外部共振型　半導体レーザー装置

超低反射率ARコート付き半導体レーザー 外部共振器型波長可変半導体レーザー 【特徴】 ○LD端面にARコーティング ○小型 ○操作が容易 ○スタンダードなリトロー型、リットマン型、高出力タイプや 　 ファイバー付、モータ駆動によるリットマンタイプなど 　 様々なアプリケーションに対応します。 ○Littman/metcalf ・波長：635-1700nm， ・出力：10-...（つづきを見る）

EFEM（Equipment Front End Module）

本装置は、2ステーションFOUP/FOSB対応EFEM（Equipment Front End Module）です。 ウエハサイズは、200/300mm（8/12インチ）に対応しています。 スループット：　150wph OCR / 450wph transfer（プロセス除く）...本装置は、2ステーションFOUP/FOSB対応EFEM（Equipment Front End Module）で...（つづきを見る）

1つのバルブでオン/オフ と微流量制御を行うことができます。 2 i…

微流量調整バルブ（微流量調整弁） 『MBVシリーズ』は、流量調整バルブ（H-1300シリーズ）とボールバルブ（H-800シリーズ）を１つにまとめた、今までにない画期的なバルブです。 １つのバルブで流体のオン／オフと微流量調整を行う事ができます。 ＜特徴＞ ・微流量調整用バルブとしてはH1300シリーズ同様にステム角1°、3°、5°をご用意 ・ボールバルブとしてはH800シリーズ、Sボデ...（つづきを見る）

【塗布業界 トップクラスの能力値】 クリームはんだ φ150μm達成…

☆☆☆進和超精密ディスペンサー　MsB☆☆☆ ・LED後工程/半導体後工程 　　→高精度/高速処理を実現！ 　　　（X-Y繰返し精度：±10μm） 　　→高速ディスペンス化による設備投資台数の削減 　　　（ジェットポンプ or スクリューポンプ搭載） 　　→常温吐出による塗布量安定性UP! 　　→歩留まりの大幅削減、生産効率大幅UP 【アプリケーション】 ...（つづきを見る）

アームの長さが従来の５倍長くなり、今まで届かなかった液中深くにあるサン…

「ロングアームナノピンセット（Long Arm Nano tweezers)」は、ナノ・マイクロサイズの試料把持を行うためのグリッピングツールです。MEMS技術により把持力を精密制御でき、TEM試料をはじめとする分析用試料や、細胞などのバイオ試料まで様々な試料の把持に対応できます。 アームの長さが従来の５倍（3mm）で、今まで届かなかった液中深くにあるサンプルへアプローチできるようになりました。...（つづきを見る）

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッ...（つづきを見る）

精密機械加工、自動省力化機器・各種治具の製造・組立等を行っています。

共進精機株式会社は、京都府 京都市にある精密機械加工、印刷・製版装置、半導体製造装置、自動省力化機器・各種治具等の製造・組立を行っている会社です。 さらに高い技術に挑戦[品質 Quality]、生産方式の改革によるムダを撲滅[価格 Cost]、タイム イズ マネーの工程管理[納期 Delivery]、顧客の要望に応える『QCD』を経営方針としております。 【事業内容】 ○精密機械加工、印...（つづきを見る）

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源 を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した 高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で 薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が 形成されます。 イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく...（つづきを見る）

ディスプレイモニタ代替品カタログ-3

半導体製造装置、産業機器、液晶製造装置、その他制御装置などに使用されているモニタの置き換えに最適です。○対応装置メーカ：AMAT,KLA-Tencor,GSI Lumonics,Watkins-Johnson,TEL・Varian,東京エレクトロン,神鋼電機,セイコーインスツル,大日本スクリーン製造,日立製作所,芝浦メカトロニクス,三菱電機　○対応モニターメーカ：Boundless,三菱電機,Te...（つづきを見る）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

高温制御型の真空計で長年の実績を持つMKSが提供する最新モデル コンパクトな一体型、省電力を実現...150℃/200℃対応！　バイオ医薬品製造、半導体製造プロセスに最適なバラトロン真空計 バラトロン631Bは、高温制御型真空計を10年以上にわたり供給してきたMKSの最新コンパクトモデルです。 センサ内部を高温に保持し、プロセス副生成物のセンサへの堆積を防止することにより、ドリフ...（つづきを見る）

