのコーター・デベロッパ...

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    • 300mmウェハコーター3.jpg
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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

  • 2500万画素、150fpsの高速カメラ 製品画像

    2500万画素、150fpsの高速カメラ

    PR2500万画素、150fpsの高速フレームレートの小型CoaXPres…

    『VCC-25CXPHS』シリーズは、2500万画素での撮影に対応した W65×H65×D93.3mm(ヒートシンク無モデル)のCoaXPressカメラです。 コンパクト・高解像度・長距離伝送といった従来機の特長はそのままに、 最速150fps(CXP-12・8bit時)の高速フレームレートを実現しており、高速移動するワークを鮮明に捉えることが可能です。 液晶・基板・半導体ウェハな...

    • VCC-25CXPHS(センササイズ編集済み).jpg

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社シーアイエス

  • 精密研磨装置『MA-150』 製品画像

    精密研磨装置『MA-150』

    小さい試料を研磨する際に好適!1つの目的に対して1台を使用できるように…

    『MA-150』は、パーソナルタイプの研磨機でSEM、EPMA、 TEM等の横に設置し、1つの目的に対して1台を使用できるように 設計開発されております。 小型でスペースを占有しないため、小さい試料を研磨する際に適しており、 半導体ウェハー、サファイア、SiC、ガラス、セラミックスなどの研磨が可能。 試料に合わせた研磨盤・研磨剤を使用することでより良い研磨面が得られます。 ...

    メーカー・取り扱い企業: ムサシノ電子株式会社

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