『HID対応マルチプロトコルRFIDリーダライタ』

PR自律動作によるキーボードエミュレーション機能を標準実装。プログラムレス…

当社の『HID対応マルチプロトコルRFIDリーダライタ』は、USBのHID(Human Interface Device)クラスに対応しています。キーボードエミュレーション機能を標準実装しており、自律動作でICタグのIDやユーザーメモリを読取り、USB接続したデバイスに自動で入力が可能です。 また、ISO/IEC15693、FeliCa、ISO/IEC14443TypeAなどの各種ICタグ規...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アートファイネックス 福井本社、東京支社

HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ

PRHallinSightのベクトル式磁場イメージング技術によって、「3D…

HallinSightは、Flaunhofer IIS（フラウンホーファー集積回路研究所）によって開発され、以下の特長があります。 ・見えなかったものを見えるようにする 3軸磁場カメラです。 ・動的な磁場をリアルタイムでマッピングできます。 ・X,Y,Z 3軸を同時測定するホールセンサ・アレイを用います。 　⇒ 32×32点、16×16点、32×2点の3種類があります。 　⇒ 各々2...

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アル...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

『MSS600-3』は、矩形カソード W100ｘH500mmによる 3元RFスパッタリング装置です。 基板サイズはW200×H300mmであり、X方向へ搬送しながら蒸着します。 また、基板200mmを30秒から15時間の時間で任意に設定し、膜厚調整や 様々な異...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもで...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲッ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結 ■UHV対応スパッタカソードを4本装着...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar,...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

ソードに 加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる 成膜ソースを搭載することが可能です。 【特長】 ■据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計 ■RF電源にオートマッチングを採用しており、放電操作が容易 ■2源または3源の同時成膜により、薄膜の機能・性能の微調整が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用のスパッタリングソースです。 ターゲットが導体の場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、ク...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

●　価格500万円(税込み) ●　φ3インチターゲット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、 　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプショ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

◉ 超高真空・不活性ガス雰囲気中・その他各種プロセスガス雰囲気に対応 ◉ ステージ上下昇降（基板又はヒーター昇降、基板&ヒータ二段昇降式） ◉ 基板回転 ◉ RF(1KW)/DC(800V)バイアス印加（逆スパッタ） ◉ 使用環境に応じたエレメントの選択： グラファイト, CCコンポジット, ハロゲンランプヒーター, グラファイト/SiCコーティング, ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【マグネトロンスパッタリングカソード】

不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ：1/16"〜1/4" ■N型同軸コネクター接続 ■水冷式：4ℓ/min, 0.35Mpa Φ6mmチューブ接続 ■ケース材質：SUS304 ■...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ヤシマ

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー ・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box o...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

小型スパッタリング装置

コンパクト設計で省スペースを実現！大学や民間の研究室に最適なスパッタリ…

【主な特長】 コンパクト設計により省スペース化を実現 RF/DC電源が可能 優れた膜厚均一性 タッチパネル(PLC)による簡単操作 大学の研究室や民間の研究開発に最適...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マツボー

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

装置形態 平行平板型サイドスパッタリング装置 カソード：ロータリーマグトロンカソード３元 対応基板：φ４１０までの平板基板 カソード電源：DCおよびRF 付属機構：基板加熱機構、逆スパッタ、バイアススパッタ機構 オプション機構 同時スパッタ機構 CｔｏＣ化、インライン化...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプラスマイナス0.3％ の範囲内で膜厚分布を実現いたします。 詳細はお気軽にお問合せください。 ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

ンスパッタリング　※ヘリコンスパッタ（通称）　※オプション ・カソード数：　2インチカソード（磁性体、非磁性体共用）　Max.4台まで搭載可能 ・搭載電源：　DC500W　1台　※DC500W、RF300Wを選択でき、Max.2台まで搭載可能　※オプション ・到達圧力：　1×10-4Pa　以下 ・対応基板サイズ：　Max.φ4インチ×1枚 ・膜厚分布：　±5％以内（Al成膜時、基板回転併...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

Sシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

抜粋）】 ■ワークサイズ：最大φ5インチ×高さ40mm 　形状・サイズ・材質等で異なりますのでお問い合わせください ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：TMP+RP ■圧力制御：APC制御 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ※詳しくはPDF...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■スパッタカソード：マグネトロン方式、ターゲットシャッタ ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■基板ステージ 　・基板加熱：700℃（基板表面） 　・自転：最高20rpm ■真空排気 　・構成1：TMP+DP 　・構成2：CP+...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、 それぞれのカソードにRF又はDC電圧を印加、または重畳して印加することも 可能です。 【事例概要】 ■納入先：地方独立行政法人大阪産業技術研究所様 ■納入製品：MS-3C100L型 ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