【デモ機貸し出し可能！】蓋にULP又はHEPAフィルターを内蔵し、クリ…

本機は、ガラス基板やセラミックス基板、フィルム基板等の乾燥を行う装置です。 乾燥物は、専用カセットに入れた物をスピンドライヤーのローターにカセット枠を設け、其処にセットします。 チャンバー内は回転で陰圧となり、蓋に組み込まれたHEPAフィルターを通過したクリーンの風により、チャンバー内のクリーン度を高め、高品質のスピン乾燥が出来ます。 詳しくはお問い合わせ下さい。...【特徴】 ○蓋にUL...（つづきを見る）

ディスプレイモニタ代替品カタログ-1

半導体製造装置、産業機器、液晶製造装置、その他制御装置などに使用されているモニタの置き換えに最適です。○対応装置メーカ：Bruce Systems,日立DECO,ワイエイシイ,ユアサコーポレーション,TEL-LAM,東京エレクトロン,東京応化工業,AlcanTech,キャノン,アネルバ,堀場製作所,エス・イー・エス（スガイ）,大日本スクリーン製造,安川電機,Mattson Technology,日...（つづきを見る）

4000点の装置を掲載中！短納期・低価格！中古機械取扱実績例のご紹介

中古機械買取販売市場のHPでは、大学や専門学校、研究機関向けに 真空機器・半導体関連・理化学装置・分析機器などハイテク分野の 装置を多数掲載しております。 23の商品カテゴリー（商品品目400種）で検索しやすいように分類され、 お探しの装置を簡単に素早く検索できるサイトとなっております。 "限られた予算の中で、成果を上げるために必要な設備を揃えたい"など いろいろお悩みの方は是...（つづきを見る）

スマートフォン実装部品メーカー、基板実装メーカー必見！ジェットディスペ…

「スクリーン印刷工法」から『はんだジェットディスペンス工法』に変更することによる塗布位置問題の解決提案・凹凸基板への対応・歩留まり改善など基礎知識やメカニズムを詳しく掲載しています。 生産現場が抱えている諸問題を解決できる教科書的な資料です。 【対象者】 プリント基板メーカー、各種モジュールメーカー、立体構造への実装、FPCメーカーなど 【掲載内容】 ■ クリームはんだ　φ15...（つづきを見る）

半導体のガス供給系の集積化システムに対応した小型圧力ゲージ

半導体のガス供給系の集積化システムに対応した小型圧力ゲージ ＜特長＞ ■表示部外径20mm(1.125インチ)／1.5インチベースブロックへの着脱が容易 ■視認性に優れた3・1／2桁LEDデジタル圧力表示 ■配管の方向に合わせて表示部の回転が可能 ■スイッチ出力（NPN／PNP）、電圧出力、電流出力の選択が可能 ■センサ素子と継ぎ手は電子ビーム（EB）溶接による一体構造 ...（つづきを見る）

研究開発を始め、セミプロダクション用途まで目的に合わせ幅広く装置の選択…

半導体製造工程において軽視しがちな『テープの貼り付け』プロセスを見直すことで、歩留まりの改善や生産効率の向上が図れます。 マニュアルタイプのウェハーマウンターはワークサイズ別に300mm（12インチ）、200mm（8インチ）、150mm（6インチ）と3機種を取り揃えています。...■主な特長 ・瞬時にバブルフリー貼り付けが出来ます。 ・貼付けローラーの自動平衡機構内蔵。 ・円周カッター...（つづきを見る）

2枚重ねが出ない構造になっています！

粗洗浄後の積み重なった、140μm～200μmのシリコンウエハを、特殊水中吸着ヘッドを使いながら上下の送りローラーにより、ウエハを1枚ずつ送り出し、ウエハキャリアに収納する装置です。 ...装置寸法 Size： W1100XD3550XH1500 　　ワーク　Works： 粗洗浄後の太陽電池用シリコンウエハ　156±0.5ｍｍ、156.5±0.5ｍｍ 125±0.5ｍｍ、...（つづきを見る）

