• プラスチック溶着工法が変わる『赤外線溶着機シリーズ』 製品画像

    プラスチック溶着工法が変わる『赤外線溶着機シリーズ』

    PR独自の赤外線技術により樹脂溶着部だけを加熱!3D形状もダメージなく完全…

    赤外線の非接触加熱により、短時間で高い溶着強度と脱落バリなくキレイな仕上がりを実現する溶着技術です。 【特徴】 ■樹脂溶着生産性と信頼度をアップ 非接触で光の当たる所だけを溶融できるので、他に熱影響を与えずヒーター樹脂付着もなし ■ワーク内部へのダメージを与えない マスキングにより、赤外線光を溶着ラインだけに照射し溶融 樹脂ワークの中にある基板やモーター、樹脂歯車などへの熱影響...

    • ●大型 横型サーボ駆動 赤外線溶着装置.jpg
    • ●中型 縦型サーボ駆動 2連型 赤外線溶着装置 .jpg
    • ●中型 縦型サーボ駆動 汎用型 赤外線溶着装置.jpg
    • ●小型 縦型サーボ駆動 多点型 赤外線溶着装置.jpg
    • 例.jpg

    メーカー・取り扱い企業: コスモシステム株式会社

  • 3500V高圧ソースメータ 製品画像

    3500V高圧ソースメータ

    PR±3500V高圧ソースメータ

    ・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...・±3500V/±120mA/180W ・最高分解能1fA/100uV ・1M ACD ・最大10GΩ測定...

    メーカー・取り扱い企業: Semi Next株式会社

  • ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力 製品画像

    ソフトエッチング装置【nanoETCH】<30W低出力

    <30W(制御精度10mW)低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

    【nanoETCH(ナノエッチ)】Model. ETCH5A <30W(制御精度10mA)低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ョン -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    ーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) x 755(D...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800 製品画像

    低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

    レーザーの温度制御に最適!

    ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。  冷却能力700~900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求さ...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • エッチング装置 製品画像

    エッチング装置

    エッチング装置

    〜巻取 ○ユーティリティー  ・電源 AC200V・220V / 50Hz・60Hz  ・市水、純水、冷却水、スクラバー、熱排気、( スチーム ) ○装置寸法 :16m(L)×2.5m(W)×2.5m(H) ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

  • マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン ES-800M 製品画像

    マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン ES-800M

    マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

    プ(S-50標準装備) エッチング液ノズルヘッダー:上下各3本 エッチング部スプレーノズル:上下各12個 スプレー圧:0.12Mpa(新液時) 水洗槽液量:4.5リットル ヒーター:500W 石英ヒーター×2本 排水用ドレンバルブ :エッチング槽、水洗槽 各1個 安全装置:上蓋2重構造、緊急停止ボタン、液面センサ、液温センサ、漏電ブレーカー付き 本体材質:硬質PVC(耐熱 約50...

    メーカー・取り扱い企業: サンハヤト株式会社

  • プラズマ装置 プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置カタログ 製品画像

    プラズマ装置 プラズマクリーナー プラズマ洗浄装置カタログ

    ドライ洗浄のプラズマ技術で環境を守り、半導体デバイスの生産性を大幅に向…

     プラズマ自動機  プラズマエッチャー  プラズマアッシャー ■PIPI ■PDC210 ■PDC510 ■PDC610 ■YSP600U/YSP2KU ■YSP63FA ■YSP68W/YSP68WL ■YSP650W ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社

  • プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪ 製品画像

    プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました~♪

    有機・無機問わず高いエッチング効果! 1週間~レンタル始めました~♪…

    出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg  ガス系 マスフロコントローラ1系統(2系統はオプション) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • プラズマエッチャー【CPE.S-200A】 製品画像

    プラズマエッチャー【CPE.S-200A】

    有機・無機問わず高いエッチング効果!

