リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

PR難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

当社では、研究・試作から量産まで対応可能な「オーダーメイド型 スパッタリング成膜装置(PVD)」を取り扱っております。 フレキシブルエレクトロニクス、光通信技術、薄膜太陽電池や バッテリー等の薄膜デバイスの研究開発から量産まで装飾や 表面保護のためのコーティングにも対応。 サンプルサイズ、成膜対象マテリアル、バッチプロセス等、お客様の 用途に応じて組み立てることが可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

HDS600シリーズ・・・±600Vバイポーラ高速高圧アンプ

1200Vpp（±600V）バイポーラ高速高圧アンプ！ モジュールタ…

電子ビーム、イオンビーム用の静電レンズ、静電偏向などに最適な高速高圧アンプです。また、近年多くのアプリケーションに利用されているピエゾ素子や、無機ELディスプレイ、MEMSなどの駆動にも利用できます。外部信号入力±10V信号に同期して正弦波、三角波、鋸波、方形波などの出力が可能です。お客様のシステム仕様に合わせたカスタマイズ対応、ＯＥＭ対応も可能です。...

メーカー・取り扱い企業： フューテックス株式会社