【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

レンズ用表面形状測定機 MarSurf LD Aspheric

PR非球面レンズの両面を一度に測定できる表面形状測定機。高精度＆高速測定で…

特許取得の独自構造によりレンズの表・裏を一度に測定出来る 表面形状測定機『MarSurf LD 130/260 Aspheric 2D/3D』 2024年4月 OPIE'24(株)マブチ エス アンド ティー ブースに実機を展示！ レンズの表裏を変える必要がなく、セッティングの手間を削減できるほか、 高精度・高速測定が行えるため、測定作業の短縮に貢献。 また、0.5mNという低測定圧での測定が可...

メーカー・取り扱い企業： マール・ジャパン株式会社

低ロス・ハイパワーRFフレキシブルケーブル

通信用低ロス LMRシリーズ・RF大電力フレキシブルケーブルを国内在庫…

弊社コムクラフトは米国Times Microwave Systemの日本総代理店です。 LMRケーブル、RGケーブル、その他ハイパワー同軸ケーブルを国内在庫し、アッセンブリ、電気試験を実施し、短納期でお届けすることが可能です。 ■製品ラインナップ 超低損失発砲PE絶縁体 LMRシリーズ, Mil Spec品 RGケーブル, 各種LowPIMケーブル、各種ハイパワーケーブル ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

難燃性/UL取得　同軸RFケーブル

UL,IECの難燃性規格認証済の同軸ケーブルをご提供致します。　

弊社コムクラフトは米国Times Microwave Systemの日本総代理店です。 同社は同軸ケーブルの専門メーカーとなり、ノンハロゲン・難燃性規格が必須となる米国内のビル・スタジアム等の公共施設や、船舶、防衛関連で多くのUL認証ケーブルの納入実績がございます。 弊社ではケーブルを国内在庫しているため、アッセンブリ、電気試験を実施し、短納期でお届けすることも可能です。 ＜ラインナッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コムクラフト

高電力RF同軸フレキシブルケーブルアセンブリ

高電力（20KW@60MHz）タイプのフレキシブルケーブルアセンブリ

をしております。そのため、総合品質・納期・価格対応に自信を持っており、お客様の開発段階～量産までご安心してご対応可能です。 EP-610Sは、半導体製造装置、高周波電源、プラズマ電源など高電力RF同軸接続を必要とするアプリケーションに最適なフレキシブルケーブルです。 現在、対応しているコネクタは、EIA 1-5/8、EIA 7/8ですが、お客様のご要望に応じて他の規格にも対応致します。...

メーカー・取り扱い企業： アノイスンジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・基板サイズ：Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・DC, RF両電源対応 3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ＲＦフィルタ

高性能でコンパクトなＲＦフィルタ(高周波フィルタ)です。複数チャンネル…

・チャンネル：1～8 ・RF周波数：1～50MHz ・インピーダンス：共振周波数で10kΩ以上 ・DCR：各チャンネルで25℃の場合に2MHzで100mΩ未満、13MHzより高い周波数で15mΩ未満 ・L：各チャンネル2...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社グローブ・テック

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】 ◉ 製作範囲 抵抗加熱蒸着（TE）、有機膜蒸着（LTE）、電子ビーム蒸着（EB）、RF/DCスパッタリング（SP）、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング（RIE） ◉ チャンバー ・026（26Litter）-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box o...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ICPエッチング装置　RIE-800iPC/RIE-400iPC

真空カセット室を備え、プロセス再現性や安定性に優れた本格生産用装置をご…

『RIE-800iPC/RIE-400iPC』は、SiCトレンチ形状の25枚連続加工の安定性を 誇るICPエッチング装置です。 高RFパワー(2 kW以上)を効率よく安定して印加可能で、良好な均一性を実現。 また、反応室に直結した排気システムを採用することで、小流量・ 低圧力域から大流量・高圧力域の幅広いプロセスウィンドウ...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

に日本で設立されました。日本の半導体製造業をサポートすべく、エッチング装置部品に成膜致します。第一段階として誘電体窓にY2O3（酸化イットリウム）やYOF（酸フッ化イットリウム）を再生成膜することでRF window（誘電体窓・天板）交換の費用（純正部品購入より再生で大幅にコスト削減！）や装置メンテナンスに伴うダウンタイムを大幅に抑えて装置稼働時間を上げることができます。 誘電体窓やビューポート...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

カフマン　グリッドタイプ イオンソース

ＫＲＩグリッドイオンソースはDCタイプ、RFタイプがあります。

カフマン型グリッドイオンガン 　RFICPイオン源グリッドサイズ：4cm, 10cm, 14cm, 22cm, 36cm 　DCイオン源グリッドサイズ：1cm, 4cm, 8cm, 10cm, 16cm The versati...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

、スペースの限られた研究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的なプラズマ加工が可能（Φ0.5mm～） ■低残渣かつ高速加工を実現（10μm/mim） ■低出力のRF電源（最大出力50W未満） ■試料をステージで移動させた広範囲の加工が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三友製作所 テクノセンタ

【独自のイオンアシスト蒸着法による超緻密な厚膜】酸化イットリウム

イオンアシスト蒸着法による超緻密で厚膜形成で半導体歩留と装置稼働時間が…

密性の高い厚膜ができます。 用途は、ドライエッチャー部品向け耐プラズマの保護膜です。 ドライエッチャー部品の成膜で良い膜をお探しの方はぜひ、ご相談ください。 【特長】 ■エッチング装置のRFウィンドウの再生市場価格1/2実現 ■エッチング装置のメンテナンスサイクルが大幅に改善 ■溶射、エアロゾル蒸着、イオンプレーティングによる成膜より 　耐プラズマ性・耐食性に優れている ※...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

イオンビームミリング装置『scia Mill 150/200』

最大150又は200mmウエハ基板対応！エッチング角度及びステージ傾斜…

CAIBE)となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大150又は200mmウエハ基板対応 ■マイクロウエーブECRソース(218mm径) ■RFタイプソース(350mm径) ■エッチング角度及びステージ傾斜・回転機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

アールエムテック　サービス案内

マザーテクノロジーで未来を拓く　アールムテック　サービスご紹介

ニット ●イオンビームエッチング/スパッタリング装置 お客様仕様に合わせて設計致します。 小型実験機～CtoC量産装置に対応。 ●消耗品 ●薄膜材料 ●KRI社製イオンソース 　DC、RF、エンドホール...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 *Chamber-2. MiniLab-S060A（スパッタリング装置） ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ DC, RF両対応 *Chamber-3. Load Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料）,EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社