• インバータ、コンバータ、充電器等【総合カタログプレゼント】 製品画像

    PR厳しい品質検査を通った、安心して使える製品ばかり!欲しい製品が見つかる…

    電力変換器のDC-ACサイン波インバータやDCコンバータ、充電器やソーラーコントローラーなど、電源周りの製品は安定した性能にこだわりたいもの。 未来舎『POWERTITE シリーズ』なら、出荷前の品質適正検査等を実施し、安心して使えるよう万全の体制を整えています。 この充実の製品ラインアップが掲載された総合カタログをプレゼント中です! 【掲載製品】 ■DC-ACサイン波インバータ ...(つづきを見る

  • PLAD-221-Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-221-Y PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「A200V」 製品画像カタログあり

    小ロット生産・試作・開発向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成…

    「A200V」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、枚葉式常圧CVD(APCVD)装置です。 密閉型チャンバーでの枚葉式Face down成膜により、限られた設置スペースの中でも、安全で、膜厚・不純物濃度のバラツキが小さく、パーティクルが少ない成膜が可能です。 装置タイプは、2チャンバータイプ・1チャンバータイプから選択可能で、多品種小...(つづきを見る

  • 大面積シート TO シート 原子層堆積装置  (ALD装置) 製品画像

    従来のALDの常識を覆す驚異的なスループットをご提案致します。

    大速度 0.5m/sec (30m/min)でALDの常識を超えた驚異的なス  ループットを達成しました。 ・インラインへの組み込みが可能です。 ・パターン成膜が可能です。 ・圧力が30mbarから大気圧で使用可能なため、従来のALDよりも  ランニングコストが抑えられます。 ・基板サイズに限界がありません。大面積にスケールアップが可能。...(つづきを見る

  • 単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A 製品画像カタログあり

    単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置 DCVD-51A

    ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため  デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー+特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...(つづきを見る

  • MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産 製品画像

    MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

    主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...ドイツのAIXTRON社のMOCVD装置用の排気フィルターシリーズ製品はアメリカ産の高級耐高温ガラス繊維制濾過材(濾過布)と中国産SUS304を構成した製品。 ガラス繊維制...(つづきを見る

  • MOCVD排気濾過用フィルター (AIXTRON装置用)中国産 製品画像

    MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

    主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...ドイツのAIXTRON社のMOCVD装置用の排気フィルターシリーズ製品はアメリカ産の高級耐高温ガラス繊維制濾過材(濾過布)と中国産SUS304を構成した製品。 ガラス繊維制...(つづきを見る

  • 原子層堆積(ALD)デモ成膜/導入サポート 製品画像

    原子層堆積(ALD)プロセス装置の老舗、PICOSUNによるコンサルテ…

    ALD成膜の研究開発は市場にも浸透しつつありますが、問題になるのが、次の二点です。 1)どのように目的とする性能の膜を作ればいいのか? 2)導入後、どのように装置や工程を管理していけばいいのか? そこで、PICOSUNは次のようなサポートサービスをご提案いたします。 1)設計段階でのお悩みには、材料選定やレシピ設定、評価方法につきアドバイスする”PicoDevelopment”。 ...(つづきを見る

  • 原子層堆積(ALD)装置 製品画像

    豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

    コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積:48x48cm 基板サイズ: 最大4インチ プレカーサー材料:5系統 方式:ホットウォール...(つづきを見る

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像カタログあり

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    MiniLab R&D用実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント(成膜源、ステージなど)、制御モジュールを組み込むことにより、カスタマイズ品でありながら無駄の...(つづきを見る

  • 【nanoCVD】卓上型グラフェン/CNT合成装置 製品画像カタログあり

    ◉ 大型製造装置設備を使わず、簡単にグラフェン・CNT(SWNT)合成…

    ・USBケーブル接続,PC側でのレシピ作成→装置へアップロード可能 ・最大試料サイズ:40 x 40mm:銅(ニッケル)箔, SiO2/Si, Al2O3/Si基板,他 ◆Model. nanoCVD-8G(グラフェン用)◆ ・グラフェン生成用,真空プロセス制御 ・ロータリーポンプ標準付属(オプション:TMP, Diffusion or Dry Pump) ・ガス供給3系統(標準...(つづきを見る

