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PR“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール!4-8…
『HEATPULSE』は、サセプタ不要のSiCウェハアニールが可能な 高速加熱処理(RTP/RTA)装置です。 独自技術により高温プロセスも効率化。 パワーデバイス関連、およびその他の半導体業界、または高温高速 加熱処理が必要な方に好適な装置です。 【特長】 ■独自技術により、サセプタ無しでのSiCアニールを実現 ■パージ効率、昇温レートの向上により、約1.5倍の高スルー...
メーカー・取り扱い企業: プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
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PR大型アルミナ部品でお困りのお客様へ - その問題、セラミックス複合材料…
半導体製造装置関連の市場拡大に伴い、セラミックスの調達問題が発生しております。特に大型アルミナ部品は供給元が限られ、長納期化により装置開発スケジュールに影響がでております。 セラミックス金属複合材料SA701は、アルミナに比べヤング率や曲げ強度は若干劣りますが、破壊靭性値が高く割れにくい材料であり、ハンドリングが容易です。密度はアルミナの約3/4と軽く、直ネジを加工できるため、金属ブッシュを必要...
メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社
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当社は6インチSiC基板ウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT…
売れ筋商品:6インチGaN-on-Si HEMT RFエピウェーハ、6インチGaN-on-Si HEMT Dmodeパワーエピウェーハ 、6インチGaN-on-Si HEMT Emodeパワーエピウェーハ、6インチSiC基板ウェーハ、SiC基板ウェーハ(直径150mmのn型基板)など 研究開発実験用品に適しています 。コスパに優れています。...6インチGaN-on-Si HEMT RFエピウェ...
メーカー・取り扱い企業: インターケミ株式会社
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太陽電池作製装置(Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置)
高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…
本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。...本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作...
メーカー・取り扱い企業: 北野精機株式会社
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Corning Education kit (Nebula)
【研究機関】大学・研究機関/ラボ用/初めてのフローリアクター Educ…
ラボとフローケミストリーのエキスパートをつなぐCorning Nebula (コーニング ネビュラ)教育用キット Corning AFRテクノロジーをベースにスケールダウンした、教育/デモンストレーション用の自動フローケミストリーシステム。 仕様の異なるバージョンが2つラインナップされております。 タブレット簡単に操作可能 化学研究向け。 二相性(気相/液相、液相/液相)、色の変化、フロ...
メーカー・取り扱い企業: 和光化学株式会社
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有限会社ケニックシステム 東京オフィス