廃液減容化装置『蒸発・濃縮装置 (電気式小容量)』

PR臭気成分などを熱分解して排気！廃液処理のコスト削減を可能に！

本装置は、電気ヒーターで廃液中の水分を蒸発させて濃縮し、 蒸発時に発生する臭気成分などを熱分解して排気する、廃液減容化装置です。 水溶性切削液、水溶性研削液などの含油廃液の場合は濃縮油を有価物にする事も可能です。 【特徴】 ■廃液処理のコスト削減可能 ■高温、高粘度、スラッジ含有濃縮液の自動排出機構 ■排熱利用の省エネ機構 ■脱臭触媒を標準設置して排気ガスに臭気・煙が出ない ...

メーカー・取り扱い企業： プリテクノジャパン株式会社

429/1216MHz帯 8接点入出力ボード（連続通信）

PR産業用途向けMU-3無線モデムを搭載した連続通信の8接点 入力・出力ボ…

MU3-IN8、MU3-OUT8は特定小電力無線モジュールMU-3（429MHz帯/1216MHz帯）を搭載した8接点入力・出力ボードです。産業用途向けのMU-3にて連続で接点情報を伝送しますので、テレコントロールなどで要求される連続的な接点制御が可能です。入力はフォトカプラ、出力はフォトMOSリレーを搭載し、高いアイソレーションと高容量負荷の接続が可能です。また入出力は端子台になっており簡単に配...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーキットデザイン 営業部

NCヒータ　100V-650Wシリーズ　SUS BASE

半導体乾燥に好適！当社のヒーターをご紹介

当社で取り扱う「100V-650Wシリーズ(NCH型)」についてご紹介いたします。 半導体シリコンウエハの乾燥工程などに代表される 銅の付着による汚染を極力抑えられるように エアーの通り道に銅線などが露出していないことは...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社東洋テクニカル

蛍光Ｘ線式　膜厚測定器　　汎用測定器『 XDLM 237 』

汎用性が高く、電子部品やさまざまな形状のめっき加工品などの膜厚測定や素…

【仕様(抜粋)】 ■電源：AC115VまたはAC230V 50/60Hz ■消費電力：最大120W（PCを除く） ■保護クラス：IP40 ■寸法：幅570x奥760x高650mm ■測定室内の寸法：幅460x奧495x高146m...

メーカー・取り扱い企業： アンリツ株式会社 環境計測カンパニー

UVオゾン洗浄改質装置

卓上式UVオゾン洗浄改質装置です。☐150～350まで各種製作可能

入力電圧　単相200V、オゾン分解触媒装備 ■CUVD25U-03 装置外形：W400×D400×H280 試験台サイズ：ｗ150×ｄ150×ｈ20 装置重量（Kg）20 ランプ搭載本数（本）：3 消費電力：...

メーカー・取り扱い企業： コスモ技研株式会社

直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウェーハ

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような…

1 Deg. 第二OF(mm) : N.A. タイプ：N-type Lifetime(microsec) : 1000 抵抗値(ohm cm) 25°C. : 2032±700,00 RRV [%] : N.A. ＊在庫は複数本ございます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エナテック 東京本社

単結晶GaAsウエハ　GaAsポリ　

中国製GaAs　単結晶GaAsウエハ　高純度GaAsポリ

＜GaAs単結晶＞ 製法：VGF サイズ：Φ2”～Φ4” タイプ：N 結晶方位：（100）、他 Mobility：≧2000cm2/v.s（アンドープ型は、≧4000cm2/v.sなど） 厚み：295μm（ご指定可能...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社同人産業

有限会社ハヤシ精機　事業紹介

マシニング加工、５軸マシニングセンター加工によるアルミ、ステンレス等の…

ニングセンター初めとし た先進の設備と、マシニングセンターを操作するオペレータ ”人”を強みに ハイテク産業分野でのハイクオリティな部品の製造を行っております。 松浦機械のMAM72-35V（五軸制御マシニングセンター）を導入。なお 一層複雑かつ高精度な加工が可能となり、多くのお客様のご要望にお応 えする事が出来ます。 【営業品目】 ■液晶、半導体製造装置部品及びAMHS（...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ハヤシ精機 本社

シリコンウェハー

お客様のご要望に合ったシリコンウェハーを提供いたします！

途にご使用いただける『シリコンウェハー』を取り扱っております。 モニターウェハーはもちろんのこと、各種サイズ、各種厚み、 パーティクルウェハーにも対応可能です。 P型/N型・オリフラ/Vノッチ・結晶方位などお気軽にご相談ください。 【用途】 ■装置の条件出し ■ダイサーやBGのプリカット ■搬送テスト　など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い...

メーカー・取り扱い企業： エムシーオー株式会社

真空UV硬化装置『ＫＮＵＶ－１』

真空環境下でのＵＶ照射により硬化処理効率ＵＰ！ 最大８インチまでのウ…

時） ・リークレート： 10.0 Pa/min 以下 最大排気速度 500L/min ドライポンプを使用 ビルドアップ基準値： 1.0Pa ・ L / sec をチャンバー容積に換算 ・ UV 照射性能 高圧水銀ランプ採用により、短時間高出力 UV 照射を実現 例） 積算光量： 27.5sec 照射で 550mJ/cm2 ・プロセス時間 1 プロセス 60 s 以下 排気スター...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

高速ハンドラー装置　部品移載機『BITA-1,2』

最大25,000UPHの高速移載 高精度/ ダメージレス収納 様々…

しています。 装置寸法 1,200 mm(W) x 1,300 mm(D) x 1,800 mm(H) 装置質量 800 kg 電 源3 相 AC200/220/240/380/400/415V 10 50/60Hz 5kVA エアー源 0.4 MPa 以上 0.8 MPa 以下 カメラ最大 4 系統（粗探索 , 細密探索 , 移載先確認、吸着生成認識）...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

小型プラズマクリーナー『KNPC-1』

12インチリング付きウェハ処理が可能！ 表面改質、無機物/有機物汚染…

(W) x 580 mm(D) x 880 mm(H) 処理エリア Φ 300mm ［標準］ □ 350mm ［選択オプション］ 装置質量 350 kg ポンプ含まず 電 源 単相 AC200V 10 50/60Hz 3.0 kVA エアー源 0.4 MPa 以上 0.6 MPa 以下 操作部 4.3 型 TFT カラー液晶モニター、非常停止、 USB ポート 1 ヶ RF 電源 最...

メーカー・取り扱い企業： KNE株式会社

薄膜材料　スパッタリングターゲット・蒸着材料

スパッタリングターゲット、蒸着材料ともに高純度の製品をお届けします。

ト 　接合用ハンダ材料から拡散する各種元素からセラミックなどの基盤を守ります。 　全ての性能において満足するNi-Ti、コスト重視のNi-Cu、 　相手基盤との相性によってはNi-Cr、Ni-V、Crを選択ください。 ◯薄膜抵抗用ターゲット 　目標の科学組成に制御し、お客様の望む電気抵抗率を設計できます。 ◯金属系磁性膜 　独自の湿式及び精製技術で不純物の極めて少ないターゲットを提...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社タイヘイテクノサービス