  • 【Nanofurnace】BWS-NANO 卓上型熱CVD装置 製品画像カタログあり

    多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装…

    イクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式 反応管内を均一に加熱 ◉ MFC高精度流量制御:精度±1% F.S. ◉ バラトロンゲージ(オプション)による高精度APC圧力制御 ◉ Lab Viewソフトウエア(オプション)によるリモート制御, パラメータ設定 【主仕様】 ◉ Φ2.5inch(標準)Φ4inch x12inch石英反応管内 ◉ 最高使用温度1100℃ ◉ ...(つづきを見る

  • TrueSeal Fitting 製品画像カタログあり

    TrueSeal Fitting

    全てFDA認定品の材質で薬液などに最適。軽量。バリなどの不純物が混入しない構造。 1/4〜1/2サイズ。ボデイ材質はアセタール、ポリプロピレン、Kynar。 O-Ring材質はニトリルゴム、EPDM、Viton。...(つづきを見る

  • 原子層堆積装置(ALD装置) 製品画像

    ピンホールフリーの超バリア膜、銀等の変色防止膜等のアプリケーションに最…

    TFS 500 / ALD 装置は保護膜、機能性膜等の薄膜プロセス用に開発されました。各種アプリケーションに対応した、最適な形状の反応チャンバーを装着することができます。...TFS 500 / ALD 装置は保護膜、機能性膜等の薄膜プロセス用に開発されました。各種アプリケーションに対応した、最適な形状の反応チャンバーを装着することができますので、通常の基板はもとより、粉末、空孔基板、複雑な立体の...(つづきを見る

  • 原子スペクトル検索ツール 無料動画DVDプレゼント 製品画像カタログあり

    AtomSpectraDBViewer 高速便利に検索!新バージョン登…

    ピーディーで軽快な動作でご好評いただいているAtomSpectraDBViewerが待望のバージョンアップ! 原子名の複数価数の範囲指定や複数波長のAND、OR検索、データ行の簡単コピー機能などご要望の多かった機能を大幅追加しました。 機能の詳細は公式サイトを...(つづきを見る

  • 磁性流体 Aシリーズ・Fシリーズ 製品画像カタログあり

    真空用途に最適の磁性流体です。

    磁性流体Aシリーズ・Fシリーズは蒸気圧のきわめて低い溶媒に磁性超微粒子を安定に分散させた磁性流体です。Aシリーズはハイドロカーボン系、Fシリーズはフッ素系溶媒を使用しています。いずれも真空装置の磁性流体シール用として優れた機能を発揮します。 詳しくはカタログをダウンロードしてください。...【特徴】 ・蒸発量が少なくコンタミの原因になりにくい ・高温に強く劣化が少ない ・耐活性ガス性(Fシ...(つづきを見る

  • 乾式除害装置(MAKシリーズ) 製品画像カタログあり

    大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。…

    た、弊社横浜研究所の現地分析により、  フィールドでの排気分析結果に基づいた処理剤設計も可能です。 【低圧損】  圧力損失の少ない処理剤充填方法を採用し、  装置内の圧力損失を0.1KPa以内に制御。  これにより専用排気ブロワーを不要化、ランニングコストを低減します。 【管理性】  剤破過検知器(ブレイクモニター)のサンプリング位置を  自動切換することにより、剤交換時...(つづきを見る

  • 化合物半導体ウエハ用非接触ピンセット 製品画像

    マニュアル操作により化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)を非…

    ◎特徴 1.450℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 2.化合物半導体ウエハ(GaAs,InP,GaP)の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2~4in ウエハ ・Φ2~4inx1/4ウエハ ・Φ2~4inx1/2ウエハ ...(つづきを見る

  • 太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置 「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    結晶太陽電池セル用量産装置を新たにリリースしました

