資料『次世代半導体の今を説く～SiC・GaN解説～』【進呈中！】

PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに！

エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく！ ...

メーカー・取り扱い企業： ジェルグループ【株式会社ジェルシステム／株式会社ナカ アンド カンパニー】

解説資料 開発元監修『見積段階から機械動作を可視化する3D構想』

PR複雑する装置仕様を見える化！受注率UPと手戻り削減に貢献する3DCAD…

機械設計向け3次元CAD「iCAD SX」の開発元が監修しました。 複雑化する装置仕様の摺合せが難しい理由や問題点を洗い出し、 "装置仕様（動き）の可視化"について解説した資料を無料進呈中です。 　【資料概要】 　　■製造業を取り巻く環境と、装置の複雑化 　　■仕様説明時における取組と課題、目指す姿 　　■打ち合わせ初期から一連の動作フローを可視化する効果 　　※ 本ページのPDFダウンロード...

メーカー・取り扱い企業： i CAD株式会社 - 機械設計向け3DCAD（3次元CAD）開発元 -

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

GaN成膜装置治具用ドライ洗浄装置「MDC8540L」

【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業…

ズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メープル

ME-5000　枚葉式スピンエッチャー　

ウエハ300mm、両面処理対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーで…

『ME-5000』は、シリコンウエハ300mm/８.6.4インチ、８.6.4インチSiC及びGaNウエハ対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーです。 エッチングチャンバーの上下可動方式で２本のアームによる動きは旋回、上下運動が可能です。 洗浄部カバー内に気流を作り、薬液は酸系...

メーカー・取り扱い企業： マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター

カスケードポンプ『FKF型シリーズ』

小型で軽量、装置組込も容易なFKF型シリーズをご紹介！

【仕様】 ■口径：20×20mm～32×32mm ■吐出量：5L/min～86L/min ■全揚程：10m～50m ■軸封方式：メカニカルシール方式（セラミック×カーボン、SiC×SiC） ■モーター極数：4P（1450min-1/50Hz　1750min-1/60Hz) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社丸八ポンプ製作所

高田工業所社製試作用枚葉式ウェット処理装置『TWPmシリーズ』

リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う試作研究用…

■基本仕様 ・材質：Si , 化合物 ( GaAs , InP , Sapphire , SiC , GaN ) 等 ・サイズ： 2, 3, 4, 5, 6, 8インチ（２サイズ兼用可） ・洗浄チャンバー数：1 ・スクラブ処理：高圧ジェット／ 2 流体ジェット／超音波シャワー等 ・処...

メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室

ターボ式脱気装置　DeO（ディオ）ターボ

現在お使いの超音波洗浄機を、改造なしに大幅パワーアップ！

今ご使用の超音波洗浄器に満足されていない方に。 この装置を既存の洗浄器へ接続するだけで、洗浄力を飛躍的に向上させ、かつ、今ご使用の超音波洗浄器を2階級特進させます。 DeOターボは最強の吸い込み性能を備えたスーパー渦流タービンポンプにより、真空タンクに負圧を発生させて洗浄液を脱気（液中に溶け込んだ空気を取り除く）する装置です。 高価な真空洗浄器への大きな投資は不要です。脱気効果で、既存の超音...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ニクニ 本社、本社営業部、大阪営業所、名古屋営業所、福岡営業所

シリコンウェーハ バッチ式自動洗浄装置

ニーズに合わせた好適なカスタム装置を提供！プロセス最適化に向けた設計が…

【装置仕様(抜粋)】 ■ウェーハサイズ：φ200mm・φ300mm ■ウェーハ材質：シリコン(SiCなどの化合物半導体は、別途仕様打合せ必要) ■処理槽及び構成：ライン構成により別途仕様打合せ ■HEPA又はULPA：数量は構成により決定 ■薬液：O3・HF・NCW・KOH・NH4OH・H...

メーカー・取り扱い企業： PHT株式会社

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

レー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、 　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　 ：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

高田工業所社製量産用枚葉式ウェット処理装置『TWPシリーズ』

リフトオフ・レジスト剥離プロセスによるウエハー表面処理を行う量産用枚葉…

■基本仕様 ・材質：Si , 化合物 (GaAs , InP , Sapphire , SiC , GaN) 等 ・サイズ： 2, 3, 4, 5, 6, 8インチ（2サイズ兼用可） ・スクラブ処理：高圧ジェット/2 流体ジェット/超音波シャワー等 ・処理チャンバー数：2, 4チャン...

メーカー・取り扱い企業： JFE商事エレクトロニクス株式会社 プロセスソリューション営業部 実装プロセス営業室

卓上スピン洗浄装置

上位機種と同等の高い洗浄性能が得られます。

手洗い洗浄とは異なり、ばらつきの無いハイレベルな表面品質が得られます。 ■基盤品質Upと洗浄作業費削減の両立を達成 　◎例えば、4台の卓上洗浄機を人工代の安い1人の作業者で運用処理 ■Si、SiC、GaN、サファイア、GaAs、LT等の処理に最適 ■丸形状基板は勿論、Crマスク等の角形状にも対応 　◎Maxサイズ：Φ20mm、6インチ角 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング