SIO2 | イプロスものづくり

PR環境配慮型製品の開発にお役立ていただけるプラスチック材料各種をはじめと…

我が国は資源小国であり他国に資源を依存しています。また、人類80億人時代にたった1度の使用で物を廃棄することは資源効率が不十分であると思います。そうした考えのもと、当社ではリサイクル材料を各種開発・販売しております。これらのリサイクル材料等を活用した製品を設計・開発していただくことで、循環型社会の実現やSDGsの達成に貢献することが可能です。【リサイクル材料のご紹介】・エコマー...

メーカー・取り扱い企業：緑川化成工業株式会社本社

簡単大気圧でSiO2コーティング！プラズマコートUL-Colat

弊社にてデモ可能！市場初投入の新技術。大気圧プラズマでＣＶＤ。 …

今まで減圧下で行っていたプラズマCVDによるＳｉＯ２製膜を大気圧下で行えます。厚みは処理条件によりコントロール可能。（速度、液量、距離など）今までの大型CVD装置では対応しきれない少量生産や、細かな条件変更を可能にし、製膜コストを安く抑える事が可能です。操作はタッチパネルでの簡単操作。条件設定を記憶させる事で次回以降も同じ条件で製膜をする事が可能です。プラズマ処理装置を用い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケー・ブラッシュ商会本社

SiO2厚膜形成用プラズマCVD装置

厚膜形成用プラズマCVD装置。高速かつ低ストレス（特許出願中）

● 独自のセルフバイアス法の採用により高速（3000〜5000Å/min）かつ低ストレスの成膜が可能。（特許出願中） ● 室温〜350℃程度の低温成膜が可能。また、プラスチック上への成膜が可能。 ● 反応室に独自の工夫を施しているためパーティクルの発生を抑制。 ● 液体ソースのTEOSを用いるLS-CVD法によりステップカバレージと埋め込み効果に優れた成膜が可能。 ...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

小規模生産・開発用常圧CVD(APCVD)装置 (D501)

試作・開発・小ロット生産向け　NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

D501は、少量生産/テストや不定形基板へのシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、バッチ式(複数枚同時処理)の常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・異形状・サイズ基板の同時処理　・高い成膜速度　・シンプルメンテナンス　・省フットプリント　・低CoO(低ランニングコスト) 【用途】　・層間絶縁膜(NSG/PSG/BPSG) 　・拡散/インプラ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板成膜装置です。【特徴】　・低温(150～300℃)成膜　・4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上の成膜　・シンプルメンテナンス　・低CoO(低ランニングコスト) 　・高品質なSiO2膜の形成: 低ストレス、プラズマダメージレス、小パーティクル　・導入・維...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

2サイズ兼用自動レジストコーター・デベロッパー（塗布・現像）

段取り替え不要、2サイズのウエハ兼用装置です。低粘度～高粘度レジス…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■最大200mm...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマCVD装置

パワーデバイス、LED、MEMS等の量産で多数の実績がある装置です。

膜質の制御範囲が非常に広く、様々なお客様の求める膜質に対応します。また、化合物ウエハや特殊ウエハなど、従来の装置では問題があった安定した自動搬送を実現し、歩留まり向上に貢献します。当社では、お客様のご要望を出来るだけ装置に反映するため、装置毎のカスタマイズを積極的に行います。社内にデモ機を常設していますので、お気軽にご相談ください。...当社の装置は1回の処理で複数枚のウエハに成膜を実施する、バッ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本生産技術研究所

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。低粘度～高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

研究開発用スパッタリング装置

高水準な仕様と豊富なオプションで様々な成膜用途に適した研究開発用スパッ…

特長 ■クリーンなサイドスパッタ方式を採用 ■ロードロック式タイプ、バッチ式タイプの2機種をご用意 ■タッチパネルで簡単な操作・成膜条件管理、メンテナンスも容易な装置コンセプト ■設置スペースを取らないコンパクトな装置 ■お客様のご要望・用途に応える豊富なオプション ■低温・高温スパッタにも対応 ■広範囲に分布が良いスパッタ源を標準搭載（±5%以内（SiO2でφ170mm以内）） ...

