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資料『次世代半導体の今を説く~SiC・GaN解説~』【進呈中!】
PR次世代半導体SiC・GaNの新情報がここに!
エネルギーの効率的な利用と環境への配慮が今後ますます重要となる中で 従来のシリコン半導体よりも優れた特性を持つ次世代半導体が大きな注目を浴びています。 その中でSiC(シリコンカーバイト)・GaN(窒化ガリウム)の特徴や課題を解説しております。 次世代半導体に触れ、未来の製品開発のヒントとなれば幸いです。ぜひご活用ください。 技術革命の先駆けとなる情報が今すぐあなたの手に。お見逃しなく! ...
メーカー・取り扱い企業: ジェルグループ【株式会社ジェルシステム/株式会社ナカ アンド カンパニー】
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PR大型アルミナ部品でお困りのお客様へ - その問題、セラミックス複合材料…
半導体製造装置関連の市場拡大に伴い、セラミックスの調達問題が発生しております。特に大型アルミナ部品は供給元が限られ、長納期化により装置開発スケジュールに影響がでております。 セラミックス金属複合材料SA701は、アルミナに比べヤング率や曲げ強度は若干劣りますが、破壊靭性値が高く割れにくい材料であり、ハンドリングが容易です。密度はアルミナの約3/4と軽く、直ネジを加工できるため、金属ブッシュを必要...
メーカー・取り扱い企業: 日本ファインセラミックス株式会社
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発熱体温度1000℃〜1650℃。高品質な炭化珪素発熱体
カンタル グローバSD(炭化珪素発熱体:SiC)は600℃〜1600℃(炉内温度)での 使用に適した高品質な抵抗発熱体です。 □■特徴■□ ○既存の炭化珪素発熱体と完全な互換性がある上に、 さらなる長寿命が期待できます。 ○...
メーカー・取り扱い企業: アレイマジャパン株式会社 カンタルカンパニー
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“SrTiO3”や“CaF2”など!製造現場で使用する各種吊り下げ用具…
TECOM株式会社では、『GaN・SiC・結晶類・セラミックス・ガラス類』を 豊富に取り扱っております。 「アルミナセラミックス」をはじめ、「ZrO2」や「石英ガラス」、 「光学用ガラス」など多数ラインアップ。 この他、...
メーカー・取り扱い企業: TECOM株式会社
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SiC、GaNなど半導体技術・製品の提供
当社では、SiCウエハ、GaNウエハ、DLTS測定装置などの 「ワイドギャップ半導体」を取り扱っております。 シリコン半導体を凌ぐポテンシャルを持つ、半導体である ワイドバンドギャップ半導体の製品・サー...
メーカー・取り扱い企業: セラミックフォーラム株式会社
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大面積への成膜加工! ガラス…フィルム…セラミック…金属材…
大面積への成膜加工が可能!もちろん小さなものも(たくさん)搭載できます…
3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など 窒化膜:AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など 炭化膜:SiC、TiC、BC など ※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。 ■最大搭載可能サイズ:800×1000mm ※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。 ■対応可能...
メーカー・取り扱い企業: 東邦化研株式会社
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各種雰囲気に対応できるタクト搬送機構付連続炉
【仕様】 ◆『最高使用温度』:~1500℃ ◆『炉内寸法』 :300W×130H×7500D~ ◆『雰囲気』 :大気、水素、窒素、アルゴン ◆『ヒーター』 :MoSi2、SiC、グラファイト ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社広築 営業部
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クレマー社(ドイツ)より技術導入の電気加熱式ウォーキングビーム炉
仕様】 ◆『最高使用温度』:1800℃ ◆『トレイ寸法』 :W(230-400)×L(230-400)×H90mm ◆『雰囲気』 :大気、N2、Ar、H2100% ◆『ヒーター』 :SiC、MoSi2、Mo、W、C...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社広築 営業部
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幅広い素材の加工が可能です!
セラミックス〕 ■アルミナ(Al2O3) ■ムライト(3Al2O3・2SiO2) ■ジルコニア ( ZrO2 ) ■マシナブルセラミックス(マコール、ホトベール等) ■炭化珪素(SiC) ■チッ化珪素( Si3N4 ) 他 〔ガラス〕 ■石英ガラス ■硬質ガラス ■BK7 ■青板ガラス ■パイレックスガラス 他 〔その他〕 ■岩石 ■開発中素材 ■...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社笹原光学工業所
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一定速度で回転している炉床とドーナツ状の炉体から構成され、挿入口と取り…
【仕様】 ◆『最高使用温度』:1250℃ ◆『炉内寸法』 :W420×H310mm ◆『雰囲気』 :大気 ◆『ヒーター』 :SiC、MoSi2 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社広築 営業部
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