    出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg  ガス系 マスフロコントローラ1系統(2系統はオプション) ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社魁半導体

  • 卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』 製品画像

    卓上プラズマエッチング装置『TP-50B』

    独自のスポットプラズマ技術で局所加工が可能な卓上プラズマエッチング装置

    究室で活躍します。 【特長】 ■卓上サイズでコンパクト ■局所的なプラズマ加工が可能(Φ0.5mm~) ■低残渣かつ高速加工を実現(10μm/mim) ■低出力のRF電源(最大出力50W未満) ■試料をステージで移動させた広範囲の加工が可能 ※詳しくはPDFをダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三友製作所 テクノセンタ

  • 小型超高精度エッチング装置 MPE40 製品画像

    小型超高精度エッチング装置 MPE40

    小型超高精度エッチング装置 MPE40

    【工程】投入→エッチング→液切→酸洗→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860mm ・材料開発やテストに最適 ・研究から少量生産に対応 ・PCB・LCD...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • 小型薄板用エッチング装置 FBE40 製品画像

    小型薄板用エッチング装置 FBE40

    小型薄板用エッチング装置 FBE40

    【工程】投入→エアーナイフ→エッチング→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm ・材料開発やテストに最適 ・研究から少量生産に対応 ・PCB・LC...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • 研究開発用エッチング装置 SPE40 製品画像

    研究開発用エッチング装置 SPE40

    研究開発用エッチング装置 SPE40

    【工程】投入→エッチング→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDのエッ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • PECプロセス装置 製品画像

    PECプロセス装置

    シンプル構造で低価格を実現!GaNウェハ低ダメージエッチング装置をご紹…

    -6 ■エッチング方式  ・Photo-Electro Chemical:光電気化学 ■適応ワーク:□10mm小片チップ、φ2~6インチ ■UVA光源:超高圧水銀灯315~400nm 15mW/sm2以上 ■UVC光源:プラズマ光源220~320nm 12mW/sm2以上 ■薬液供給:2ノズルエア圧縮方式エッチング液、リンス液 ■外形寸法:1470(H)×650(W)×750(D)...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社三明 本社、東京支店、大阪支店、神奈川営業所、山形営業所、浜松営業所、名古屋営業所、長野営業所、八戸営業所

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026』

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    MiniLab-026は、シリーズ最小の26L容積チャンバを使用した小型薄膜実験装置です。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。 【主仕様】 ◉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 小型プラズマクリーナー(簡易型枚葉式プラズマクリーナー) 製品画像

    小型プラズマクリーナー(簡易型枚葉式プラズマクリーナー)

    小型プラズマクリーナー(簡易型枚葉式プラズマクリーナー)

    本装置は、平行平板型高周波プラズマを使用した簡易型枚葉式プラズマクリーナーです。 600mm(W)×600mm(D)×750mm(H)(ポンプ除く)の小型プロセス装置です。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社リバティー

  • 板厚はご相談ください!小ロットからも対応可能なエッチング加工 製品画像

    板厚はご相談ください!小ロットからも対応可能なエッチング加工

    小ロットの時は厳しい要求のご相談に対応!エッチング加工

    【その他の当社のエッチング加工の特長】 ■加工限界~最小D寸法:板厚相当(MIN/0.05mm) ■最小W寸法:板厚1/2相当(MIN/0.03mm) ■キャリア(つなぎ)が必要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: クロダ精機株式会社

  • エッチング装置(2) 製品画像

    エッチング装置(2)

    搬送速度は1.5m/min、材料幅は350mmまで対応!薬液温度・圧力…

    【その他の仕様】 ■ユーティリティー:電源(AC200・220V/50・60HZ)、  純水、市水、圧空、冷却水、スクラバー、熱排気、(スチーム) ■寸法:10.0m(L)×3.0m(W)×3.0m(H) ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

  • 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】 製品画像

    蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    d Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室では「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。(*メイン...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 中赤外 広帯域 波長可変ピコ秒レーザー  製品画像