    太陽電池用常圧CVD(APCVD)装置「AMAX1000S」は、太陽電池(セル)製造用に開発されたハイスループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。拡散用ハードマスクやパッシベーション用のSiO2膜、固相拡散源としての、P(リン)をドープしたPSG膜、B(ボロン)をドープしたBSG膜が常圧下で成膜可能です。量産用装置(AMAX1000S)の他、R&D用装置(D501)もラインナップ。お客様の...(つづきを見る

  • CARBOZENハイブリッドPVDシステム 製品画像カタログあり

    製膜スピードUP&高い密着性!導入コストや維持費も低いDLCコーティン…

    『CARBOZEN ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。 リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。 【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア...(つづきを見る

  • JSWアフティのECRプラズマ成膜/ALD/アニール装置 製品画像

    装置の動作デモをご覧いただき、サンプル成膜を実施し、そして評価へと一連…

    体ソースECRプラズマ成膜装置 固体ソースECRプラズマ成膜装置は、低温・低ダメージ・超薄膜形成を実現できることから、100台以上の装置が生産現場で稼働しております。 ■ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)装置 原子層堆積法は、プリカーサーにより供給された分子を原子一層ごとに表面へ吸着、不活性ガスでのパージによる余剰分子除去、反応ガスによる成膜、不活性ガスで...(つづきを見る

  • 半導体材料 ALD/CVD材料 製品画像カタログあり

    高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発

    業界に先駆けて新規ALD/CVD材料の開発に着手してまいりました。その結果、高・強誘電材料、電極材料、配線材料等で多くのオリジナル製品を開発、国内外のお客様より高い評価を得ております。これらは、合成から一貫してクリーンルーム内で作業が行われ、スピーディーな製品設計が可能であると同時に、試作から量産へのスムーズなシフトも実現できる専用工場で生産されております。詳しくはカタログをダウンロード、もしくは...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「A6300S」 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「A6300S」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、2レーンでの連続成膜により、高生産性を確保し、CVDコートSiCトレーの採用によりメタルコンタミ(金属汚染)の低減を実現しています。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装...(つづきを見る

  • アルミ/A5056/複合旋盤加工 製品画像カタログあり

    アルミ/A5056/複合旋盤加工

    【材質】 A5056(アルミ丸棒) 【加工】 複合旋盤加工 ピン製作の案件を承りました。 当社では、このような精密加工部品を【1個~数物】まで対応できます。 アルミの切削加工は、当社にお任せください。 角物、丸物、複雑な形状にも対応できます。 フライス、旋盤、板金、ワイヤー、放電、アルマイトまで 多様な加工技術を有し、あらゆる加工内容にお応えできます。 ...(つづきを見る

  • MOCVD装置 「Doctor T」 製品画像カタログあり

    独自開発のシステムでFeRAM-LSIの大量生産を実現

    MOCVD装置「DoctorT」は、産学協同により世界で初めて製品化に成功しました。特許取得済み独自コンセプトの気化器を搭載し、多様な有機金属化合物の成膜が可能です。今まで困難とされていたCVD法によるPZT(チタン酸ジルコン酸鉛)、SBT(タンタル酸ビスマスストロンチウム)などの強誘電体成膜の問題点を克服し、FeRAM-LSIの大量生産を可能にした画期的な強誘電体薄膜CVD装置です。本製品により...(つづきを見る

  • Nd:YAGレーザパルス蒸着システム 製品画像

    Nd:YAGレーザパルス蒸着システム

    高温超伝導・強誘電体・半導体・FPD等様々な分野に薄膜作製技術は応用されています。 PLD(Pulsed Laser Deposition)法はPVD(物理気相蒸着)法として他の手法では行えない材料、条件化で使用できる特長を持っています。 Nd:YAGレーザは装置コストが廉価であること、金属系ターゲッ...(つづきを見る

  •  半導体製造用黒鉛製品 化合物半導体用 製品画像カタログあり

    PERMA-KOTE(R)製MOCVD用サセプターはLED製造工程で活…

    LEDの製造工程であるMOCVDプロセスにおいては、耐薬品性、防塵性、寸法精度に優れたPERMA-KOTE(R)(SiC被覆)製品が、サセプターとして広く採用されています。 当社は、独自の技術による黒鉛基材加工やSiC膜制御、また高い分析力を活かした技術サポートにより、お客様の要求に応じた最適な製品を提供いたします。 詳しくはお問い合わせ下さい。...特徴 耐熱性に優れている ...(つづきを見る