メーカー・取り扱い企業：芝浦メカトロニクス株式会社

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可能です。各種薄膜形成、シード層形成（過マンガン酸・無電解めっきからの置換）などの用途に適しています。【特長】 ○精密有機パッケージ基板に最適 ○高い生産性 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サーマプレシジョン

【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置

◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWN…

◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール ◉ 急速昇温：RT→1100℃/約3分間 ◉ 高精度温度流量制御・再現性に優れたハイパフォーマンス機...◆特徴◆ ・簡単操作! 5inchタッチパネルによる操作・レシピ管理・最大30レシピ，30stepのプログラム作成可能・専用ソフトウエア標準装備，CSVファイルで出力PCでデータロギング・USBケーブル接続，PC...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

モリブデンの酸化防止・耐食コーティング　『SIBOR』

SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。（プランゼ…

大気中では基材側で硬い拡散層が形成されると共に、大気との反応により表面に形成される SiO2層が部材における酸化の進行を防止しています。 SIBORコーティングを施したモリブデン部材は、モリブデン固有の耐熱性と耐食性に高温での耐酸化性能が付与されている為、ガラス炉における理想的な部材です。...SIBORコーティングは1600度まで酸化を防止します。大気中では基材側で硬い拡散層が形...

メーカー・取り扱い企業：プランゼージャパン株式会社

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに！シリカコート

金属に高純度シリカガラスをコーティング！酸化が抑えられ耐食性が向上！金…

チャンバーなどの半導体製造装置部材のコーティングに実績が多数ある『シリカコート Quartzace』では、基材は金属、樹脂、ゴム、生体など、様々な基材に対応でき、基材の特長を活かしたまま、表面のみシリカガラスの特性が得られます。例えば、金属にコーティングすれば、塩酸ガスなどに対してシリカガラスの優れた耐食性が得られます。また、高温での金属の酸化も防ぐことが可能。金属表面が合成石...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コンタミネーション・コントロール・サービス

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

プラズマＣＶＤ法は、膜としたい元素を含むガスを、プラズマにより励起や分解をさせて、基板表面で吸着、反応等を経て膜を形成する方法です。プラズマを用いるため熱ＣＶＤに比べて低温での製膜が可能です。また、イオンプレーティング法、真空蒸着法、スパッタリング法と比べて凹凸への付きまわりがよいのも特徴です。弊社では、イオンプレーティング法、真空蒸着法に加え、プラズマＣＶＤ法によるコ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

自動塗布・露光・現像一貫プロセス装置（フルオートリソグラフィ）

レジスト塗布～露光～現像処理を一気通貫。自動で処理可能な装置です。フォ…

当製品は、スピンコーティング、一括等倍露光、現像処理を自動で行う装置です。HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載可能。設計から製造・販売まで自社で行い、コーター、アライナ、デベロッパのフォトリソ装置をラインナップしている当社だからこそ実現出来た装置です。対応レジストは、ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、など、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

Guangdong Well Nanotech社は、1998年に設立され、6つの生産拠点を持つ中国のコロイダルシリカサプライヤーのリーディングカンパニーです。同社の高品質なコロイダルシリカとCMPスラリーは、精密鋳造、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS...

メーカー・取り扱い企業：株式会社パイロテック・ジャパン

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

AMAX1000Sは、「AMAX」シリーズの実績をもとに、太陽電池(セル)製造用に開発された連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・156mm角/125mm角ウェハ対応　・1500枚/hの高生産性　・太陽電池用薄型ウェハ対応【用途】　・拡散/インプラ用ハードマスク, 犠牲膜(NSG) 　・パッシベーション膜(保護膜・絶縁膜)(NSG) 　・固相拡散用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

セラミックス製構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

浸透Ｖプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。セラミックスの特性を活かし、半導体、FPD、電子部品をはじめとした製造／検査装置の部品から超精密測定器具など、様々な分野で高い評価を得ています。お客様の用途や課題に合わせ、材質選定からご提案いたします。【特...