    中赤外 広帯域 波長可変ピコ秒レーザー

    中赤外波長可変レーザーOPPO MIRは 2.8~4.2umの波長範囲…

    〇優れた出力安定性 〇波長可変 〇モードホップフリー掃引 〇回折限界ビーム ■光パラメトリック発振に基づくスーパーコンティニュームレーザーで中赤外広域スペクトルの波長可変レーザーを生成します。 ■高い信頼性と優れた安定性を併せ持ち、リモートセンシングや医療、バイオイメージングなどのアプリケーションで使用されています。 ■特定の高輝度、コヒーレントにより大気汚染の検出、赤外線...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社日本レーザー

  • エッチング装置 高精度エッチングライン 製品画像

    エッチング装置 高精度エッチングライン

    上エッチングは独立圧調でさらに高精度。FPC搬送対応可能。

    列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは独立圧調でさらに高精度 ○FPC搬送対応可能 ○板厚50μmのワークが安定して流せる 【仕様例】 ○装置寸法(L×W×H) 8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ(有効幅) 610mm ○処理液 塩化第二鉄等 ○搬送速度 0.4~3.5m/min ●詳しくはお問い合わせ、もし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • 剥離装置 剥離・アルカリエッチングライン 製品画像

    剥離装置 剥離・アルカリエッチングライン

    高精度なアルカリエッチングが可能な、高精度処理タイプです。

    るレジストの微細片を処理するカス取り機構付 ○ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる ○上エッチングは個別圧調でさらに高精度 【仕様例】 ○装置寸法(L×W×H) 8490 × 3400 × 1300 mm ○基板サイズ(有効幅) 610mm ○処理液 水酸化ナトリウム水溶液 ○搬送速度 0.4~3.5m/min ●詳しくはお問い合...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • バルクエッチング装置『BEM-301』 製品画像

    バルクエッチング装置『BEM-301』

    エッチング量(深さ)とウェーハの材質を指定するだけで何方でも容易に使用…

    エッチングを行うことが可能です。 【仕様】 ■エッチングレート:2μm/H以上 ■平坦度:10%以内 ■エッチング量(深さ)の精度:±5%以内 ■ユーティリティ:O2、N2、HF、DIW、冷却水、AC-100V、AC-200V、酸排気、酸排水 ■外形寸法:1,000W×1,300D×2,000H(mm) ■重量:約300Kg ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社NAS技研

  • エッチング装置 ソフトエッチング・小径穴洗浄ライン 製品画像

    エッチング装置 ソフトエッチング・小径穴洗浄ライン

    理想的なノズル配置により技群の面精度を実現、小径孔も確実に洗浄

    的なノズル配置により技群の面精度を実現 ○直進性の高いスリットで小径孔を洗浄 ○高精度エアーナイフにより孔内の乾燥も実施 ○板厚50μmのワークも搬送可能 【仕様例】 ○装置寸法(L×W×H) 15362 × 3000 × 1400 mm ○基板サイズ(有効幅) 600mm ○処理液 硫酸-過水系 ○搬送速度 0.06~6m/min ●詳しくはお問い合わせ、もし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • 銅表面粗化処理装置 マイクロエッチング装置 製品画像

    銅表面粗化処理装置 マイクロエッチング装置

    板厚50μmのワークを安定して搬送可能、FPC搬送対応も可能です。

    【特徴】 ○板厚50μmのワークを安定して搬送可能 ○高い面精度で均一な表面処理を実現 ○FPC搬送対応も可能 【仕様例】 ○装置寸法(L×W×H) 13625 × 4050 × 1350 mm ○基板サイズ(有効幅) 500mm ○処理液 各薬液メーカー対応 ○搬送速度 1~4m/min ●詳しくはお問い合わせ、もし...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • グラッシーカーボン 加工品で納品もOK・石原ケミカル株式会社 製品画像

    グラッシーカーボン 加工品で納品もOK・石原ケミカル株式会社

    高純度のカーボン素材でパーティクルがなく、気体を透過しません。しかも軽…

    グラッシーカーボンは黒色ガラス状の炭素素材で『樹脂を焼成してからさらに熱処理を加えてカーボン化』した製品です。 耐薬品性や電気伝導性に優れ、黒鉛に比べるとパーティクルが出ず、ガス透過の心配がないので半導体装置用部材に使用されています。 他にも溶融金属が付着しにくい特長もあり、熱処理用部材としてもご使用いただけます。 石原ケミカルではセラミックス加工での実績のもと、高品質の加工品を短納期で...

