• 『熱中症対策用品の総合カタログ』 ※無料進呈 製品画像

    PR全80ページ超!注意喚起標識や黒球付熱中症計から、ファン付作業衣、涼感…

    安全標識・安全用品の製造・販売を手掛ける当社から、取扱製品をまとめた『熱中症予防対策カタログ』を進呈中。 平成31年度STOP!熱中症クールワークキャンペーンに対応した、PRO専用カタログです。 ・WBGT値の把握のための各種黒球付熱中症計 ・作業環境管理として、休憩関連用品 ・作業管理として、水分・塩分補給のバラエティあふれる品揃え及び  頭・身体を守る各種涼感・保冷用品 ・健...(つづきを見る

  • WRJ-2 直線導波管『S002-WB****』 製品画像

    ご指定の長さで製作致します!導波管規格WRJ-2の直線導波管です。

    WRJ-2 直線導波管『型式:S002-WB****』は、マイクロ波を用いた加熱装置、プラズマ装置用のマイクロ波帯伝送路製品です。 JEITA規格(旧EIAJ規格)、IEC規格に対応した導波管をご提供します。 【特徴】 ○導波管規格...(つづきを見る

  • Narrowband Tunnel Diode Det 製品画像

    FEI MICROWAVE製 Narrowband Tunnel Di…

    Narrowband Tunnel Diode Det., 4.4-4.6 GHz, pos. pol., SMAm/BNCf メーカ FEI MICROWAVE 商品名(型番) A9X935 動作周波数 ~6GHz...Narrowband Tunnel Diode Det., 4.4-4.6 GHz, pos. pol., SMAm/BNCf メーカ FEI MICROWAVE 商品...(つづきを見る

  • 膜厚調整トリミング装置 製品画像

    独自に開発したイオンソースを使用し、優れた膜厚均一性を達成します。

    原理:DCベースイオンミリング 特徴: シンプルで頑丈な構造 素早い反応時間(切削量に応じて) 0エッチング可能 DCベースソース(グリッドレス、フィラメントレス)でシンプルなメンテナンス 適用例: SAWフィルターの温度補償層(SiO2)の膜厚調整、LTO,AlN膜等の膜厚調整 AlN, LTO等圧電膜の膜厚、周波数調整 その他導電体、非導電体膜の膜...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300B』 製品画像カタログあり

    高品質のALD膜を作り出す!MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

    『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産や レンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントと いった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、粒子の低濃度、電気性能や光学性能の優位性を 実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置) P-300BV 製品画像カタログあり

    ALD量産向けの標準品!研究開発から生産への移行にはこの型番をご検討く…

    当社PICOSUNが特許取得済みのホットウォール設計と、プリカーサーソースラインの数に対応して各々分離された複数のインレットを組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクル濃度、高い電気的・光学的性能を実現した高品質のALD成膜が可能となっております。 簡単で迅速なメンテナンスのできるアジャイル設計によりシステムのダウンタイム、ひいては保有コストを最小限に抑えることができます。 PICOSU...(つづきを見る

  • MMIC Evaluation Board 製品画像

    最速、最短納期で設計できるMMIC Evaluation Boards…

    MMICを評価するため、X-Microwave社製 MMIC Evaluation Boardsを使用することにより、これまでの評価時間を大幅に短縮できるようになりました。 評価ボードの他に、パッケージデバイス30種類以上の人気モデルをX-MWSystemTMライブラリで利用できるようになりました。 ...CMD社製MMICを評価するため、X-Microwave社製 MMIC Evaluati...(つづきを見る

  • ALD装置(原子層堆積装置)『P-300S』 製品画像カタログあり

    高品質のALD膜を作り出す!IC部品生産のための特別設計された成膜シス…

    『P-300S』は、 マイクロプロセッサ、メモリ、ハードドライブなどの IC部品生産のための特別設計となっており、またプリントヘッド、センサー、 マイクなどのMEMSデバイスの製造にも適した装置です。 当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせる ことにより、優れた生産性、粒子の低濃度、電気性能や光学性能の優位性を 実現した、高品質のALD膜を作り出すことができ...(つづきを見る

7件中1〜7件を表示中

表示件数
45件
  • 1

※このキーワードに関連する製品情報が登録された場合にメールでお知らせします。

分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]