メーカー・取り扱い企業：新東Vセラックス株式会社

MAX400℃！高温ベーク対応レジスト塗布装置（スピンコーター）

BARCやその他薬液をスピン塗布後、MAX400℃でベーク可能！高温ベ…

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、高温ベーク（MAX400℃）、低温ベーク（MAX200℃）、クーリング機能を搭載。低温ベークと高温ベークの組み合わせでステップベークも可能です。レジスト以外での薬品でもスピン塗布後に高温ベーク可能！その他、ポジレジスト・ネガレジスト、ポリイミド（PI）、シリコーン、SOG、WAXなどなど多数の薬液に実績ございます！シリコン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以…

「プラズマ加工装置」は、光化合物半導体のプラズマ・エッチング・成膜装置です。研究・開発から量産とシーンに適したシステムの提供が可能。また、光電子デバイス製造に必要な幅広い材料を扱うように設計されています。ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。【用　　　途】 VCSEL、LED、μLED、Micro Lens、Wave Guide 【エッチング】サファイア、...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システ…

『Plasma POD シリーズ』は、小型でコンパクトな卓上タイプエッチング・成膜装置です。設置スペースに限りがあり、低コストでエッチング・成膜装置の導入をご検討されている方にお勧め。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■装置最大サイズ 80cmx80cmx80cm(高さ） ■タッチパネルで簡単操作 ※英語版カタログをダウンロードいただけま...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

高レートイオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の高い成膜を実現します。ターゲット面全体を高効率で利用するため、貴重・...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

『SERIO』は、Si深掘り、石英の垂直加工、有機膜のエッチングなど幅広い用途に対応する高密度プラズマエッチング装置です。実績豊富なICPプラズマ電極を搭載し、平滑なエッチング面と高い加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、ナノインプリントモールドの作成に適しています。平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノインプリントモールドに必要な多く...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

Mipox ウェハ端面研磨装置

Mipox WaferEdgePolisherはSIウエハメーカー、再…

テープ・エッジ・ポリッシャーのメリット・ウェーハへのダメージが少ない・ウェーハエッジ上の膜(例：SiO2)の除去が可能・ケミカルフリー加工・ユーティリティーの接続が簡単・様々なエッジ形状の成形が可能・粗削りも細かい研磨も可能・トップエッジ研磨が可能・SiCやGaNなどの難削材料も研磨可能・ノッチ、オリフラにも対応可能...STD(NME)タイプ 6,8,12イ...

メーカー・取り扱い企業：兼松ＰＷＳ株式会社

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いるマンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。 ...【特徴・主なアプリケーション】 • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：表面改質...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ：最大4インチプレカーサー材料：５系統方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラインとのシステムの統合が可能で、またSEMI S2/S8認定により、当システムが業界の最も厳しい規格と互換性があることが保証されています。 Morpher ALDシステムは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

『SPR-014-B』は、基板側にバイアスを印加しながらスパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式バイアススパッタリング装置です。ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた良好な絶縁膜形成ができます。【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMP...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所

「ナノピンセット」リーフレット

マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な微小ピンセットのリーフレットで…

マイクロ・ナノサイズの試料の把持が可能な微小ピンセット「ナノピンセット」をご紹介するリーフレットです。ナノピンセットとは、MEMS（Micro Electro Mechanical System）技術を用いてシリコンウェハを微細加工して作製されたピンセットです。専用コントローラを用いて電圧を印加することによって、ピンセット先端が滑らかに開閉動作し、ナノ～ミクロンサイズの物体の把持が可能です。先...

