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18件 - メーカー・取り扱い企業
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H.265対応 8ch小型NVR JMS-N1008-UNC
PRコンパクトな筐体に最大2枚の2.5インチHDDを搭載可能なIPカメラ用…
JMS-N1008-UNCは8chのカメラ映像入力に対応し、H.265/H.264のコーデックと超小型筐体に2.5型ハードディスク2台の搭載を実現し、4Kの高精細映像出力も可能なネットワークビデオレコーダーです。...・80x120x80mmの超小型筐体に2.5型ハードディスクを2台搭載可能(最大2TB×2) ※HDDは別売 ・NVR本体の消費電力は最大4.1W(ハードディスクを除く)の低消費電...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ジョブル
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PR大幅な生産性向上を実現!非接触での搬送で、ウェット搬送可能です。
静圧式多孔質ロールを応用し異種雰囲気空間とウェブのシールに成功しました。 従来のバッチ式ロールTOロールに比べて異種雰囲気空間の工程間を連続搬送することが可能になるため大幅な生産性向上を実現することができます。 特徴として、非接触搬送、ウェット搬送可、クリーン、メンテナンスフリーであるため様々なウェブに適用することが可能です。 【仕様】 ■帯状ワークサイズ:幅37.5~75mm 厚さ0.02~...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メイコー
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処理による肌荒れが少なく鏡面仕上げ品・シボ加工面等にも安心して適用可能
『S.P.N.法』は、従来のプラズマ電源を用いるイオン窒化法と異なる プラズマエネルギーを利用した鋼の窒化法です。 処理物の表面肌を荒らすことが少なく、合金鋼の場合に欠点とされる 化合物層の発生を抑え...
メーカー・取り扱い企業: 山崎化学エイチ・ティ株式会社
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シンプルな卓上型の大気圧プラズマ装置やダイレクト方式の装置など豊富に掲…
ゴンを使用したダイレクト方式のプラズマ装置、 アルゴンガスを使用した大気圧プラズマのヘッドユニット「MDシリーズ」 などを取り扱っております。 また、曲面・凹凸のあるワークへの照射が可能なN2を使用したバータイプの 大気圧プラズマユニットも取り扱っております。 【ラインアップ】 ■卓上型大気圧プラズマ装置「MyPLシリーズ」 ■大気圧プラズマ装置「ILPシリーズ」 ■ダイ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イトー
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真空中でプラズマエネルギーを利用した環境重視の窒化処理についてのご紹介…
けると、グロー放電が発生。 グロー放電を起こすための反応ガスとして、水素とガスを使用しています。 励起したプラズマ中に、窒化反応ガスとして窒素ガスを導入すると、 窒素原子は、同様に励起してN+のイオンに変わります。 このN+イオンを処理物の表面に帯電させ、活性化窒素元素を拡散させ 表面硬化させる方法です。 一般的には、1から10torrの真空減圧下で400℃から570℃で...
メーカー・取り扱い企業: 朝日熱処理工業株式会社
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緻密で溶射効率のよい皮膜が得られる!新設計のノズル電極により長寿命化を…
ブソニック、マッハ1、マッハ2、80KW マッハ2 ■粉末供給方式:アノード内部供給方式 <コントロールコンソール「3710/3620」> ■使用ガス:Ar、Ar+He、Ar+H2、Ar+N2 ■制御範囲 ・電流:150~1200A ・ガス:Ar 30-200L/min、He 7-43L/min <パウダーフィダー 「1264」> ■回転速度:0.5~25rpm ...
