リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

超高感度 質量分析装置　WATMASS－MPH DAシステム

【新発想の質量分析法】MEMSやライフサイエンスデバイス、半導体などの…

を組み合わせた新しい発想の質量分析装置です。 弊社の超微量ガス分析装置『WATMASS－MPH システム』では破壊及び、 リーク量（10＾-15Pa・m3/s 以下）の計測が可能です。 MEMSやライフサイエンスデバイス、あるいは半導体などの封止デバイスに！ ★デバイス評価・材料評価など各種受託質量分析（ガス分析）も承ります★ 【特長】 ■超高感度 0.2%BeCu合金製ガ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

超低ガス放出残留ガス分析計『WATMASS』

低省費電力化とイオン源の低温化により、ガス放出を大幅低減！一般的な四重…

UHVの高精度な質量分析 ■表面分析 ■半導体デバイスの劣化とガス放出 ■光刺激、電子刺激によって発生するガス分析（質量分析） ■微量ガス分析（TDS／Out Gas） ■封止デバイス／MEMSの質量分析および、10-17Pa・m3／sレベルのリーク試験 ■ガラスのHe透過試験および、微小気泡ガス分析 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社

精密自動2次元座標測定機『SMICシリーズ』

精度に対する絶対的な信頼でLCDトータルピッチ測長機として実績を蓄積！

ラステーブル、高性能サーマルクリーン チャンバーなど、高精度測定を実現するあらゆる技術を駆使した 精密自動2次元座標測定機です。 LCD、有機ELからフォトマスク、光コネクター、TAB、MEMS等の 精密寸法測定にも、その実力を発揮します。 【特長】 ■高度な精度保証体系 ■高精度XYステージ駆動 ■高分解性能光学顕微鏡とLED照明光源(オプション) ■ファイバー式レーザ...

メーカー・取り扱い企業： 新東Sプレシジョン株式会社

極微小リークの計測方法でお困りで はありませんか？

答えはこちら！極微小リーク検査のソリューションと事例をご紹介！

を組み合わせた新しい発想のガス分析装置です。 弊社の超微量ガス分析装置『WATMASS－MPH システム』では破壊及び、 リーク量（10＾-15Pa・m3/s 以下）の計測が可能です。 MEMSやライフサイエンスデバイス、あるいは半導体などの封止デバイスに！ ★デバイス評価・材料評価など各種受託ガス分析も承ります★ 【特長】 ■超高感度 0.2%BeCu合金製ガス分析装置 ...

メーカー・取り扱い企業： 東京電子株式会社