１％　10min ○SP室＋重合室　2室構成 ○スパッタ室：高使用効率型カソード 　（ターゲットサイズ440×240mm）、30kW　DC電源 ○重合室：グロー放電式重合電極×1　750W　RF電源 ○スパッタ材料：Al等 ○重合ガス：HMDSO(SiOx用）等 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

小型研究用　イオンビームスパッタリング装置

イオンソースを搭載した実験用装置　精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能

OSIの「イオンビームスパッタリング装置」は、お客坂の使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置です。Veeco社の SPECTOR 相等の能力を発揮します。 RFイオンソースをスパッタ用およびスパッタ用／アシスト用として使用し、OMSまたはOTMソフトを搭載した精密光学の超薄膜多層成膜に適しています。 【特長】 ■イオンソースを搭載した実験用装置 ...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

【仕様(抜粋)】 ■スパッタ源：Φ2インチ マグネトロンカソード×3基 ■スパッタ方向：UP ■スパッタ方法：単元または多元同時スパッタ ■電源：RF500W 電源3基 ■対応基板：Φ2インチ 1枚 ■ヒーター加熱温度：MAX950℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

【ALD・プラズマ処理・スパッタ・表面分析システム　構成（一部）】 ■XPS表面分析装置 ■3源RFスパッタ装置 ■ECRプラズマ表面処理装置 ■ALD（原子層堆積）装置 ■トンネルチャンバー ■ロードロック室 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

薄膜作成コンポーネント

単品試作から用途に合わせて製作可能！「EBガン」や「Kセル」などをライ…

【マグネトロンスパッタカソード　特長】 ■ヘッド直接ガス導入・水冷式構造 ■φ1インチターゲット対応 ■マッチングボックス内蔵の専用RF電源付き ■UHVに対応し、マグネット交換が可能 ■お手持ちの真空チャンバーに容易に搭載可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mmウエハ基板又は300mm×500mm基板対応 ■最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載 ■RFソース(120mm～350mm) ■リニアマイクロウエーブECRソース(2×380mm長) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

スクリュー攪拌型粉体スパッタリング装置

省スペースで大容量！各種ご要望に合わせたオーダーメイドも製作可能！

【仕様（抜粋）】 ■ワーク：最大18L（形状・サイズ・材質等で異なります） ■スパッタカソード：マグネトロン方式 ■スパッタ電源：RFまたはDC ■プロセスガス：Ar、O2、N2、他 ■真空排気：拡散ポンプ+RP ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

粉体スパッタリング装置

お客様ご依頼サンプルによる受託成膜、立会実験にも対応いたします！

『粉体スパッタリング装置』とは、直径数μmまでの粉の表面に真空・ プラズマを使って薄膜をコーティングする装置です。 バレルスイング動作を基本とした攪拌機構を有し、 RFまたはDCスパッタ法による成膜が可能。 粉体材料の劣化防止や、粉体表面の電気伝導性の制御、 希少材料の薄膜化による省資源化などへの応用が期待できます。 【特長】 ■撹拌機構で均一な成...

メーカー・取り扱い企業： エイ・エス・ディ株式会社 技術研究所

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

お客様用途に合わせて、研究開発用、量産用に装置設計いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 　・ス...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

小型ウェブコーター(ロールＴＯロール）

実験用の小型成膜装置。ＰＥＴ等のフィルムに成膜します。

フィルム巾：100ｍｍ 厚み：50μ～100μ 長さ：200ｍ カソード：2SET RFボンバード可 仕様はお客様のご要望をできる限りお聞きし、柔軟に対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

イスループット化できます。 【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 ■有効成膜エリア：1辺25mmの正三角形 ■2インチ・マグネトロン・スパッタカソード3基搭載 ■RF・DC電源を各3組最大6基搭載可能 ■LabView によるレシピ編集と全自動コンビナトリアル成膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット

研究・開発実験用　RFスパッタ装置

実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

金属薄膜はもちろん、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置 【特徴】 ○試料サイズに合わせた3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、４、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応　⇒　積層薄膜作製を実現 〇...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタカソード x 3：自動連続多層膜, 2源同時成膜 ● 膜均一性±3% ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

4インチ3源RFスパッタ装置

基板寸法は最大3インチで3枚収納可能！加熱機構・逆スパッタ機構を備えて…

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード（3基）で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっておりま...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar,...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

グローブボックス連結型有機蒸着・スパッタ装置

トランスファーロッドにより、各室間を搬送！大気解放することなく連続成膜…

当製品は、50×50基板対応で、有機トランジスタ、EL素子用 抵抗加熱蒸着装置、酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに 連結した装置です。 トランスファーロッドにより、各室間を搬送。 大気解放することなく連続成膜することができます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせく...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー ・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box o...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社