メーカー・取り扱い企業: ユテクジャパン株式会社
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従来比50%の性能UP!低N2消費(約45%削減)の大気圧プラズマ装置
大気圧プラズマ装置 「Preciseシリーズ」は、窒素ガスをベースとし、誘電体バリア放電を利用しワーク自体を電磁界エリアから隔離し、リアクター内で励起されたラジカル等のみを使用した装置です。 これによりワークへのダメージを与えない状態で連続処理が可能になりました。 また、ワークが帯電した状態でも除電され、処理後の気中のパーティクル付着もありません。 【特徴】 ○低温処理 ○ダメージフリー ○ES...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置
0mm(D)×350mm(H) ■重量:20kg ■真空ポンプ:ドライポンプ(15L) ■加工範囲:28mm×28mm(オプションステージ使用時) 0.5~4mm ■対応可能ガス:CF4、N2、D.A、Ar、O2等 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ナラサキ産業株式会社 メカトロソリューション部 機能材料課
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ダメージレスで接着性&濡れ性向上!大気圧広幅低温プラズマ処理機
デモ機有り! 初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温…
ティング、塗装、接着、密着の前処理、有機物の除去や洗浄などのクリーニングとしても有効です。 金属、ガラス、樹脂の表面活性なら是非お試しください。 弊社にて濡れ性の確認テストがすぐに行えます。 N2,O2,H2といった各種ガスは常備しており、 サンプルをご持参いただければすぐに処理いたします。 小型電極は既存のラインへ設置が容易です。 ポテンシャルフリーなため対象物をダメージレスで処理...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ケー・ブラッシュ商会 本社
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6インチと8インチのウエハーに対応!平行平板方式のプラズマ処理装置
グルチャンバー) ○RF電源:600W 13.56MHz オートチューニング ○処理ガス →O2:1000SCCM →CF4:500SCCM →1系統増設可(オプション) ○パージガス:N2 ○スループット:3000枚/400時間(ポリイミド膜1μmエッチング時) ○処理ステップ:3ステップ、10レシピ ○ウエハーサイズ:6インチ、8インチ兼用 ○ウエハー搬送方式 →垂直動...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エスクラフト
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5G向けフッ素樹脂への直接めっきや接着剤レス接合をプラズマで実現
フッ素樹脂をはじめとする難接着材料への直接めっきや異種材料の接着剤レス…
の面では、5G向け回路基板製作に必要な「フッ素樹脂への直接銅めっき」や「接着剤レスによる接合」を実現。 接着材レス接合はフッ素樹脂と銅、異なるフッ素樹脂同士などを接着剤を使用せずに貼り合わせ、10N/cm以上の密着性を得ることが出来ております。 減圧プラズマ方式のため、多様なプロセスガスを採用でき、基材及び貼り付け相手方の素材に応じた官能基を選択することが可能です。 ★技術開発の背景や...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社電子技研
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IonPOWDERによる粉体の革新的な表面処理。 粉体へのイオン注入…
特徴 ・多種のガスが使用可能(Ar, He, N2, O2, SiH4, 混合ガス) ・装置はレシピで動作可能 ・PVD(physical vapor deposition)機構も、増設できます。 プロセスの利点 低温表面処理:元の材...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社マツボー
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伝送ロスを低減するダイレクト接着技術・無電解メッキ前処理に!
メージや、プラズマによるUV光等からの科学的ダメージは全く無い処理が可能。 種々のフィルムへのダメージレスダイレクト接着のサンプルワークを実施しております。 弊社実験データでは、その接着強度は9N/cm(Cu/LCP)以上を実現。 Ni表面への接着強度向上に関しては表面にアミン基を配列することにより向上します。 これらの処理は添加ガスを変えることで簡便に実現できます。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イー・スクエア
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光学フイルム分野に好適!高い均一性とフィルムダメージレス(パーティクル…
プがございます。 【特長】 ■グロー放電処理 ■高い処理性能 ■真空不要の常圧プロセス ■対応幅:~2500mm ■処理速度:~100m/min ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性!
【仕様】 ■サイズ:W4000mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース:ICP、RFバイアス ■ガス種:SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ:~φ12インチ(FOUP対応) ■成膜速度:~300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社セルバック
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低温処理&電界遮蔽構造でダメージレス!LCD工場を始め数多くの生産工程…
前処理などの目的で使用されます。 【特長】 ■ダメージレス ■高い処理性能 ■豊富なラインアップ ■実績多数 ■対応幅:160~3400mm ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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小片基板の濡れ性改善、密着性向上、表面改質に!実験用途に特化した大気圧…
などにご使用いただけます。 【特長】 ■小型装置 ■様々な処理に対応 ■実験用途に特化 ■対応サイズ:~A4(A4以上のサイズは別途ご相談下さい) ■Utility:電源、処理ガス(N2、CDA)、排気、冷却水 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 積水化学工業株式会社 P2事業推進部
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アジア有力企業において多数の実績あり。
【特徴】 ■処理幅の狭い面積に最適: 10/20/35mm ■ロボット機構との組み合わせにより立体物への処理が可能 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar,O2,等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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アジア有力企業において多数の実績あり。
【特徴】 ■幅広対応: ~2,250mm ■優れた表面改質性能 ■物理的、化学的に処理が可能 ■メンテナンスフリー ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, Ar, O2等 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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アジア有力企業において多数の実績あり。
のアタックがなくラジカルのみでの化学的な処理のため処理膜へのダメージを低減 ■電極形成後の導電フィルム・ガラスの処理に最適 ■各種反応ガスの使用が可能: CDA(Clean Dry Air), N2, O2,Ar等 詳しくはお問い合わせください。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社日立ハイテク
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