HallinSight 3D ホール効果 磁場カメラ

PRHallinSightのベクトル式磁場イメージング技術によって、「3D…

HallinSightは、Flaunhofer IIS（フラウンホーファー集積回路研究所）によって開発され、以下の特長があります。 ・見えなかったものを見えるようにする 3軸磁場カメラです。 ・動的な磁場をリアルタイムでマッピングできます。 ・X,Y,Z 3軸を同時測定するホールセンサ・アレイを用います。 　⇒ 32×32点、16×16点、32×2点の3種類があります。 　⇒ 各々2...

メーカー・取り扱い企業： 大栄無線電機株式会社

【省エネ補助金対象機種】モリブデンワイヤ放電加工機HBシリーズ

PR【省エネ補助金対象機種】高速加工・省エネ・難削材加工に対応したワイヤカ…

【モリブデンワイヤ放電加工機】HBシリーズ ＜＜モリブデンワイヤ放電加工機のメリット＞＞ 1.省電力 2.モリブデン鋼ワイヤ線の繰り返し使用による低コスト化 3.高速加工による作業時間短縮 省エネ補助金で省エネ・低コストを実現できるワイヤーカットへ設備更新しませんか？ ​強度・靭性が高く、耐久性に優れたモリブデン鋼ワイヤ線を使用し、高速加工・難削材加工を可能にしました。 今まで​​放電加工は...

メーカー・取り扱い企業： 大野精工株式会社 機工販売事業部

フレキシブル シンタリングシステム『SIN200+』

次世代パワー半導体モジュールのシンタリング（焼結）接合試作＆量産装置

シンタリングシステム『SIN200+』は、従来ののSn系はんだ材に代わる新しい接合技術で、パワー半導体モジュールのシンタリング(焼結）によるダイアタッチ接合のR&D試作評価から量産までの用途に対応できます。特に、SiCパワー...

メーカー・取り扱い企業： ピンク・ジャパン株式会社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど 幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。 実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多く...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、 基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。 プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。 また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。 弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、 プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。 実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。 多点制御により、より細かな均一性を確保。 手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。 構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな 卓上タイプエッチング・成膜装置です。 設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の 導入をご検討されている方にお勧め。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ） ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけま...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本生産技術研究所

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、 基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。 各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。 【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

鋼板磁気特性テスター　-鋼板試料の二次元磁気特性を測定-

二次元磁気特性を任意波形、自動追従制御で評価　鋼板磁気特性テスター …

■トランスに使用される方向性電磁鋼板などの、 鋼板試料の二次元磁気特性を測定する、テスターSin波状の磁場で単純な 円形に励磁した場合の特性の、測定から磁束密度が任意形状になるように、 磁場を自動追従させた測定が可能 ■ハードウェア（PXI）、ソフトウェア（LabVIEW）共に 汎用製品なので、高度なカスタマイズができる ■独自アルゴリズムにより二次元任意波形への自動追従制御が可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ペリテック 神奈川エンジニアリングセンター、東京営業所、ベトナム事業所

フォトマスク

高度な図形処理技術と最新の装置によるフォトマスク

を作成し、お客様のイメージや構想の実現をサポートします。 【特徴】 ○対応データ：DXF，DWG，GBX，GDS II や画像データBMP，TIFなど ○パターン形状：直線、円、円弧の他SIN波、スパイラル、ランダムなパターン配置などに対応 ○用途：センサー、ディスプレイ、エンコーダー、半導体パッケージなどの精密フォトリソグラフィ ○図形補正：プロセスにマッチした柔軟な図形補正を行...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エクア

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

【特徴】 　・従来技術の真空蒸着法に加え、イオンビームを組み合わせた複合技術 　・低温で低エネルギー照射が可能 　・曲面や立体にも成膜が可能 【主な用途】 　・超硬工具用保護膜（c-BN） 　・食品用バリア膜（アルミ） 　・太陽電池用下地膜（アルミ） 　・光学用フィルタ膜（ZrO₂、AI₂O₃等） ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...装置販売...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

シリコンブロック内部異物検査装置

シリコンブロック内部異物検査装置

ワイヤーソー等でシリコンブロックをスライスする際に、事前にIRB-30にて内部異物箇所を検査し、対応して頂くことによって、ワイヤーソーのダメージ、断線を抑えることが可能です。 ...IRB-30は、赤外線を使用し、シリコンブロックの内部異物(主にSiC, SiNなど)を検査する装置です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本セミラボ株式会社 新横浜本社

Alダメージレス絶縁膜エッチング液

Al、Al合金膜を腐食することなく絶縁膜を良好にエッチングします。 …

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ Al、Al合金を腐食しません。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ ウェットエッチングによるViaやPad形成に使用可能です。 ・Pure Etch 160（ AlダメージレスSiエッチング液）の前処理液としても使用可能です。 キーワード：ウェットエッチング、SiO2、SiN、TEOS、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜...　...

メーカー・取り扱い企業： 林純薬工業株式会社 電子材料部

立体形状への成膜加工

平面モノだけでなく、立体モノへの成膜もできます！ご希望の成膜箇所をお聞…

東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 例えば、ガラス板やフ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

１枚からの成膜が可能　成膜加工（CVD）

低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜や、異形サイズの基板へも、樹脂、フィ…

PE=CVDのSiO2、SiNを中心に成膜の受託加工を行っております。 厚膜の熱酸化膜への対応、小数枚の熱酸化膜へのご要求にも 在庫品で対応できる場合がありますので、お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせ下さい。...【特長】 ○１枚からの成膜が可能です。 ○低温ＣＶＤは、１００℃以下での成膜が可能です。 ○異形サイズの基板への...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社