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13件 - メーカー・取り扱い企業
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PR±3500V高圧ソースメータ
・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...
メーカー・取り扱い企業: Semi Next株式会社
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冷却水配管用ワンタッチ継手『タッチコネクターFUJI Vタイプ』
PR外装は全て金属パーツの冷却水配管用ワンタッチ継手。金型交換の際の破損リ…
『タッチコネクターFUJI Vタイプ』は外装は全て金属パーツの 冷却水配管用ワンタッチ継手です。 金型交換の際、ぶつけて割れるなどの破損リスクを軽減します。 パッキンはフッ素ゴム製で耐熱性に優れ、耐食性にも優れています。 また、特殊ロックリングは継手内で回転するため、チューブの回し切れの心配もありません。 【特長】 ■外装は全て金属パーツで破損リスクを軽減 ■高耐熱性・高...
メーカー・取り扱い企業: 千代田通商株式会社
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半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…
された実績多。 〇ゲージ圧力レンジ:2.5kPa~21MPa(負圧校正標準) 〇通信:RS232、USB、IEEE-488、SCPIほか(モデルにより異なります) 〇電源:AC90~130V、AC180~260V(47~63Hz) ■圧力インジケータ PACE 1000 生産ラインの圧力計測もこれ一台。最大3つ圧力値を同時表示! ゲージ圧と大気圧を同時表示できる高精度の圧力イ...
メーカー・取り扱い企業: 日本ベーカーヒューズ株式会社&ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社 (旧)GEセンシング&インスペクション・テクノロジーズ株式会社 & GEエナジー・ジャパン株式会社
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コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…
『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
PC自動制御も可能 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板回転/昇降, プラズマエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…
半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:Φ2〜6inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着源複合型 薄膜装置 【nanoPVD-ST15A】
真空蒸着(金属・有機蒸着源)、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」
膜厚分布:トレー内 ±1.2%、トレー間 ±1.5%を達成しました。
40 ○構成 ストッカー + 仕込室 + SP室 インターバック式 ○スパッタ方式 DCマグネトロン ○カソード 5インチ×7インチ 2対(うち1対が高使用効率カソード) ○DC電源 800V、3.75A (MAX1.5kW) ○トレイサイズ L350mm×H210mm ○基板搬送方式 ラック&ピニオン搬送 ○ストッカー 10トレイ収納 ○排気系 ターボ分子ポンプ 2式/油回転ポ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能!研究ステージに合せてグレー…
【仕様】 <FDS-1C-160R Sputtering System> ■スパッタ電源:DC500V/0.8A ■カソード:φ2インチ/マグネトロンカソード ■適用ターゲット:Au/Ag/Pt/Pd/Ni/Cu/W/Cr/Ti/Ta/Mo/etc. ■真空排気系:ロータリーポンプ 162L/...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社FKDファクトリ
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ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能!
【仕様】 ■電源電圧:AC200V 三相3線式 50/60Hz(電源電圧変動:±10%) ■最大電流:250A ■運転可能周囲温度湿度:+5~+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm):3940×1980×...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社愛知真空
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多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース
【主な仕様】 ターゲット直径:2インチ ターゲット厚さ:最大6mm(材料に依存) DC電源:720W(600V, 1.2A) RF電源:300W(13.56MHz) ガス供給:ガスフード経由 冷却:水冷(1L/分)...
メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社
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蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…
できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着(金属/絶縁物/有機材料),EB蒸着, RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ, RIEプラズマエッチング, CVD,アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ:Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…
膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx2 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
成膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ:水晶振動子センサヘッドx4 ・膜厚制御:Inficon社 SQM-160(又はSQC-310) 多チャンネル薄膜コントローラ ・ユーティリティ:電源200V 3相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション:基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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