ホットプレートによる間接溶解のためメタルロス低減が可能なクリーンホーメ…

『アンダーホーメル炉』は、ホットプレートによる間接溶解のため、 メタルロスが30％以上低減可能なクリーンホーメル炉です。 コンパクト設計で燃費を20％以上低減し、さらに繰業終了時の溶落作業 が大幅に短縮できます。 また、用途に合わせて様々な機種のラインアップがございます。 お客様のご要望に沿ったご提案をさせていただきますので、お気軽に ご相談ください。 【特長】 ■燃費...（つづきを見る）

半導体製造等の露光工程の納期短縮とコスト削減に貢献します。

半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術は、フォトマスクを使用して、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントオブアレイ方式で、CADデータから直接露光することができます。 フォトマスクを使用...（つづきを見る）

高剛性・高精度・超コンパクトなスライシング・ダイシングマシーン

株式会社エス・シー・エムのスライシング・ダイシングマシーン『SCM－１シリーズ』のご紹介です。 【特徴】 ■高剛性 ■高精度 ■超コンパクト ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください。...＜ラインアップ＞ ■SCM-1S　　高精度スライシングマシン 　　　　　　　加工ワークサイズ：Φ100、□100対応 ■SCM-1S-D　高精度ダイシン...（つづきを見る）

全自動高精度ダイボンディング装置 / 量産及び試作対応機【 技術資料 …

「FINEPLACERシリーズ」のモデル名femto2（フェムト2）は、実装精度0.5μm@3sigmaの全自動高精度ダイボンダーです。 装置エンクロージャにより、完全に制御された環境下で、要求の厳しいアプリケーションに対応致します。 システムは完全に外部の影響を遮断し、最高の歩留まりで、安定したアセンブリプロセスを実現します。...【主な仕様】 ○実装精度：±0.5μm @ 3Sigma ...（つづきを見る）

φ450（18インチ）治具　Siウェハと同等の比重、ヤング率！　低価格…

半導体φ450mm（18インチ）ウェハ対応装置向けとして φ450（18インチ）治具を準備致しました。 通常のSiウェハはまだまだ高額、破損リスクもあるので なかなか自由に使えないとお困りの方はお問い合わせください。 搬送テスト用・吸着テスト用の治具として、複合材料をお試しください。...ＳＡ３０１ ・Siウェハに近い特性 　　比重　2.8　　ヤング率　125GPa ・φ450m...（つづきを見る）

先進の1μm帯波長可変半導体レーザ！高スペクトル純度で、広帯域なモード…

『λ-Master 1040』は、高出力で広帯域に同調可能な１μｍ帯の波長可変半導体レーザです。新設計の外部共器により高スペクトル純度（ASE-Free)で、広帯域なモードホップフリー同調が可能です。また当製品は、UTC-PDを用いたTHz波の発生などに応用いただけます。 【特長】 ■高出力で広帯域に同調可能 ■広帯域なモードホップフリー同調が可能 ※詳細は資料請求して頂くかダウン...（つづきを見る）

横に並べることで、いくらでもクリーン空間を横に広げられます。

連続コーチ 「KOACH R 1050-F」（FERENA搭載）清浄度：ISOクラス1／全換気時間：130秒 「KOACH R 1050-F」は横に並べることで、いくらでもクリーン空間を横に広げられます。 フード間の繋ぎ目からのコンタミナントの混入を防ぐ直角合流※（Rectangular Confluence）技術が搭載。 ※直角合流とは、KOACHの気流技術を応用し「対向する気流」...（つづきを見る）

M&R Nano Technology Co.,Ltd.製「露…

M&R Nano Technology Co.,Ltd.では、各種露光装置を取り揃えております。 ご希望の用途に合わせてお選びください。 ○垂直式露光装置 ○水平式露光装置 ○回転式露光装置 ○大型サイズ（22インチ）露光装置 ○スピード量産型露光装置 ○全自動露光装置 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 ...【特長】 ○M&R Nano...（つづきを見る）

横に並べることで、いくらでもクリーン空間を横に広げられます。

フィルタを通して清浄化したコヒーレントな気流を対向させた時、 今まで誰も想像できなかった清浄空間が生まれました。 周りを囲うことも仕切ることもないオープンクリーンゾーンの誕生です。 【驚きの気流技術】 オープンクリーンシステム「KOACH」のプッシュフードからは、清浄化されたコヒーレントな気流が吹き出します。しかし、コヒーレントな気流であっても、周りが囲われていなければ吹き出し面から離...（つづきを見る）