  • PLAD-150Y PLDシステム 製品画像

    PLAD-150Y PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-261PG PLDシステム 製品画像

    PLAD-261PG PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-271PE PLDシステム 製品画像

    PLAD-271PE PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-250R PLDシステム 製品画像

    PLAD-250R PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-250E PLDシステム 製品画像

    PLAD-250E PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • PLAD-161 PLDシステム 製品画像

    PLAD-161 PLDシステム

    AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。 PVD法による装置は、 * PLD(パルスレーザ蒸着)装置 * マグネトロンスパッタ装置 * EB電子ビーム蒸着装置 * イオンビームア...(つづきを見る

  • B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ IG-10(ICF70)』 製品画像カタログあり

    センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

    広帯域(1.33×10-7Pa)〜(6.65Pa)の高真空領域までを 高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。 ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを 簡単操作で呼び出し、コントロ...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「D501」 製品画像カタログあり

    試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BP…

     「D501」は、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、研究施設・試作/開発ライン向けのバッチ式常圧CVD(APCVD)装置です。  コンパクトな筺体ながら、異なる形状・サイズの基板への成膜が一回の処理ででき、また、量産用装置「A6300S」と同タイプの成膜ヘッドを使用している為、量産装置導入前の試作ラインでの使用や、R&Dに適しています。  その他、目...(つづきを見る

  • 半導体用トランスデューサー 製品画像カタログあり

    半導体用トランスデューサー

    コンパクトなデザイン 防爆指令対応(ATEX Zone2) 保護等級NEMA4(IP67)を備え、ケースサイドから出来る 優れたEMC対応品、優れた温度補正...コンパクトなデザイン 防爆指令対応(ATEX Zone2) 保護等級NEMA4(IP67)を備え、ケースサイドから出来る 優れたEMC対応品、優れた温度補正...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD)「AMAX1000S」 製品画像カタログあり

    量産対応 太陽電池向け NSG(SiO2)/BSG/PSG膜成膜用 連…

     「AMAX1000S」は、結晶系太陽電池(セル)製造用固相拡散ソース膜・ハードマスク/拡散バリア膜・パッシベーション膜(保護膜)等の成膜を目的とした、高スループット連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  拡散層(p+/++層、n+/++層、BSF層、FSF層等)形成において、形状(拡散濃度/深さ)、シート抵抗を容易に制御する事が可能です。また、拡散源として使用した膜をそのまま次の拡散の...(つづきを見る

  • シリコン酸化膜成膜装置(常圧CVD) 「AMAX」シリーズ 製品画像カタログあり

    量産対応 NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 連続式…

     「AMAX」シリーズは、半導体用層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピウェハ用バックシール等の成膜を目的とした、連続式常圧CVD(APCVD)装置です。  8”・12”のウェハにも対応しており、連続式のメリットである量産性を確保しつつ、高品質な成膜が可能です。  その他、目的別に装置ラインナップを揃えており、デモ装置によるサンプル成膜も可能です。詳しくはお問合せください。.....(つづきを見る

  • BHシリーズ【超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1600℃ 製品画像カタログあり

    大学実験室・研究機関のお客様に限定した安価で短納期なヒーター製品を用意…

    3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)4種類のヒーター素線材質(NiCr, Kanthal, Graphite, SiC)に限定して標準化、部品在庫を持つことにより短納期・安価な価格を実現しました。 大学実験室・研究機関に限定した数量限定の製品です。 【特徴】 ● 予...(つづきを見る

  • 細い配管へのフッ素樹脂ライニング 製品画像カタログあり

    大東化成では、8A~25A等の細い配管内面に、フッ素樹脂コーティング及…

    技術の進化と共に増え続ける高精度な技術。そして技術の進化と共に増え続ける課題。 大東化成では、そのような要望に応えられるよう、日々新しい技術を開発しています。...【製品の特長】 ○通常のフッ素樹脂(テフロン)ライニングですが、細い配管が多数付いております。 ○他社で細めのサイズだけを断られたケースも多いと思います。 ○大東化成では、細い配管だけでも施工致します。大東化成では、配管1本でも...(つづきを見る