メーカー・取り扱い企業：アオイ電子株式会社

耐熱ガラス繊維『シリグラス』

1000℃の高温にも、長時間連続使用が可能！耐熱ガラス繊維

『シリグラス』は、SiO2が96%以上の高珪酸ガラス繊維、及びその製品の総称です。 1000℃以上の高温でも長時間の連続使用に耐えることができます。この熱的耐久性や化学的安定性、電気絶縁性などの特性により、各分野で幅広く利用されています。クロス、テープ、スリーブ、ロープ、ヤーンなど、各種用途に合わせて取り揃えておりますので、ご希望によりお選びください。【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業：日本無機株式会社

プラズマCVD装置

● トレーカセット方式を採用。　 1. 搬送時間短縮により高スループットを実現。　 2. トレー変更によりφ2インチ〜φ8インチのウエハーに対応可能。 ● 真空カセット室を採用。　 1. 1カセット1回の真空排気により高スループットを実現。　 2. コンタミネーションの影響回避やウエハー表面の酸化を防止。 ● 納入実績の豊富なPD...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

原子層堆積装置「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

割れない！削らない！低コストな『スパッタリングターゲット』

酸化被膜防止を目的としたプレスパッタリングが必要なく工数削減が可能！熱…

当社は特殊な製法により割れを低減させたSiターゲットを供給しております。現状、割れが多く発生すると言われているSiターゲットですが、弊社の特殊製法により割れを低減させることが可能です。その他の各種金属材料や酸化物、合金ターゲットなどお客様のご要望により製造・販売しております。バッキングプレートを支給して頂き、新たなターゲット材にボンディング加工も致します。関係会...

メーカー・取り扱い企業： USTRON株式会社

scia Cube 300/450/750

基板バイアス機構！当社のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置をご…

『scia Cube 300/450/750』は、300×300mm、450×450mm、 750×750mm基板対応のマイクロウエーブPECVD/エッチング装置です。プロセスは、マイクロウエーブPECVD、反応性イオンエッチング(RIE)となっております。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■300×300mm、450×450mm、750×750...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

装置製作事例

真空装置の設計・製造ならお任せください！

弊社が手がけた装置製作事例をご紹介です。...【事例】 ◆スパッタ装置　ジョセフン素子作成装置（アルミ・ニオブ）、タブテープ作成用ロールコータ　（酸化クロム・銅）、プラスチック部品メタライズ装置、　ワイヤー成膜要スパッタ装置、レーザービームスパッタ装置、　実験用スパッタ装置（金・白金・チタン・SiO2） ◆蒸着装置　ドアミラー蒸着装置、シールド膜蒸着装置、有機ＥＬ実験用...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...PD-220NLは、納入実績の豊富なプラズマCVD装置『PD-220シリーズ』での経験をもとに開発したロードロック...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

ドライエッチング装置 RIE-10NR（平行平板型RIE装置）

数百台の実績を誇る汎用性に優れたドライエッチング装置。

● 高い選択比と高精度のエッチングが可能。 ● PLCコントロールによる自動運転およびプロセスパラメータの保存が可能。 ● 試料はφ8インチまで対応可能。 ● 高速排気エッチングが可能。 ● コンパクト設計...RIE-10NRは、Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたリアクティブイオンエッチング装置です。本装...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

自動フォトレジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！小口径～大口径まで、どのウェハサイズの装置…

【特長】 ■低価格を実現 ■低～高粘度（1.7cP～10000cP）まで対応 ■2～12インチまで対応 ■複数サイズウエハを処理可能（例、3・4・5インチ兼用、8・12インチ兼用) ■ウエハサイズ自動認識システム ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減（省スペース化） ■レジスト削減で多数のオプション ■生産量に合わせたラインアップ【ASAPのコーター・デベロッパ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

角基板対応自動レジスト塗布・現像装置（コーター・デベロッパー）

低粘度～高粘度レジスト対応！どのウェハサイズの装置も作製可能です！

当製品は、スピンコーティング、HMDS処理、ベーク、クーリング機能を搭載。設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました！ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。 GaAs...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