    メーカー・取り扱い企業: 石原ケミカル株式会社 高機能材料

  • 排ガス処理セット ES-F1 製品画像

    排ガス処理セット ES-F1

    エッチング中に発生するガスや蒸気を除去

    約35L/分 ■排気ダクト長:2m以内 ■防水ファン :過負荷保護回路内蔵(電流カット方式採用) ■寸法・重量:250φ×340mmh 約5kg ■電源 :AC100V 50/60Hz 約2W □その他機能や詳細については、カタログをご覧下さい。 ...

    メーカー・取り扱い企業: サンハヤト株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ョン -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-080』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-080』

    蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

    80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』 製品画像

    低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

    低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適!消費電…

    ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。  冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求さ...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • レーザー装置に最適!ペルチェチラー『ThermoRack401』 製品画像

    レーザー装置に最適!ペルチェチラー『ThermoRack401』

    低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適! 消…

    ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。  冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・低振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求さ...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • 消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack401』 製品画像

    消費電力大幅削減!ペルチェチラー『ThermoRack401』

    低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適!消費電…

    ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。  冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか2か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求さ...

    メーカー・取り扱い企業: エムエス機器株式会社

  • サファイア製部品 Scube(エスキューブ) 製品画像

    サファイア製部品 Scube(エスキューブ)

    広い透過特性、硬い、化学的に安定、熱に強い、熱伝導が良い サファイア製…

    赤外(約5μm))  ・硬い (ビッカース硬度:1750(a面))  ・化学的に安定 (酸・アルカリにほとんど不溶、失透しない)  ・熱に強い (融点:2040℃)  ・熱伝導が良い (42W/mK, 25℃)  といった特長があります。  過酷な環境でも耐える強さと良好な光学特性を併せ持つ材料なため、ガラスやフッ化物の課題を解決する材料の一つです。  近年は約300mmの大型結晶...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社信光社

  • 研究開発用小型エッチング装置 HPE40 製品画像

    研究開発用小型エッチング装置 HPE40

    狭いスペースOK、使い用途に合わせた設定変更可能、短納期を実現した『小…

    【工程】投入→エッチング→液切→水洗1→水洗2→絞り→取出し 【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm 【ノズル揺動】水平揺動 【装置サイズ】W1420×L1950×H1645mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社二宮システム

  • エッチング装置(1) 製品画像

    エッチング装置(1)

    搬送速度は5.0m/min、材料幅は310mmまで対応!金属箔(ALな…

    μm~ ■加工面:片面 及び 両面 ■ユーティリティー:電源(AC200・220V/50・60HZ)、  純水、市水、冷却水、スクラバー、 熱排気、(スチーム) ■寸法:15m(L)×2m(W)× 2.5m(H) ※操作盤・付帯設備は除く ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

  • 【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム 製品画像

    【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    Lockチャンバー ・プラズマエッチングステージ ロードロック室で「RF/DC基板バイアスステージ」による基板表面のプラズマクリーニング、又、同社独自の『ソフトエッチング』技術による<30W 低出力・ダメージレスプラズマエッチングステージも搭載可能。2D(PMMA等のレジスト除去など)、グラフェン剥離、又、テフロン基板などのダメージを受けやすい繊細なエッチングプロセスも可能。(*メイン...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

    4 ・プラズマエッチング:メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□ 製品画像

    □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

    グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

    最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ(標準500℃, Max1000℃) ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

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