• 資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】 製品画像

    資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】

    PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに!

    エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく! ...

    メーカー・取り扱い企業: ジェルグループ【株式会社ジェルシステム/株式会社ナカ アンド カンパニー】

  • 【カタログ進呈!】高性能オシロスコープ PicoScope  製品画像

    【カタログ進呈!】高性能オシロスコープ PicoScope

    PR先端デバイスの開発など、優れた信号解析性能が要求されるアプリケーション…

    高性能オシロスコープPicoScope 6428E-Dは、 既存のPicoScope 6000Eシリーズの性能を拡張したもの。 高エネルギー物理学、LIDAR、VISAR、分光分析、加速器、 および他の高速信号解析に取り組む科学者や研究者にとって理想的なツールです。 【特徴】 ・周波数帯域 3 GHz ・最高サンプリング速度 10 GS/s ・分解能可変8-12ビット ・メモリ4GS ・アナロ...

    メーカー・取り扱い企業: Pico Technology Ltd.

  • 【加工事例】白色干渉顕微鏡による加工面の測定 製品画像

    【加工事例】白色干渉顕微鏡による加工面の測定

    mm単位を超える広い面内測定範囲!多結晶セラミックスとSiC単結晶の測…

    スライス面からポリシング面の測定では、 スライス面Sa 0.8446 μm、ラッピング面Sa 0.2506 μm、ポリシング面 Sa 0.00583 μmという結果となりました。 また、SiC単結晶,SUS316Lのポリシング面の測定では、SiC単結晶 Sa 0.000458 μm、SUS316L Sa 0.000302 μmという結果となりました。 【白色干渉顕微鏡 特長】 ...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新興製作所

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