  • 【即納可能】水冷・ガス導入機 製品画像カタログあり

    真空装置の冷却及びガスの導入ポートに使用する継手付きフランジです。在庫…

    付きフランジです。高真空用としてNW/KF、JIS-VF/VG接続、また、超高真空用としてICFフランジ接続の選択が可能です。真空側、大気側の接続は、以下の組み合わせから自由に選定が可能です。・Swagelok(R)・VCR(R)おす・VCR(R)めす・チューブエンド ...(つづきを見る

  • ソーラーリサーチ研究所の非接触搬送装置:フロートチャックSAC型 製品画像

    オーダメイドの垂直気体噴流方式非接触搬送装置「フロートチャックSAC型…

    ベルヌーイ効果・エゼクタ効果・コアンダー効果を持つベルヌーイチャック「フロートチャックSAC型」の新機構を採用したオーダメイドの「ベルヌーイチャック・非接触搬送装置」製作いたします。 新機構:非接触搬送装置「フロ-トチャックSAC型」には吸引力を生じるエゼクタ効果を高めるためにコアンダー効果を付加させました。 ベルヌーイ効果と併せて高効率、気体消費量の少ない非接触搬送装置です 新方式「気流垂...(つづきを見る

  • R&D/小型実験用横型炉 製品画像カタログあり

    小型ながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉

    小型でありながら、半導体グレ−ドでの各種熱処理プロセスが行える実験炉です。お客様の仕様に合わせ、低温から1400℃の高温処理、また、真空システムとの組合せにより、CVDや真空アニ−ル炉としてもご使用いただけます。 ●ヒータはカンタルA-1からス−パ−カンタルまで、温度仕様により選定可能 ●小型ながら3ゾ−ン制御により、均熱安定性が高い ●各種ガスユニットを用意。様々なプロセスに対応します...(つづきを見る

  • ポイントタイプ液漏れ検知器「リークラーン OD-7」 製品画像カタログあり

    油、有機溶剤検知器にRoHSおよびCE対応のOD-7が加わりました。

    ポイントタイプ液漏れ検知器「リークラーン OD-7」は、多種類の油や有機溶剤に対応する高性能なセンサと組み合わせて使用する機器です。 一般工場・各種プラント・火力、原子力発電所等の機器や、配管からの液漏れを早期に発見し、事故を最小限に防止することができます。 【特徴】 ■検知方法は抵抗変化方式を採用 ■液漏れと断線の警報を各々別の外部接点から出力することが可能 ■対象液体や液漏れ状態...(つづきを見る

  • エキシマレーザパルス蒸着システム 製品画像

    エキシマレーザパルス蒸着システム

    高温超伝導・強誘電体・半導体・FPD等様々な分野に薄膜作製技術は応用されています。 PLD(Pulsed Laser Deposition)法はPVD(物理気相蒸着)法として他の手法では行えない材料、条件化で使用できる特長を持っています。 中でもエキシマレーザはもっとも適したレーザ発振器のひとつであり...(つづきを見る

  • 『SEMICON JAPAN 2018』出展のご案内 製品画像カタログあり

    BeCu合金製 真空配管・チャンバー、極高真空対応ポンプ、ガス分析計な…

    Cu 合金製 真空配管および、チャンバー】 0.2% BeCu 合金で自らのアウトガスを出さない極高真空構造材 →魔法のニップル、BeCu キューブ 【3Bゲージ】 X線限界10-12Pa の測定が可能なイオンゲージ 【超低ガス放出残留ガス分析計 WATMASS - MPH】 10-13Pa 台の XHV ガス分析が可能 →WATMASS - MPH 【NEGポンプ】...(つづきを見る

84件中1〜45件を表示中

表示件数
45件
  • 1
  • 2
分類で絞り込む

分類で絞り込む

[-]

PR